集成電路是信息社會的根基，其制造技術(shù)代表著當(dāng)今世界微細(xì)制造的最高水平。對極大規(guī)模集成電路行業(yè)而言，高純度含氟電子氣體是必需的清洗和蝕刻氣體，在芯片制作過程中能夠保障極大規(guī)模集成電路的生成，確保電路有效發(fā)揮作用。

隨著極大規(guī)模集成電路技術(shù)的提升，芯片制程向14納米甚至7納米邁進(jìn)，對電子氣體的純度要求越來越高。

國務(wù)院國資委網(wǎng)站8月14日消息，由中國化工黎明化工研究設(shè)計(jì)院（下稱：黎明院）承擔(dān)的國家科技重大專項(xiàng)“極大規(guī)模集成電路制造裝備與成套工藝”子項(xiàng)目“高純四氟化碳和六氟化硫研發(fā)與中試”日前通過國家重大專項(xiàng)項(xiàng)目組的測試與評審，標(biāo)志著我國極大規(guī)模集成電路行業(yè)所需高純度含氟電子氣體實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化。

據(jù)介紹，黎明院于2013年開始“高純四氟化碳和六氟化硫研發(fā)與中試”的課題研究，借助國家科技重大專項(xiàng)平臺，潛心攻關(guān)，在多項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)上取得突破

。其中高純度四氟化碳和六氟化硫制備過程中微量雜質(zhì)的純化、分析等技術(shù)難題得以攻克，制備出的產(chǎn)品純度達(dá)99.999％，推廣使用后取得了良好的市場效果。

此外，該項(xiàng)目在知識產(chǎn)權(quán)指標(biāo)、人才建設(shè)、產(chǎn)業(yè)化指標(biāo)和經(jīng)費(fèi)使用等多個(gè)維度也達(dá)到立項(xiàng)要求。黎明院也由此進(jìn)一步加快了科技創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)化發(fā)展步伐，成功實(shí)現(xiàn)由工業(yè)級向高純級、多品種等高性能、高附加值產(chǎn)品的轉(zhuǎn)型升級和結(jié)構(gòu)調(diào)整。

目前，黎明院高純四氟化碳和六氟化硫的年產(chǎn)能可達(dá)2000噸，價(jià)格與進(jìn)口同類產(chǎn)品相當(dāng)，但性價(jià)比高，可完全實(shí)現(xiàn)對進(jìn)口產(chǎn)品的替代。