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中國半導(dǎo)體技術(shù)大會CSTIC 2018整體介紹

求是緣半導(dǎo)體 ? 2017-12-14 16:26 ? 次閱讀
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中國半導(dǎo)體技術(shù)大會CSTIC2018中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會(CSTIC),SEMI、IMEC、IEEE和中國高科技專家組聯(lián)合舉辦的亞洲最大的世界級半導(dǎo)體技術(shù)研討會。自2000年舉行以來,至今已經(jīng)成功舉辦了17屆,會議主要涉及manufacturing processes, devices design, integration, materials, equipment等內(nèi)容,也包括半導(dǎo)體行業(yè)中熱門話題,如memory technology, 3D integration, MEMS等。CSTIC 2018,將于2018年3月11-12號,在上海國際會議中心舉行,與SEMICON CHINA 2018展會同期舉辦。

Distinguished Conference Keynote Speakers

部分特邀演講嘉賓:

Conference Programs:

Symposium I:

Device Engineering and Memory Technology

Symposium II:

Lithography and Patterning

Symposium III:

Dry & Wet Etch and Cleaning

Symposium IV:

Thin Film, Plating and Process Integration

Symposium V:

CMP and Post-Polish Cleaning

Symposium VI:

Metrology, Reliability and Testing

Symposium VII:

Packaging and Assembly

Symposium VIII:

MEMS, Sensors and Emerging Semiconductor Technologies

Symposium IX:

Design and Automation of Circuits and Systems

大會組織:

主辦:

合辦:

出版機構(gòu):

大會時間及地點:

March 11-12, 2018Shanghai International Convention Center上海國際會議中心 中國上海浦東濱江大道2727號No.2727 Riverside Avenue Pudong, Shanghai 200120, China

參會注冊及聯(lián)系方式:

Kelly Zhang, SEMI China

Tel: 86.21.6027.8556Fax: 86.21.6027.8511Email: kzhang@semi.org

參會費用:

2500元人民幣/人


聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴

原文標(biāo)題:中國半導(dǎo)體技術(shù)大會CSTIC 2018|求是緣半導(dǎo)體聯(lián)盟推薦

文章出處:【微信號:gh_0e7bd440f48b,微信公眾號:求是緣半導(dǎo)體】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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