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當前位置:電子發(fā)燒友網(wǎng) > 圖書頻道 > 電子 > 《電子技術(shù)基礎(chǔ)》 > 第5章 半導體存儲器和可編程邏輯器件

第2節(jié) 只讀存儲器(ROM)

 

ROM具有非易失性,一般由專用的裝置寫入。ROM的結(jié)構(gòu)與RAM類似。ROM器件分類:

 

制造工藝

二極管ROM

 
 

雙極型ROM

 
 

MOS型ROM

 

存入方式

固定ROM(又稱掩模ROM)

可編程ROM

一次可編程存儲器PROM

光可擦除可編程存儲器EPROM

電可擦除可編程存儲器E2PROM

               

固定ROM在制造時,生產(chǎn)廠家利用掩模技術(shù)把數(shù)據(jù)寫入存儲器中,一旦ROM制成,其存儲數(shù)據(jù)也就固定不變了。而PROM在出廠時,存儲內(nèi)容全為1(或者全為0),用戶可以根據(jù)自己的需要,利用通用或?qū)S玫木幊唐鳎瑢⒛承﹩挝桓膶憺?(或1)。圖5.11和5.12是一個簡單的PROM結(jié)構(gòu)示意圖,它采用熔斷絲結(jié)構(gòu),譯碼器輸出高電平有效。出廠時熔斷絲是連通的,也就是全部存儲單元為1,如欲使某些單元改寫為0,只要通過編程,并給這些單元充以足夠大的電流將融絲燒斷即可。熔絲燒斷后不能恢復(fù),因此,PROM只能改寫一次。

圖5.11編程前的PROM     

   圖5.12編程后的PROM

EPROM是采用浮柵技術(shù)生產(chǎn)的可編程序存儲器,它的存儲單元多采用N溝道疊柵MOS管(SIMOS),其結(jié)構(gòu)及符號如圖5.13a所示。除控制柵外,還有一個沒有外線的柵極,稱為浮柵。當浮柵上沒有電荷時,給控制柵(接在行選擇線上)加上控制電壓,MOS管導通;而浮柵上帶有負電荷時,則襯底表面感應(yīng)的是正電荷,這使得MOS管的開啟電壓變高(如圖5.13b),如果給控制柵加上同樣的控制電壓,MOS管仍處于截止狀態(tài)。由此可見,SIMOS管可以利用浮柵是否積累有負電荷來存儲二值數(shù)據(jù)。

        

          (a)結(jié)構(gòu)及符號                              (b)浮柵上累積電子與開啟電壓的關(guān)系

圖5.13 疊柵MOS管

在寫入數(shù)據(jù)前,浮柵是不帶電的,要使浮柵帶負電荷,必須在SIMOS管的漏、柵極加上足夠高的電壓(如25V),使漏極及襯底之間的PN結(jié)反向擊穿,產(chǎn)生大量的高能電子。這些電子穿過很薄的氧化絕緣層堆積在浮柵上,從而使浮柵帶有負電荷。當移去外加電壓后,浮柵上的電子由于沒有放電回路,所以能夠長期保存。當用紫外線或X射線照射時,柵極上的電子形成光電流而泄放,從而恢復(fù)寫入前的狀態(tài)。照射一般需要15到20分鐘。為了便于照射擦除,芯片的封裝外殼裝有透明的石英蓋板。EPROM的擦除為一次全部擦除,其數(shù)據(jù)寫入需要通用或?qū)S玫木幊唐鳌?/p>

 也采用浮柵技術(shù)生產(chǎn)的可編程存儲器,其構(gòu)成存儲單元的MOS管的結(jié)構(gòu)如圖5.14所示。它與MOS管的不同之處在于浮柵延長區(qū)與漏區(qū)  之間的交疊之處有一個厚度約為50(埃)的絕緣薄層,當漏極接地,控制柵加上足夠高的電壓時,交疊區(qū)將產(chǎn)生一個很強的電場,在強電場的作用下電子通過絕緣層到達浮柵,使浮柵帶負電荷。這一現(xiàn)象稱為“隧道效應(yīng)”,因此該MOS管也稱為隧道MOS管。相反,當控制柵接地,漏極加一正電壓,則產(chǎn)生與上述相反的過程,即浮柵放電。與SIMOS管相比,隧道MOS管也是利用浮柵是否積累有負電荷來存儲二值數(shù)據(jù)的,不同的是隧道MOS管是用電擦除的,并且擦除的速度要快得多(一般為毫秒數(shù)量級)。

* PROM電擦除的過程就是改寫過程,它是以字為單位進行的。  PROM具有ROM的非易失性,又具備類似RAM的功能,它可以隨時改寫(可重復(fù)擦寫1萬次以上)。目前,大多數(shù)  PROM  芯片內(nèi)部都備有升壓電路。因此,只需提供單電源供電,便可進行讀、擦除/寫操作,這為數(shù)字系統(tǒng)的設(shè)計和在線調(diào)試提供了極大的方便。

                

圖5.14 隧道MOS管剖面結(jié)構(gòu)示意圖            圖5.15 快閃存儲器存儲單元MOS管剖面結(jié)構(gòu)示意圖

快閃存儲器存儲單元的MOS管結(jié)構(gòu)與SIMOS管類似,如圖5.15。不同點:①快閃存儲器存儲單元MOS管的源極  區(qū)大于漏極  區(qū),而SIMOS管MOS管的源極  區(qū)和漏極  區(qū)是對稱的;②浮柵到P型襯底見的氧化絕緣層比SIMOS管的更薄。這樣,可以通過在源極上加一正電壓,使浮柵放電,從而擦除寫入的數(shù)據(jù)。由于快閃存儲器存儲單元MOS管的源極是連在一起的,所以不能象  PROM那樣按字擦除,而是類似EPROM那樣整片擦除或分塊擦除。一般整片擦除只需幾分鐘,不象EPROM那樣需要照射15到20分鐘。

快閃存儲器中數(shù)據(jù)的擦除和寫入是分開進行的,數(shù)據(jù)寫入方式與EPROM相同,需要輸入一個較高的電壓,因此要為芯片提供兩組電源。一個字的寫入時間約為200mS,一般可以擦除/寫入100次以上。

圖5.16給出了一個用ROM實現(xiàn)的十進制數(shù)碼顯示電路,用以說明ROM的一種簡單應(yīng)用。

圖5.16 (a)電路原理圖

圖5.16 (b)ROM的內(nèi)容

圖中8421BCD碼接至ROM的地址輸入線,ROM的七根數(shù)據(jù)線依次接到七段數(shù)碼顯示器的a~g端。這樣,地址單元0000的內(nèi)容對應(yīng)七段數(shù)碼0。1001的內(nèi)容對應(yīng)七段數(shù)碼9,從而實現(xiàn)十進制數(shù)顯示。

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