1、光刻機行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈分析：在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中占據(jù)重要地位

光刻機又名：掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備，光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。

光刻機產(chǎn)業(yè)的上游主要包括光刻機核心組件和光刻機配套設(shè)施，下游則主要應(yīng)用于半導(dǎo)體/集成電路的制造與封裝。

2、產(chǎn)業(yè)政策：政策助力光刻機行業(yè)發(fā)展

從政策環(huán)境上來看，我國對于光刻機行業(yè)較為重視。其主要表現(xiàn)在對于整個IC產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的政策優(yōu)待以及對于半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的相關(guān)規(guī)劃與推動。其主要表現(xiàn)在資金方面的補助和人才方面的培養(yǎng)，以及進(jìn)出口，投融資方面的政策扶持。

在各項政策中較為突出的是《極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝》項目（02專項），其以專項的形式組織了一批國內(nèi)光刻機企業(yè)進(jìn)行了一系列重點工藝和技術(shù)的攻關(guān)，有效促進(jìn)了我國光刻機行業(yè)的發(fā)展。

3、光刻機技術(shù)發(fā)展分析：技術(shù)仍在不斷進(jìn)步中

光刻機一般可以分為無掩模光刻機和有掩模光刻機，其具體分類如下：

光刻工藝流程較多，占晶圓制造耗時的40%-50%，光刻技術(shù)也在不斷的發(fā)展，自光刻機面世以來，光刻設(shè)備已經(jīng)進(jìn)行了四次重大的革新，光刻設(shè)備所用的光源，也從最初的g-line，i-line歷經(jīng)KrF、ArF發(fā)展到了如今的EUV。目前，EUV光刻機設(shè)備被ASML完全壟斷，ASML的EUV光刻機市占率達(dá)到100%。

4、光刻機行業(yè)市場競爭格局分析：CR3超過90%

目前，全球光刻機市場的主要企業(yè)即ASML，尼康（Nikon）和佳能（Canon）三家，從光刻機銷售額來看，2019年三家企業(yè)的合計市場份額就占到了全球光刻機市場的90%以上。其中ASML由于其技術(shù)領(lǐng)先，壟斷了第五代光刻機（EUV光刻機），獨占75%的市場份額，Nikon與Canon分別占據(jù)13%和6%的市場份額。

5、光刻機行業(yè)細(xì)分市場格局：i-line光刻機出貨最多

從細(xì)分市場來看，近年來，市場上銷售的光刻機主要為EUV光刻機、ArF lm光刻機、ArF Dry光刻機、KrF光刻機和i-line光刻機。從2019年這五類光刻機的銷量情況來看，i-line光刻機的銷量最高，為116臺。在這116臺中，Canon公司貢獻(xiàn)了一半以上。

從企業(yè)的角度來看，Canon主要的光刻機銷售都集中在i-line光刻機這一類型;Nikon的光刻機銷售則縱向跨度較大，在除EUV之外的類型均有涉及，其中以Arf和i-line的領(lǐng)域較為突出;ASML則在除i-line光刻機之外的領(lǐng)域均具有較強的統(tǒng)治力。

6、全球光刻機行業(yè)供給：銷售量略有下降

從行業(yè)供給來看，2014-2018年，光刻機top3企業(yè)銷售量呈現(xiàn)波動增長的態(tài)勢。2019年，光刻機銷售量有所下滑，僅為354臺，較2018年下降了3.8%。2020年第一季度，全球光刻機top3企業(yè)銷售量實現(xiàn)85臺。

7、國產(chǎn)企業(yè)發(fā)展：行業(yè)正在加快研發(fā)進(jìn)度

長期以來，我國的光刻技術(shù)落后于先進(jìn)國家，成為我國工業(yè)現(xiàn)代化進(jìn)程的一塊短板。近年來，在國家政策的扶持以及一批龍頭企業(yè)的帶領(lǐng)下，我國光刻機技術(shù)也開始了飛速的發(fā)展，由長春光機所牽頭承擔(dān)的國家科技重大專項02專項——“極紫外光刻（EUVL）關(guān)鍵技術(shù)研究”項目也順利完成了驗收前現(xiàn)場測試。

但我國企業(yè)在光刻機制造方面距離世界頭部企業(yè)仍有一定的距離，光刻機行業(yè)研發(fā)進(jìn)度仍待加快。

我國光刻機相關(guān)領(lǐng)先企業(yè)技術(shù)進(jìn)展情況如下所示：

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