（文章來源：科技小狂人009）

隨著時代的不斷變化發(fā)展，眾多以科技為背景的產(chǎn)業(yè)由此崛起，在改變了人們傳統(tǒng)生活方式的同時，也對國家和社會的發(fā)展起到了積極的促進(jìn)作用。當(dāng)然，得益于我國在科技研發(fā)領(lǐng)域的巨額投入，如今中國科技也已經(jīng)躋身到了世界一線前沿，其中表現(xiàn)最為明顯的無非就是在智能手機領(lǐng)域。

縱觀目前全球智能手機市場，國產(chǎn)手機陣營基本實現(xiàn)了全球覆蓋，可即便如此，智能手機的核心組成部件-芯片卻是我國最大的短板。由于芯片技術(shù)的短缺，使得我國科技企業(yè)長期以來需要依靠海外進(jìn)口，這樣一來不但沒有議價權(quán)，同時還會面臨著卡脖子的境遇，而中興和華為事件的發(fā)生不就正好說明了問題所在。

實際上，從現(xiàn)階段來看，包括華為在內(nèi)的中國科技企業(yè)都已經(jīng)突破了芯片設(shè)計的技術(shù)瓶頸，但是芯片制造環(huán)節(jié)依舊是最大的短板，其中，制造芯片的光刻機也成為了重中之重。不過有礙于光刻機巨頭-荷蘭ASML的政策限制，使得國內(nèi)高科技技術(shù)企業(yè)無法購買ASML的高端光刻機，因此對于我國而言，掌握光刻機技術(shù)也變得迫在眉睫。

目前光刻機領(lǐng)域的平均水平在14nm工藝范疇，最先進(jìn)的則是7nm工藝掌握在荷蘭ASML手中，其他國家所涉及的光刻機技術(shù)還有9nm工藝，主要掌握在日本和德國手里。所以，在我國龐大的電子產(chǎn)業(yè)群之下，沒有先進(jìn)光刻機的支持，必然會約束到我國電子產(chǎn)業(yè)的轉(zhuǎn)型與升級。所以在意識到光刻機的重要性之后，我國也開始大加大了對光刻機研發(fā)的投入。

目前，包括中芯國際和華虹集團都已經(jīng)實現(xiàn)量產(chǎn)28nm和90nm工藝的水平，與9nm和7nm依舊有著很大的差距。不過在近日，中國芯片再傳捷報，國產(chǎn)光刻機拐彎超車，攻克9nm技術(shù)難關(guān)！根據(jù)相關(guān)媒體的報道，由我國武漢光電國家研究中心的甘棕松團隊，成功研發(fā)出9nm工藝光刻機。

此次研發(fā)成功的9nm光刻機技術(shù)與西方不同是，國產(chǎn)光刻機利用了二束激光在自研的光刻機上突破了光束衍射極限的限制，刻出了最小9nm線寬的線段，這是我們獨有的技術(shù)，我們也將擁有自主產(chǎn)權(quán)。不過，現(xiàn)階段9nm光刻機技術(shù)還僅限于試驗階段，但是作為國人的我們有理由相信，在不久的將來，國產(chǎn)光刻機必然會走出實驗室，實現(xiàn)芯片量產(chǎn)。

同時，國產(chǎn)光刻機在技術(shù)上的突破在我國芯片發(fā)展史上也有著重要意義，畢竟這也代表著我國科技企業(yè)在未來可以減少對海外芯片的依賴，從而提高我國在電子產(chǎn)業(yè)中地位。讓中國芯片走向更大的世界舞臺。
（責(zé)任編輯：fqj）