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WCMP是電子束檢測(cè)應(yīng)用最重要的一層，這一層的功能主要體現(xiàn)在：可以使工程師遇到器件的漏電和接觸不良問(wèn)題。EBI的應(yīng)用可以幫助提升成品率，減少半導(dǎo)體ict技術(shù)開(kāi)發(fā)的周期，并縮短提高成品率所需的時(shí)間。

過(guò)往這些時(shí)日，因?yàn)樽珜懰^《量子材料》科普，Ising 早就到了文思枯萎之態(tài)：文風(fēng)缺乏變化、行文難有曲折、主題多為老調(diào)重彈。

在新能源汽車市場(chǎng)快速發(fā)展的背景下，車載功率半導(dǎo)體需求量激增，其中，碳化硅功率器件憑借更低的能量損耗、更小的封裝尺寸、更高的開(kāi)關(guān)頻率、更強(qiáng)的耐高溫及散熱能力等優(yōu)于傳統(tǒng)硅基器件的先進(jìn)特性，越來(lái)越多地在新能源汽車中得到應(yīng)用，尤其是在高效率OBC(車載充電機(jī))和HV-LV DC-DC變換器中迅速推廣。

一提到低功耗、大電流、超高速的半導(dǎo)體器件，很多電子愛(ài)好者和電子工程師首先想到的是肖特基二極管。但你真的知道怎么使用肖特基二極管嗎？與其他二極管相比，肖特基二極管有什么特別的地方？這篇文章我將會(huì)為大家解決這些問(wèn)題，并且詳細(xì)介紹肖特基二極管。

在半導(dǎo)體前端工藝第三篇中，我們了解了如何制作“餅干模具”。本期，我們就來(lái)講講如何采用這個(gè)“餅干模具”印出我們想要的“餅干”。這一步驟的重點(diǎn)，在于如何移除不需要的材料，即“刻蝕（Etching）工藝”。

如今，我們已經(jīng)無(wú)法想象沒(méi)有電的生活了。我們生活的各個(gè)方面越來(lái)越依賴于電力。而在電力的生產(chǎn)、分發(fā)和使用過(guò)程中，功率轉(zhuǎn)換起著至關(guān)重要的作用。

采用砂漿多線切割工藝加工6英寸（1英寸=25.4 mm）N型碳化硅晶體，研究了此工藝中鋼線張力、 線速度、進(jìn)給速度等切割參數(shù)對(duì)晶片切割表面的影響。通過(guò)優(yōu)化切割工藝參數(shù)，最終得到高平坦度、低翹曲度、 低線痕深度的6英寸N型碳化硅晶片。

Zemax的STAR模塊能夠?qū)EA數(shù)據(jù)包的熱和結(jié)構(gòu)變形數(shù)據(jù)直接導(dǎo)入到Zemax中，以分析對(duì)光學(xué)系統(tǒng)性能的影響。

“Di”=兩個(gè)，“Ode”=電極，即具有兩個(gè)電極的器件或組件，即陽(yáng)極“+”（P）和陰極“-”（N）。

SPARC沉積技術(shù)可滿足新興需求，為邏輯和DRAM器件提供有效隔離 作者：泛林集團(tuán)公司副總裁兼電介質(zhì)原子層沉積產(chǎn)品總經(jīng)理Aaron Fellis 提升集成電路中的介電層性能可以在現(xiàn)在和未來(lái)的存儲(chǔ)器和邏輯電路發(fā)展中產(chǎn)生巨大的戰(zhàn)略影響。 想象一下，在一個(gè)擠滿人的大房間里，每個(gè)人都有一條您需要的重要信息。他們都很樂(lè)意告訴您他們的信息，但問(wèn)題是，他們都在同一時(shí)間說(shuō)話。房間里的人越密集，就越難將想要關(guān)注的信息與周圍的雜音區(qū)分開(kāi)。 ? 這就是“串