日B视频 亚洲,啪啪啪网站一区二区,91色情精品久久,日日噜狠狠色综合久,超碰人妻少妇97在线,999青青视频,亚洲一区二卡,让本一区二区视频,日韩网站推荐

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

南大光電將建成光刻膠生產(chǎn)線,明年或光刻機進場

汽車玩家 ? 來源:集微網(wǎng) ? 作者:小如 ? 2019-12-16 13:58 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

據(jù)北侖新聞網(wǎng)報道,位于芯港小鎮(zhèn)的南大光電材料公司,將于2020年2月迎來光刻機進場。

今年7月17日,南大光電在互動平臺透露,公司設立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進“ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項目”落地實施。目前該項目完成的研發(fā)技術正在等待驗收中,預計2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線,項目產(chǎn)業(yè)化基地建設順利。

10月23日,南大光電發(fā)布公告稱,目前公司“193nm 光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目”順利推進。為適應國家集成電路創(chuàng)新發(fā)展,公司將加大對先進光刻膠材料以及配套原材料的建設。據(jù)悉,南大光電當日與寧波經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)管委會簽署了《投資協(xié)議書》。南大光電擬在寧波經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)投資開發(fā)高端集成電路制造用各種先進光刻膠材料以及配套原材料和底部抗反射層等高純配套材料,形成規(guī)?;a(chǎn)能力,建立配套完整的國產(chǎn)光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈。項目計劃總投資6億元,項目完全達產(chǎn)后,預計實現(xiàn)約10億元的年銷售額,年利稅預計約2億元。

2017年8月,中國(寧波)芯港小鎮(zhèn)正式啟動,芯港小鎮(zhèn)主要聚焦發(fā)展以集成電路產(chǎn)業(yè)為代表的新一代信息技術產(chǎn)業(yè),據(jù)悉,芯港小鎮(zhèn)目前已有中芯寧波等24個項目落戶,總投資超130億元,涵蓋了芯片制造、關鍵材料、設備、設計等四大類別。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 集成電路
    +關注

    關注

    5465

    文章

    12695

    瀏覽量

    375862
  • 光刻機
    +關注

    關注

    31

    文章

    1201

    瀏覽量

    49042
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    中國打造自己的EUV光刻膠標準!

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)芯片,一直被譽為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設備光刻機就是 雕刻這個結晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠,還需要光刻膠、掩膜版以及
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?7138次閱讀

    臺階儀在集成電路制造中的應用:高端光刻膠材料純化研究進展

    隨著集成電路制程節(jié)點不斷向納米尺度邁進,光刻技術已從紫外全譜(g、i)發(fā)展到深紫外(KrF、ArF)乃至極紫外(EUV)光源。光刻膠作為光刻
    的頭像 發(fā)表于 03-20 18:05 ?177次閱讀
    臺階儀在集成電路制造中的應用:高端<b class='flag-5'>光刻膠</b>材料純化研究進展

    光刻膠剝離工藝

    光刻膠剝離工藝是半導體制造和微納加工中的關鍵步驟,其核心目標是高效、精準地去除光刻膠而不損傷基底材料已形成的結構。以下是該工藝的主要類型及實施要點:濕法剝離技術有機溶劑溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的頭像 發(fā)表于 09-17 11:01 ?2515次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝

    光刻膠旋涂的重要性及厚度監(jiān)測方法

    在芯片制造領域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié),而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測薄膜厚度測量儀AF系列憑借高精度、高速度的特點,為光刻膠厚度監(jiān)測提供了可靠
    的頭像 發(fā)表于 08-22 17:52 ?2045次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>旋涂的重要性及厚度監(jiān)測方法

    國產(chǎn)百噸級KrF光刻膠樹脂產(chǎn)正式投產(chǎn)

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 近日,八億時空宣布其KrF光刻膠萬噸級半導體制程高自動化研發(fā)/量產(chǎn)雙產(chǎn)順利建成,標志著我國在中高端光刻膠領域的自主化進程邁出關鍵一步。 ? 此次
    的頭像 發(fā)表于 08-10 03:26 ?1w次閱讀

    國產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動

    量產(chǎn)到ArF浸沒式驗證,從樹脂國產(chǎn)化到EUV原料突破,一場靜默卻浩蕩的技術突圍戰(zhàn)已進入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A以120nm分辨率和
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?7597次閱讀

    行業(yè)案例|膜厚儀應用測量之光刻膠厚度測量

    光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種關鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射輻射下,溶解度會發(fā)生變化,主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。由于
    的頭像 發(fā)表于 07-11 15:53 ?733次閱讀
    行業(yè)案例|膜厚儀應用測量之<b class='flag-5'>光刻膠</b>厚度測量

    針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?1325次閱讀
    針對晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精準測量對確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:56 ?1096次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來的成本、環(huán)保等問題備受關注。同時,光刻圖形的精準
    的頭像 發(fā)表于 06-17 10:01 ?974次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應用及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對金屬層產(chǎn)生過度刻蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量也是確保制造質量的關鍵。本文聚焦金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應用,并
    的頭像 發(fā)表于 06-16 09:31 ?1000次閱讀
    金屬低刻蝕的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其應用及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導體制造領域,光刻膠剝離工藝是關鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質量至關重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?1087次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠產(chǎn)業(yè)國內發(fā)展現(xiàn)狀

    ,是指通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照輻射,溶解度會發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料,是光刻工藝中的關鍵材料。 從芯片生產(chǎn)的工藝流程上來說,光刻膠的應用處于芯片設計、制造、
    的頭像 發(fā)表于 06-04 13:22 ?1863次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時,精準測量光刻圖形對把控工藝質量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?1565次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

    出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機對電子束質量的要求。 只有對聚焦電極改進才是最佳選擇,以下介紹該進后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心達到縮束的目的,使電子束分布在一條直線
    發(fā)表于 05-07 06:03
    常宁市| 彰武县| 封丘县| 辽源市| 武平县| 珠海市| 盐边县| 荆门市| 新化县| 伊宁市| 旌德县| 桐城市| 新巴尔虎左旗| 手游| 峨山| 成安县| 扬中市| 尖扎县| 辉南县| 霍山县| 麦盖提县| 涟源市| 隆回县| 镇坪县| 堆龙德庆县| 西青区| 扎鲁特旗| 岫岩| 亚东县| 蓝山县| 楚雄市| 确山县| 五台县| 朝阳区| 平果县| 榆社县| 柯坪县| 阳城县| 达日县| 扎鲁特旗| 延津县|