中芯國(guó)際已將明導(dǎo)國(guó)際Calibre產(chǎn)品認(rèn)證DFM簽核參考平臺(tái)

前不久，明導(dǎo)國(guó)際宣布中芯國(guó)際已經(jīng)將明導(dǎo)國(guó)際Calibre產(chǎn)品認(rèn)證為其65nm和更小制程的可制造性設(shè)計(jì)（DFM）簽核參考平臺(tái)。參考流程涵蓋了Calibre DFM所能提供的全部組件，包括：用于光刻檢驗(yàn)的Calibre LFD產(chǎn)品；用于平面性（CMP）仿真的Calibre CMPAnalyzer產(chǎn)品；用于關(guān)鍵區(qū)域分析（CAA）和仿真的Calibre YieldAnalyzer產(chǎn)品；以及用于自動(dòng)DFM布線改進(jìn)的帶有SmartFill的Calibre YieldEnhancer產(chǎn)品，其中包括了高度優(yōu)化平面性填充。此外，中芯國(guó)際還將Calibre解決方案應(yīng)用于DFM服務(wù)之中。

“我們正積極將DFM簽核要求添加到65nm及以下的制程當(dāng)中，使其成為各個(gè)級(jí)別的強(qiáng)制規(guī)定，包括全芯片、模塊和IP，”中芯國(guó)際企業(yè)設(shè)計(jì)服務(wù)中心副總裁Max Liu說(shuō)�！爸�所以選擇Calibre，是因?yàn)槲覀儼l(fā)現(xiàn)它是完整、準(zhǔn)確而可靠的DFM平臺(tái)，這將保證中芯國(guó)際參考流程的有效性。例如，Calibre LFD是主要的光刻檢驗(yàn)工具，它的精度足以達(dá)到我們對(duì)于65nm制程的要求。所以，我們?cè)诹鞒讨惺褂玫闹瞥套儎?dòng)分析工具，包括電氣分析，均采用Calibre LFD生成的輪廓圖。同時(shí)，Calibre CMPAnalyzer使得中芯國(guó)際能夠建立并修改我們的CMP模型，在DFM過(guò)程中給予我們更多的靈活性和控制力。另外，Calibre作為在業(yè)界廣泛使用的完整流片后流程平臺(tái)，使我們的客戶能夠輕易將經(jīng)過(guò)Calibre驗(yàn)證的IP集成在他們的設(shè)計(jì)當(dāng)中�！�

“采用DFM已經(jīng)成為晶圓代工和無(wú)晶圓設(shè)計(jì)公司同時(shí)面臨的一項(xiàng)挑戰(zhàn)，”明導(dǎo)國(guó)際副總裁，設(shè)計(jì)至芯片部總經(jīng)理Joseph Sawicki說(shuō)。“Calibre平臺(tái)使得DFM成為我們的客戶現(xiàn)有物理驗(yàn)證流程的無(wú)縫延伸，產(chǎn)品的采用變得更加容易，性能方面的優(yōu)勢(shì)得以顯現(xiàn)，整個(gè)周期時(shí)間也得到了縮短�！