如果一次優(yōu)化不能滿足設(shè)計(jì)指標(biāo)要求，根據(jù)情況需要對優(yōu)化目標(biāo)、優(yōu)化變量的取值范圍、優(yōu)化方法及次數(shù)進(jìn)行適當(dāng)?shù)恼{(diào)整，經(jīng)過數(shù)次優(yōu)化后，當(dāng)CurrentEf的值為0，即為優(yōu)化結(jié)束。

　　4)優(yōu)化完成后必須關(guān)掉優(yōu)化控件，才能觀察仿真的曲線。點(diǎn)擊原理圖工具欄中的按鈕，然后點(diǎn)擊優(yōu)化控件OPTIM，則控件上打了紅叉表示已經(jīng)被關(guān)掉。要想使控件重新開啟，只需點(diǎn)擊工具欄中的按鈕，然后點(diǎn)擊要開啟的控件，則控件上的紅叉消失，功能也重新恢復(fù)了。對于原理圖上其他的部件，如果想使其關(guān)閉或開啟，也可以采取同樣的方法。

　　5)點(diǎn)擊工具欄中的Simulate按鈕進(jìn)行仿真，仿真結(jié)束后會出現(xiàn)數(shù)據(jù)顯示窗口。在數(shù)據(jù)顯示窗口觀察濾波器的S11和S21曲線，其結(jié)果與優(yōu)化結(jié)果相同。

　　4.5其他參數(shù)

　　在進(jìn)行原理圖仿真時(shí)，還可以看到濾波器的群時(shí)延以及輸入的電壓駐波比等參數(shù)。雙擊S參數(shù)控件，在其設(shè)置窗口的Parameters選項(xiàng)卡中勾上Group delay選項(xiàng)，就會在仿真時(shí)計(jì)算群時(shí)延。把左側(cè)工具欄設(shè)為Simulation-S_param，并把VSWR控件放置在原理圖中，即可計(jì)算輸入駐波比。

　　要觀察這兩個參數(shù)的曲線，只需在仿真后出現(xiàn)的圖形顯示窗口中添加delay(2,1)及VSWR的曲線即可。當(dāng)優(yōu)化完成后，還可以把S參數(shù)仿真的頻率范圍加大，看看濾波器的寄生通帶出現(xiàn)在什么頻率上。

　　4.6 版圖的生成與仿真

　　原理圖的仿真是在完全理想的狀態(tài)下進(jìn)行的，而實(shí)際電路板的制作往往和理論有較大的差距，這就需要我們考慮一些干擾、耦合等外界因素的影響。因此需要在ADS中進(jìn)一步對版圖仿真。

　　1) 版圖的生成

　　版圖的仿真是采用矩量法直接對電磁場進(jìn)行計(jì)算，其結(jié)果比在原理圖中仿真要準(zhǔn)確，但是它的計(jì)算比較復(fù)雜，需要較長的時(shí)間，可作為對原理圖設(shè)計(jì)的驗(yàn)證。

　?、偈紫纫稍韴D生成版圖，生成版圖前先要把原理圖中用于S參數(shù)仿真的兩個Term以及接地去掉，不讓他們出現(xiàn)在生成的版圖中。去掉的方法與前面關(guān)掉優(yōu)化控件的相同，都是使用按鈕，把這些元件打上紅叉。

　?、谌缓簏c(diǎn)擊菜單中的Layout -> Generate/Update Layout，彈出一個設(shè)置窗口(如圖12.22)，直接點(diǎn)OK，又出現(xiàn)一個窗口(如圖12.23)，再點(diǎn)OK，完成版圖的生成，這時(shí)會打開一個顯示版圖的窗口，里面有剛生成的版圖(如圖12.24) 。

　?、郯鎴D生成后先要設(shè)置微帶電路的基本參數(shù)(即原理圖中MSUB里的參數(shù))，點(diǎn)擊版圖窗口菜單中的Momentum -> Substrate -> Update From Schematic從原理圖中獲得這些參數(shù)，點(diǎn)擊Momentum -> Substrate -> Create/Modify可以修改這些參數(shù)。

　　④為了進(jìn)行S參數(shù)仿真，需要在濾波器兩側(cè)添加兩個端口，點(diǎn)擊工具欄上的Port按鈕，彈出port設(shè)置窗口，點(diǎn)擊OK關(guān)閉該窗口，在濾波器兩邊要加端口的地方分別點(diǎn)擊添加上兩個port端口。

　　2) 版圖的仿真

　?、冱c(diǎn)擊Momentum -> Simulation -> S-parameter彈出仿真設(shè)置窗口，該窗口右側(cè)的Sweep Type選擇Adaptive，起止頻率設(shè)為與原理圖中相同，采樣點(diǎn)數(shù)限制取10 (因?yàn)榉抡婧苈?，所以點(diǎn)數(shù)不要取得太多)。然后點(diǎn)擊Update按鈕，將設(shè)置填入左側(cè)列表中，點(diǎn)擊Simulate按鈕開始進(jìn)行仿真。仿真過程中會出現(xiàn)一個狀態(tài)窗口顯示仿真進(jìn)程。

　　②仿真運(yùn)算要進(jìn)行一段時(shí)間，仿真結(jié)束后將出現(xiàn)數(shù)據(jù)顯示窗口，觀察S11和S21曲線，性能有不同程度的惡化(如圖12.25)，此處S11的值大概為-24dB，S21的值大概為-48dB，基本達(dá)到了指標(biāo)要求。

　?、廴绻鎴D仿真得到的曲線不滿足指標(biāo)要求，那么要重新回到原理圖窗口進(jìn)行優(yōu)化仿真，產(chǎn)生這種情況的原因是微帶線的寬度取值不合適，可以改變優(yōu)化變量的初值，也可根據(jù)曲線與指標(biāo)的差別情況適當(dāng)調(diào)整優(yōu)化目標(biāo)的參數(shù)，重新進(jìn)行優(yōu)化。

　?、茉诜祷卦韴D重新優(yōu)化時(shí)，要先使剛才打紅上叉的部件恢復(fù)有效，然后才能進(jìn)行優(yōu)化，之后重復(fù)前面所述的過程，直到版圖仿真的結(jié)果達(dá)到要求為止。

　　3) 版圖的制作

　　版圖的仿真完成后要根據(jù)結(jié)果用Protel軟件或是AutoCAD繪制電路版圖，繪制版圖時(shí)要注意以下幾點(diǎn)。

　?、偎秒娐钒迨瞧胀ǖ碾p層板，上層用來繪制電路，下層整個作為接地。

　?、谠诶L制版圖時(shí)受加工工藝的限制，尺寸精度到0.01 mm即可，線寬和縫隙寬度要大于0.2mm

　　③考慮到加工電路板時(shí)的側(cè)向腐蝕問題，微帶線的寬度和長度要適當(dāng)增加。

　?、馨鎴D的大小要符合規(guī)定尺寸，以便于安裝在測試架上。