三星痛下決心,自研極紫外光(EUV)光阻劑
7月4日，日本正式對出口南韓的氟聚酰亞胺、光阻劑及高純度氟化氫進行管制，8月南韓也可能從白名單國家除名。三星電子不想讓半導體先進制程受日本材料箝制，近日傳出與國內(nèi)材料業(yè)者，共同投入極紫外光(EUV)光阻劑研發(fā)！
三星光阻劑的3大主要廠商，包括東京應化工業(yè)、信越化學工業(yè)。日本政府對韓國實施出口管制后，3大廠商均停止了供貨。
三星預計今年底發(fā)表的7納米芯片，恐受到拖累而延后，而三星明年要推出的旗艦機也會受波及，甚至沖擊三星企圖挑戰(zhàn)臺積電龍頭地位，在2023年將先進晶圓代工市占從不到10%沖上25%可能有變數(shù)。
半導體分析師Mark Li認為，尋找光阻劑替代供應商難度很高，就算找到新供應來源，所有制程和設計須重新測試，至少得花1年時間才能運作。這也許是三星痛下決心，自研光光阻劑的原因。
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原文標題：三星自研EUV光刻膠！
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