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MEMS光學(xué)器件— MEMS OXC(光交叉互連開關(guān))

光器件/光通信 ? 來源:光器件/光通信 ? 2020-05-09 09:18 ? 次閱讀
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OXC的應(yīng)用領(lǐng)域

光交叉互連開關(guān)(OXC)是一種N×N端口的矩陣光開關(guān),可用于構(gòu)建CDC ROADM(無色、無方向性、無競爭的可重構(gòu)光上/下路復(fù)用器),如圖1所示。

圖1. 基于WSS和OXC的CDC ROADM結(jié)構(gòu)

基于1×N端口光開關(guān)構(gòu)建的OXC

OXC可以通過1×N端口的光開關(guān)來構(gòu)建,如圖2所示,為了構(gòu)建一個N×N端口的OXC模塊,需要2N個1×N端口的光開關(guān),隨著端口數(shù)N的增加,OXC模塊的尺寸和成本急劇增加,因此這種OXC的端口數(shù)通常限于32×32端口。

圖2. 以16個1×8端口光開關(guān)構(gòu)建8×8端口OXC

基于2D MEMS 技術(shù)的OXC

實現(xiàn)OXC的第二種技術(shù)方案是基于MEMS微鏡陣列的Cross-Bar光開關(guān),日本東京大學(xué)的H. Toshiyoshi和H. Fujita于1996年報道了第一個基于MEMS技術(shù)、具有端口擴(kuò)展?jié)摿Φ腃ross-Bar光開關(guān),如圖3所示。所報道的器件只有2個輸入端口和2個輸出端口,光路切換是通過4個MEMS微鏡來實現(xiàn)的,每個微鏡有兩個狀態(tài),平置于基片上讓光束通過(Off狀態(tài))或者直立于基片上以反射光束(On狀態(tài))。

圖3. 第一個基于MEMS扭鏡的Cross-Bar矩陣光開關(guān)

MEMS芯片和單個微鏡的SEM照片,以及扭鏡的結(jié)構(gòu)示意圖,如圖4所示。微鏡以多晶硅梁支撐,當(dāng)電極未加偏置電壓時,微鏡保持平置狀態(tài);加電時在靜電引力的驅(qū)動下,微鏡直立于基片上。

圖4. MEMS扭鏡的SEM照片和結(jié)構(gòu)示意圖

AT&T實驗室的L.Y. Lin等人于1998年報道了第一個基于2D MEMS技術(shù)的矩陣光開關(guān),如圖5所示,為了實現(xiàn)N×N端口光開關(guān),需要一個N×N規(guī)模的微鏡陣列。該器件的所有光路都在一個平面內(nèi),這也是為何它被稱為2D MEMS光開關(guān)。

圖5. 第一個2D MEMS矩陣光開關(guān)結(jié)構(gòu)

光路的切換是通過圖6所示的微鏡來實現(xiàn)的,微鏡被鉸鏈結(jié)構(gòu)連接在基底上,兩個拉桿的一端鏈接微鏡,另一端鏈接一個位移臺,位移臺被一個刮板式微致動器驅(qū)動,把微鏡向前拉。微鏡在被拉動的過程中發(fā)生偏轉(zhuǎn)。

圖6. 微鏡結(jié)構(gòu)示意圖

OMM公司的Li Fan等人于2002年報道了另一種用于矩陣開關(guān)的MEMS微鏡陣列,如圖7所示。

圖7. OMM公司的Li Fan等人報道的2D MEMS微鏡陣列

基于2D MEMS微鏡陣列的矩陣光開關(guān),具有結(jié)構(gòu)簡單和易于封裝的優(yōu)勢,但是其擴(kuò)展性有限。從圖5中可以看到,對不同的端口鏈接關(guān)系,光路長度差別很大,這將會引入耦合損耗和影響損耗均勻性。對光程差異的容差取決于自由空間光學(xué)結(jié)構(gòu)中的光束尺寸,根據(jù)式(1),光斑ω0越小則其越發(fā)散,根據(jù)式(2)得到其準(zhǔn)直距離越短。

