藤村：在過去的幾年中，口罩的收入一直在增長。在此之前，口罩收入相當穩(wěn)定，每年約為30億美元。最近，它們已經(jīng)超過了40億美元的水平，并且預計還會繼續(xù)增長。發(fā)光二極管公司認為，這一增長的一部分是由于該行業(yè)向EUV的轉變。調查中的一個問題問到參與者：“ COVID將對光掩模市場產生什么業(yè)務影響？” 有人認為這可能是消極的，但大多數(shù)人認為這不會產生太大影響，或者可能會產生積極的影響。在最近的eBeam計劃中小組成員評論說，前景樂觀的原因可能是由于半導體行業(yè)的需求情況。庇護所和在家工作的環(huán)境正在為電子和半導體行業(yè)創(chuàng)造更多的需求和機會。

SE：極紫外（EUV）光刻技術將如何影響掩模收入？

藤村：總體上，三分之二的調查參與者認為這將產生積極的影響。前往EUV時，口罩的數(shù)量減少了。這是因為EUV將整個行業(yè)帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需要在高級節(jié)點處使用更多的掩模。使用EUV，您的掩模較少，但是每個EUV層的掩模成本更高。

SE：幾十年來，IC行業(yè)一直遵循摩爾定律，即芯片中的晶體管密度每18到24個月翻一番。按照這種節(jié)奏，芯片制造商可以在芯片上封裝更多和較小的晶體管，但是摩爾定律似乎正在放緩。接下來是什么？

藤村：摩爾定律的定義正在改變。不再關注CPU時鐘速度的趨勢。那變化不大。它通過位寬擴展而不是時鐘速度擴展。其中很多與熱性能和其他方面有關。我們有一些理論可以逐步改善。另一方面，如果您查看諸如使用GPU或具有更多CPU內核的大規(guī)模并行計算之類的東西，以及如果包括這些東西，則可以多快地訪問內存（或可以訪問多少內存），那么摩爾定律就非?；钴S。

例如，D2S為半導體制造業(yè)提供計算系統(tǒng)，因此我們也是技術的消費者。我們進行大量的超級計算，因此了解計算能力方面的情況對我們很重要。我們看到的是，我們的計算能力正在以與以前大致相同的速度持續(xù)提高。但是，作為程序員，我們必須適應如何利用它。并不是您可以使用相同的代碼，它就不會像20年前那樣自動縮放。您必須了解在任何給定時間點，縮放比例如何不同。您必須弄清楚如何利用新一代技術的優(yōu)勢，然后轉移代碼。因此，這肯定更難。您必須弄清楚如何利用新一代技術的優(yōu)勢，然后轉移代碼。因此，這肯定更難。您必須弄清楚如何利用新一代技術的優(yōu)勢，然后轉移代碼。因此，這肯定更難。

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