據(jù)了解，光刻機(jī)分為接觸式、接近式、步進(jìn)式。目前國(guó)內(nèi)使用較多的為步進(jìn)式光刻機(jī)。光刻機(jī)是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)，世界上只有少數(shù)廠家掌握，如 ASML、尼康、佳能。因此光刻機(jī)價(jià)格昂貴。

福建安芯半導(dǎo)體是福建泉州芯谷南安分園區(qū)引進(jìn)的首家高科技半導(dǎo)體設(shè)備公司,主要經(jīng)營(yíng)黃光設(shè)備設(shè)備翻新、改造和安裝調(diào)試，自主研發(fā)新黃光和蝕刻設(shè)備的銷售及技術(shù)支持，并提供半導(dǎo)體整線解決方案，產(chǎn)品涉獵集成電路、LED、MEMS、顯示面板、光伏等黃光設(shè)備領(lǐng)域。除了向客戶提供半導(dǎo)體生產(chǎn)線設(shè)備總體解決方案的同時(shí)，也向客戶提供先進(jìn)半導(dǎo)體器件的設(shè)計(jì)、制造等技術(shù)咨詢。福建安芯半導(dǎo)體總經(jīng)理張琪表示，目前我們尚不能完全自主研發(fā)，但通過改造、提升，實(shí)現(xiàn)了 60%至 70%的國(guó)產(chǎn)化。

除了光刻機(jī)，半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)中還需要各種其他設(shè)備，刻蝕設(shè)備就是不可或缺的一項(xiàng)。最近有報(bào)道顯示，國(guó)內(nèi)的中微半導(dǎo)體設(shè)備公司已經(jīng)能夠生產(chǎn)高端刻蝕設(shè)備，其5nm刻蝕機(jī)已經(jīng)批量生產(chǎn)，用于臺(tái)積電的5nm生產(chǎn)線中。

據(jù)官網(wǎng)介紹，中微半導(dǎo)體是一家以中國(guó)為基地、面向全球的微觀加工高端設(shè)備公司，為集成電路和泛半導(dǎo)體行業(yè)提供極具競(jìng)爭(zhēng)力的高端設(shè)備和高質(zhì)量的服務(wù)。中微開發(fā)的等離子體刻蝕設(shè)備和化學(xué)薄膜設(shè)備是制造各種微觀器件的關(guān)鍵設(shè)備，可加工微米級(jí)和納米級(jí)的各種器件。

根據(jù)該公司年報(bào)，中微公司開發(fā)的高端刻蝕設(shè)備已運(yùn)用在國(guó)際知名客戶65納米到7納米的芯片生產(chǎn)線上。同時(shí)，公司根據(jù)先進(jìn)集成電路廠商的需求，已開發(fā)出5納米刻蝕設(shè)備用于若干關(guān)鍵步驟的加工，并已獲得行業(yè)領(lǐng)先客戶的批量訂單。雖然中微沒有明說，但業(yè)界猜測(cè)這家客戶就是臺(tái)積電，因?yàn)橹挥信_(tái)積電量產(chǎn)了5nm工藝。

據(jù)了解，中微半導(dǎo)體目前正在配合客戶需求，開發(fā)新一代刻蝕設(shè)備和包括更先進(jìn)大馬士革在內(nèi)的刻蝕工藝，能夠涵蓋5納米以下刻蝕需求和更多不同關(guān)鍵應(yīng)用的設(shè)備。
（責(zé)任編輯：fqj）