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EUV光刻機(jī)的價值 芯片廠商造不出7nm以下工藝芯片

jf_f8pIz0xS ? 來源:中國電子網(wǎng) ? 作者:中國電子網(wǎng) ? 2020-07-07 16:25 ? 次閱讀
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作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備,光刻機(jī)一直牽動人心。事實(shí)上,制程工藝越先進(jìn)就要離不開先進(jìn)光刻機(jī)。

光刻是半導(dǎo)體芯片制造中最費(fèi)時間也是最費(fèi)成本的環(huán)節(jié)之一,而且它決定了芯片的工藝水平,常說的XXnm工藝主要是看光刻機(jī)水平,10nm工藝之后難度越來越大,光刻機(jī)也需要升級到EUV級別。

ASML副總裁Anthony Yen日前表態(tài),如果沒有EUV光刻機(jī),那么芯片廠商是造不出7nm以下工藝芯片的。

目前ASML公司是唯一一個能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司,他們做出這樣的表態(tài)其實(shí)也不讓人意外,畢竟這是一臺售價高達(dá)1.2億歐元、約合10億一臺的高端設(shè)備,全球半導(dǎo)體制造廠商都要看ASML的臉色。

臺積電在第一代7nm工藝上沒有使用EUV光刻機(jī),但是7nm之后的工藝就很難避開EUV光刻機(jī)了,理論上可以用多重曝光的方式制造5nm級別的芯片,但是成本、良率都是個問題,無法拒絕EUV光刻機(jī)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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