原理圖的仿真是在完全理想的狀態(tài)下進(jìn)行的，而實(shí)際電路板的制作往往和理論有較大的差距，這就需要我們考慮一些干擾、耦合等外界因素的影響。因此需要在ADS中進(jìn)一步對(duì)版圖仿真。

　　1) 版圖的生成

　　版圖的仿真是采用矩量法直接對(duì)電磁場(chǎng)進(jìn)行計(jì)算，其結(jié)果比在原理圖中仿真要準(zhǔn)確，但是它的計(jì)算比較復(fù)雜，需要較長(zhǎng)的時(shí)間，可作為對(duì)原理圖設(shè)計(jì)的驗(yàn)證。

　?、偈紫纫稍韴D生成版圖，生成版圖前先要把原理圖中用于S參數(shù)仿真的兩個(gè)Term以及接地去掉，不讓他們出現(xiàn)在生成的版圖中。去掉的方法與前面關(guān)掉優(yōu)化控件的相同，都是使用

　　②然后點(diǎn)擊菜單中的Layout -> Generate/Update Layout，彈出一個(gè)設(shè)置窗口(如圖12.22)，直接點(diǎn)OK，又出現(xiàn)一個(gè)窗口(如圖12.23)，再點(diǎn)OK，完成版圖的生成，這時(shí)會(huì)打開一個(gè)顯示版圖的窗口，里面有剛生成的版圖(如圖12.24) 。

　?、郯鎴D生成后先要設(shè)置微帶電路的基本參數(shù)(即原理圖中MSUB里的參數(shù))，點(diǎn)擊版圖窗口菜單中的Momentum -> Substrate -> Update From Schematic從原理圖中獲得這些參數(shù)，點(diǎn)擊Momentum -> Substrate -> Create/Modify可以修改這些參數(shù)。

　?、転榱诉M(jìn)行S參數(shù)仿真，需要在濾波器兩側(cè)添加兩個(gè)端口，點(diǎn)擊工具欄上的Port按鈕，彈出port設(shè)置窗口，點(diǎn)擊OK關(guān)閉該窗口，在濾波器兩邊要加端口的地方分別點(diǎn)擊添加上兩個(gè)port端口。

　　2) 版圖的仿真

　?、冱c(diǎn)擊Momentum -> Simulation -> S-parameter彈出仿真設(shè)置窗口，該窗口右側(cè)的Sweep Type選擇Adaptive，起止頻率設(shè)為與原理圖中相同，采樣點(diǎn)數(shù)限制取10 (因?yàn)榉抡婧苈?，所以點(diǎn)數(shù)不要取得太多)。然后點(diǎn)擊Update按鈕，將設(shè)置填入左側(cè)列表中，點(diǎn)擊Simulate按鈕開始進(jìn)行仿真。仿真過程中會(huì)出現(xiàn)一個(gè)狀態(tài)窗口顯示仿真進(jìn)程。

　?、诜抡孢\(yùn)算要進(jìn)行一段時(shí)間，仿真結(jié)束后將出現(xiàn)數(shù)據(jù)顯示窗口，觀察S11和S21曲線，性能有不同程度的惡化(如圖12.25)，此處S11的值大概為-24dB，S21的值大概為-48dB，基本達(dá)到了指標(biāo)要求。

　?、廴绻鎴D仿真得到的曲線不滿足指標(biāo)要求，那么要重新回到原理圖窗口進(jìn)行優(yōu)化仿真，產(chǎn)生這種情況的原因是微帶線的寬度取值不合適，可以改變優(yōu)化變量的初值，也可根據(jù)曲線與指標(biāo)的差別情況適當(dāng)調(diào)整優(yōu)化目標(biāo)的參數(shù)，重新進(jìn)行優(yōu)化。

　　④在返回原理圖重新優(yōu)化時(shí)，要先使剛才打紅上叉的部件恢復(fù)有效，然后才能進(jìn)行優(yōu)化，之后重復(fù)前面所述的過程，直到版圖仿真的結(jié)果達(dá)到要求為止。

　　3) 版圖的制作

　　版圖的仿真完成后要根據(jù)結(jié)果用Protel軟件或是AutoCAD繪制電路版圖，繪制版圖時(shí)要注意以下幾點(diǎn)。

　?、偎秒娐钒迨瞧胀ǖ碾p層板，上層用來繪制電路，下層整個(gè)作為接地。

　?、谠诶L制版圖時(shí)受加工工藝的限制，尺寸精度到0.01 mm即可，線寬和縫隙寬度要大于0.2mm

　　③考慮到加工電路板時(shí)的側(cè)向腐蝕問題，微帶線的寬度和長(zhǎng)度要適當(dāng)增加。

　?、馨鎴D的大小要符合規(guī)定尺寸，以便于安裝在測(cè)試架上。