引言

光刻機(jī)（Mask Aligner）又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。
光刻機(jī)工藝是由硅片處理、涂膠、前烘、曝光、后烘、顯影、堅(jiān)膜、檢測(cè)。其中光刻機(jī)的檢測(cè)尤為重要光刻膠在顯影后在烘烤硬化堅(jiān)膜。對(duì)刻蝕和離子注入工藝非常關(guān)鍵。正膠的堅(jiān)膜烘培溫度約為120℃到140℃。溫度太高會(huì)產(chǎn)生光刻膠流動(dòng)。因此溫度對(duì)于光刻的成品率起著重要的決定性因素

在一些半導(dǎo)體封裝設(shè)備生產(chǎn)時(shí)，需要使用熱臺(tái)對(duì)封裝材料進(jìn)行加熱，使光學(xué)系統(tǒng)工作環(huán)境溫度發(fā)生變化。導(dǎo)致像面位置漂移、成像質(zhì)量變差，進(jìn)而對(duì)封裝設(shè)備定位、識(shí)別精度造成影響。使得產(chǎn)品合格率低、電氣特性差。因此溫度對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備起著重要的決定性因素。智測(cè)電子推出了:半導(dǎo)體生產(chǎn)涂膠機(jī)高精度測(cè)溫儀。針對(duì)溫度做了專(zhuān)門(mén)溫度檢測(cè)。

光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度測(cè)溫儀，小型輕巧，可手持，攜帶方便，所有通道都可實(shí)現(xiàn)10ms的高速采集，差分輸入。同時(shí)，其靈活通用的接線端子可接入各種類(lèi)型的信號(hào)電纜，連接和拆卸既快速又簡(jiǎn)單。

智測(cè)電子1611A系列多通道測(cè)溫采集儀，滿足《JJF1527-2015聚合酶鏈反應(yīng)分析儀校準(zhǔn)規(guī)范》。按連接傳感器的不同，可分為鉑電阻、熱敏電阻和熱電偶三種測(cè)溫采集儀。所有通道都可實(shí)現(xiàn)10ms的高速采集，差分輸入。同時(shí)，其靈活通用的接線端子可接入各種類(lèi)型的信號(hào)電纜，連接和拆卸既快速又簡(jiǎn)單。采集儀小型輕巧，可手持，方便攜帶。

除了沿用1611A系列上的多通道測(cè)溫技術(shù)使得1611A測(cè)量準(zhǔn)確度可達(dá)0.5℃之外，它還采用了更新的控制器，在滿足不同通道選擇的控制。并且能對(duì)電源電壓進(jìn)行補(bǔ)償，使采集儀運(yùn)行時(shí)更穩(wěn)定，不受外界電源波動(dòng)的干擾。?

新的1611A的系列測(cè)溫采集儀體積更小，更加便于攜帶到現(xiàn)場(chǎng)使用，其溫度控制的速度更快，功能更多。此外1611A還提供了專(zhuān)用智能連接件，內(nèi)置存儲(chǔ)芯片可保存測(cè)量數(shù)據(jù)。

審核編輯 黃昊宇