在晶圓代工市場，臺積電與三星的競爭始終是大家關(guān)心的戲碼。三星雖然有高通等VIP客戶，但在7納米制程節(jié)點，高通預(yù)計會轉(zhuǎn)投臺積電，三星要想受更多客戶的青睞，只能從制程技術(shù)著手了。這也是三星為什么跳過非EUV技術(shù)的7納米制程，直接上7納米LPP EUV制程技術(shù)的原因。如今，三星終于公布了7納米LPP制程已完成新思科技（Synopsys）物理認(rèn)證，意味著7納米EUV制程將可全球量產(chǎn)了。

目前全球前幾大晶圓代工廠商，英特爾10納米制程還沒搞定，距離7納米制程最遙遠(yuǎn)。臺積電7納米制程量產(chǎn)比較順利，會有蘋果、海思、高通、NVIDIA、AMD等客戶陸續(xù)流片、量產(chǎn)。臺積電第一代7納米制程，使用的還是傳統(tǒng)多重曝光技術(shù)，必須到2019年第2代7納米制程才會使用EUV光刻技術(shù)。

格羅方德也走與臺積電相似路線，預(yù)計2018年量產(chǎn)7納米DUV制程還是傳統(tǒng)的深紫外光刻技術(shù)。對此，號稱頻率可達5GHz的AMD 7納米Zen 2處理器會使用格羅方德的7納米制程技術(shù)，2019年初問世，2020年再下一代才是7納米EUV制程技術(shù)。

相對其他競爭對手，三星在EUV技術(shù)最積極。三星直接跳過第一代非EUV光刻7納米制程，直接使用加入EUV技術(shù)的7納米LPP制程，預(yù)定2018下半年正式量產(chǎn)。日前，新思科技與三星已聯(lián)合宣布，三星使用的7納米LPP制程技術(shù)完成IC驗證器的認(rèn)證。

三星完成這次認(rèn)證之后，7納米LPP制程就可立即提供認(rèn)證的技術(shù)資料，包括DRC設(shè)計規(guī)則檢查、LVS布局與原理圖、金屬填充技術(shù)檔等予相關(guān)客戶，意味著三星的7納米LPP制程正式進入量產(chǎn)階段。

目前EUV光刻技術(shù)競爭激烈，各家大廠搶EUV光刻機也成為重要目標(biāo)之一。根據(jù)之前消息，ASML的EUV光刻機，臺積電訂購了約10臺，三星訂購約6臺，英特爾訂購3臺，而格羅方德的EUV訂單數(shù)量不詳，中國中芯國際也訂了1臺EUV光刻機，將用于7納米制程技術(shù)研究，預(yù)計2019年初交貨。各家廠商都有EUV光刻機的情況下，似乎未來7納米節(jié)點要勝出，就必須比較各家的技術(shù)與管理能力了。