EUV光刻機的數(shù)量有望成為三星半導體成長的關鍵
據(jù)韓媒etnews報道，消息人士透露，三星電子副會長李在鎔日前前往歐洲，主要目的在于訪問ASML荷蘭總部。
該報道稱，三星電子目前正計劃在韓國華城、平澤以及美國的奧斯汀等地建立EUV生產體系。因此，確保EUV光刻機的數(shù)量有望成為三星半導體成長的關鍵。
而三星電子代工業(yè)務的最大競爭對手是臺積電，其在全球市占率超過50%，而三星的市占僅為17%，仍在致力于縮小差距。此前有消息稱，臺積電加速先進制程推進，近期擴大釋單，累計EUV光刻機至2021年底將超過50臺，而三星的這一數(shù)字預計僅為25臺。
據(jù)悉，ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機的廠商，年產量為40余臺，臺積電方面希望獲得全數(shù)供應。EUV光刻機的價格昂貴，每臺要價約1.3億美元，由于是EUV制程必需的關鍵設備，臺積電與三星電子的競爭日益激烈。
此前韓國業(yè)內人士指出，三星明年將獲得10臺ASML為其預留的EUV光刻機?，F(xiàn)李在鎔親自到訪后，這一供應量可望增加。
李在鎔除了訪問ASML外，也將前往瑞士等歐洲其他國家，目的在于強化三星當?shù)氐倪\營，除了半導體事業(yè)外，也針對人工智能、5G等業(yè)務進行相關投資考察。
責任編輯:tzh
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