1）等離子化學(xué)氣相沉積法
?????? 該法主要是采用H2稀釋的硅烷氣體的熱分解，硅烷分解生成硅原子，
沉積在襯底材料上形成非晶硅薄膜。
硅片切割-- 去除損傷層--制絨－擴(kuò)散－刻蝕
－PECVD沉積減反射層 －絲網(wǎng)印刷上下電極
－燒結(jié)形成金屬接觸－分類檢測(cè)－包裝
非晶硅的制備
2010年07月18日 11:23 m.sdkjxy.cn 作者：本站 用戶評(píng)論（0）
關(guān)鍵字：晶硅(22710)
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