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英飛凌新一代CoolMOS CFD2超結器件

2011年02月14日 09:04 英飛凌 作者:譯名 用戶評論(

  隨著功率密度不斷提高,半橋(例如HID半橋或LLC)和全橋(例如ZVS全橋)等軟開關拓撲成為理想的解決方案。由于改善了功率器件上di/dt和dv/dt的動態(tài)性能,采用這些拓撲可降低系統(tǒng)的開關損耗,提高可靠性。這種情況主要出現(xiàn)在輕載條件下。事實證明,CoolMOS這樣的超結器件可以克服這個問題,由于其內(nèi)部優(yōu)化了反向恢復過程電荷載流子去除功能,并且消除內(nèi)部寄生NPN雙極晶體管的栓鎖問題。通過增強注入載流子的結合率可大幅降低反向恢復電荷,而且增強結合率可降低關斷過程中的反向恢復峰值電流,并使反向恢復電荷大幅降低至約為原來的十分之一。對于優(yōu)化體二極管(圖1)性能在硬開關條件下應用而言,反向恢復波形的形狀和印刷電路板的設計尤其重要。新一代CoolMOS 650V CFD2改進了體二極管反向恢復性能,而且給擊穿電壓留有更大的安全裕量。

  

《電子系統(tǒng)設計》

 

  圖1 CoolMOS高壓功率MOSFET及其內(nèi)部體二極管的橫截面示意圖。

  反向恢復行為

  新一代CoolMOS 650V CFD的反向恢復特性如圖2所示。與標準器件相比,新一代CoolMOS 650V CFD器件具備極低的反向恢復電荷Qrr、極短的反向恢復時間trr和極小的反向恢復電流最大值Irrm。

  

《電子系統(tǒng)設計》

 

  圖2是在di/dt=100A/μs、25°C和Vr=400V等條件下測量的反向恢復波形。相對于標準器件,新一代CFD器件具備極低的Qrr、trr和Irrm。

  與此同時,盡管Qrr、trr和Irrm大幅降低,但這種新器件的波形仍然顯示出軟特性。這種特性十分適用于硬換流,旨在避免電壓過沖和確保器件可靠運行。

  換流耐用性

  

《電子系統(tǒng)設計》

 

  圖3新一代CoolMOS 650V CFD2器件的反向恢復波形。即使在測試儀達到最大功率條件下,這些器件也不會受損。

  圖3的反向恢復測量結果(在di/dt " 2000A/μs的條件下)顯示了CoolMOS(tm) 650V CFD2器件的換流耐用性。

  在這些條件下,無任何器件受損。相對于其他超結器件波動劇烈的波形,這些波形仍然顯示出了軟特性。顯而易見,這對于設計人員而言是一大優(yōu)勢。設計人員可通過優(yōu)化其應用,獲得最大性能,同時不必擔心器件在體二極管進行硬換流時發(fā)生損毀。

  Qrr 和 trr 與溫度關系

  

《電子系統(tǒng)設計》

 

  圖4 310mΩ 650V CFD器件的Qrr 和Trr 與溫度關系。

  對于設計人員而言,了解Qrr和trr與溫度關系至關重要。Qrr和trr值會隨著溫度的升高而增大,這是因為器件中的載流子在高溫下不斷增加。圖4顯示了310mΩ 650V CFD2器件的Qrr和trr值與溫度的這種關系。從圖形可看出Qrr和 trr與溫度成線性關系。

  Qrr 和Trr與通態(tài)電阻關系

  另一個需要注意的重要方面是Qrr和trr與器件的通態(tài)電阻關系,如圖5和圖6所示。圖5和圖6將新一代基于C6技術的650V CFD2器件與英飛凌前代基于C3技術的600V CFD進行對比。

  

《電子系統(tǒng)設計》

 

  圖5 Qrr 與通態(tài)電阻關系,測量條件為25°C 。將80 mΩ、310 mΩ和 660mΩ650V CFD2器件與前代基于C3技術的600V CFD對比。

  顯然,全新的650V CFD2器件相對于前代技術,在動態(tài)特性(Qrr、trr)和最低通態(tài)電阻之間達到更好的平衡。

    本文導航

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