10月17-18日，由NVIDIA主辦的2024 NVIDIA創(chuàng)業(yè)企業(yè)展示——半程展示活動在西交利物浦大學(xué)成功舉辦。來自全國各地的31家杰出企業(yè)受邀參與本次活動，這些企業(yè)在歷經(jīng)9城的展示中脫穎而出，齊聚蘇州，圍繞大語言模型、生成式 AI、數(shù)字孿生、自主機(jī)器與邊緣計算等熱門領(lǐng)域，共同探索科技創(chuàng)新與行業(yè)變革的新路徑。阿丘科技作為受邀企業(yè)之一，亮相活動現(xiàn)場，通過展品與路演，分享了在工業(yè)質(zhì)檢領(lǐng)域的最新技術(shù)創(chuàng)新與實踐成果，并榮獲“卓越企業(yè)”證書。

展位直擊：核心產(chǎn)品展風(fēng)采

活動現(xiàn)場，阿丘科技向參會嘉賓展示了兩款核心產(chǎn)品——工業(yè)AI視覺算法平臺軟件 AIDI 以及深度學(xué)習(xí)智能相機(jī) EVS-SC200。在NVIDIA技術(shù)支持下，這兩款產(chǎn)品充分發(fā)揮了NVIDIA GPU的優(yōu)勢，支持高效能運算，實現(xiàn)流暢的運行體驗。

AIDI是面向工業(yè)視覺場景，基于深度學(xué)習(xí)打造的工業(yè)AI視覺算法平臺軟件，實現(xiàn)算法方案設(shè)計、圖像標(biāo)注、模型訓(xùn)練、模型調(diào)優(yōu)、方案驗證、模型部署的全流程功能，用于解決復(fù)雜缺陷的定位、檢測、分類及字符識別等問題，具有檢測精度高、檢測速度快、樣本依賴少的強大檢測能力。EVS-SC200集AI算法、軟件、硬件于一體，賦能多種工業(yè)應(yīng)用場景，有效解決復(fù)雜OCR、裝配檢查、計數(shù)、外觀檢測、分類等問題。產(chǎn)品無需編程，幫助用戶快速構(gòu)建解決方案，賦能生產(chǎn)及組裝工藝過程管控，助力企業(yè)高良率生產(chǎn)。

路演現(xiàn)場：最新技術(shù)實踐分享

路演環(huán)節(jié)，阿丘科技首席增長官CGO李俊周分享了公司在工業(yè)質(zhì)檢領(lǐng)域的最新技術(shù)突破與實踐成果。針對工業(yè)質(zhì)檢領(lǐng)域面臨的性能指標(biāo)嚴(yán)苛、樣本數(shù)據(jù)少、產(chǎn)品換型快速等挑戰(zhàn)，阿丘科技在以下四個方面，進(jìn)行了深入的技術(shù)創(chuàng)新。

工業(yè)視覺小模型：研發(fā)針對工業(yè)場景的輕量級神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)DefectNet，用少量的缺陷樣本（20-30張）即可完成訓(xùn)練。

良品學(xué)習(xí)：無需缺陷樣本，基于良品圖像建模；對復(fù)雜背景、小尺寸、低對比度缺陷也實現(xiàn)高檢測性能。工業(yè)數(shù)據(jù)生成：針對工業(yè)缺陷收集難題，基于預(yù)訓(xùn)練模型與Stable Diffusion等AIGC技術(shù)，生成缺陷更豐富、更逼真。行業(yè)視覺大模型：基于垂直行業(yè)數(shù)據(jù)訓(xùn)練基礎(chǔ)模型，具備垂類泛化能力，結(jié)合場景數(shù)據(jù)迭代，大大縮短交付成本。

未來，阿丘科技將繼續(xù)深耕工業(yè)AI質(zhì)檢領(lǐng)域，不斷探索新技術(shù)、新方法，為更多行業(yè)提供智能化、高效化的解決方案。

在此過程中，阿丘科技始終走在賦能全球制造業(yè)轉(zhuǎn)型升級的最前沿，近日更推出了產(chǎn)品實戰(zhàn)系列白皮書——《生成式AI如何改變AI缺陷檢測的傳統(tǒng)范式》，詳細(xì)介紹了生成式AI在缺陷檢測領(lǐng)域的應(yīng)用，其如何通過深度學(xué)習(xí)技術(shù)生成高質(zhì)量的缺陷數(shù)據(jù)，以及這一技術(shù)如何幫助制造業(yè)提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。