兩根單模光纖SMF之間的耦合情況如圖8(a)所示,隨著光纖端面之間的間距增大,耦合損耗劇增,兩根單模光纖之間的間距,通常限于<20μm。為了增加光纖間距以容許放置各種自由空間光學(xué)元件,通常會采用熱擴(kuò)芯(TEC)光纖或者透鏡光纖,分別如圖8(b)和圖8(c)所示。TEC光纖和透鏡光纖都能擴(kuò)大光斑尺寸,以適于自由空間光傳輸。兩根TEC光纖之間的間距可達(dá)~10mm,而兩根透鏡光纖之間的間距可達(dá)~50mm。對于一些需要更長自由空間光路的應(yīng)用領(lǐng)域(比如下文將要提到的3D MEMS光開關(guān)),往往需要準(zhǔn)直透鏡,如圖8(d)所示。

圖8. 光纖之間的耦合方式

因此我們知道,將TEC光纖或者透鏡光纖應(yīng)用于2D MEMS光開關(guān)中,有助于增加自由空間光路長度,以容納更多的MEMS微鏡,實現(xiàn)光開關(guān)端口的擴(kuò)展。然而,允許的最大光斑尺寸受限于微鏡的尺寸,而微鏡尺寸取決于MEMS設(shè)計和工藝。通常要求微鏡直徑Ф>3ω0(ω0為光斑半徑)以反射99%以上的光功率。因此,2D MEMS光開關(guān)的最大端口數(shù)通常限于32×32。

基于3D MEMS 技術(shù)的OXC

為了進(jìn)一步擴(kuò)展OXC的端口數(shù),人們開發(fā)了3D MEMS光開關(guān)。3D MEMS OXC的基本結(jié)構(gòu)如圖9所示,它包括兩個MEMS微鏡陣列和兩個二維光纖準(zhǔn)直器陣列,每個輸入光纖準(zhǔn)直器與第一個MEMS芯片中的一個微鏡對應(yīng),而每個輸出光纖準(zhǔn)直器與第二個MEMS芯片中的一個微鏡對應(yīng),MEMS芯片上的所有微鏡都能兩軸偏轉(zhuǎn),如圖10所示。

圖9. NTT實驗室開發(fā)的3D MEMS OXC的基本結(jié)構(gòu)

圖10. MEMS微鏡陣列和雙軸微鏡的掃描電鏡SEM照片

來自每個輸入端口的光束被第一個MEMS芯片上的一個微鏡獨立控制,通過雙軸偏轉(zhuǎn)指向第二個MEMS芯片上的另一個微鏡(該微鏡對應(yīng)輸出的目標(biāo)端口),第二個微鏡通過雙軸偏轉(zhuǎn),調(diào)整反射光束的方向,指向輸出端口。因此通過兩個MEMS芯片的控制,可以將光信號從任意輸入端口交換至任意輸出端口。該3D MEMS OXC由NTT實驗室于2003年10月報道,樣機(jī)照片如圖11所示。

圖11. NTT實驗室開發(fā)的3D MEMS OXC樣機(jī)照片

貝爾實驗室的V. A. Aksyuk等人于2003年4月報道了另一種3D MEMS OXC,比NTT實驗室的報道時間更早,此處先提到NTT實驗室的工作,因其OXC結(jié)構(gòu)相對簡單且易于分析。貝爾實驗室開發(fā)的OXC結(jié)構(gòu)和樣機(jī)照片分別如圖12和圖13所示,它包括兩個MEMS微鏡陣列、兩個二維光纖陣列和一個傅里葉透鏡,每條輸入—輸出鏈路通過第一個MEMS芯片上的一個微鏡和第二個MEMS芯片上的另一個微鏡構(gòu)建。

圖12. 貝爾實驗室開發(fā)的3D MEMS OXC結(jié)構(gòu)

圖13. 貝爾實驗室開發(fā)的3D MEMS OXC樣機(jī)照片

NTT實驗室的Yuko Kawajiri等人于2012年報道了另一個3D MEMS OXC,如圖14和圖15所示,其中以一個環(huán)形凹面反射鏡代替傅里葉透鏡。采用環(huán)形凹面鏡可減少邊緣端口的離軸像差,以減小插入損耗。

圖14. NTT實驗室開發(fā)的第二種3D MEMS OXC結(jié)構(gòu)

圖15. NTT實驗室開發(fā)的第二種3D MEMS OXC樣機(jī)照片

圖12和圖14中的OXC原理相似,相對于圖9中的OXC結(jié)構(gòu),自由空間光路中的光束尺寸更大,因此可減小損耗。另外,圖9中的OXC結(jié)構(gòu),要求MEMS微鏡具有更大的偏轉(zhuǎn)角度,這會增加MEMS芯片的設(shè)計難度。

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