南大光電自主研發(fā)的 ArF（193nm）光刻膠成功通過認(rèn)證
今日南大光電發(fā)布公告稱，其控股子公司 “寧波南大光電”自主研發(fā)的 ArF（193nm）光刻膠產(chǎn)品近日成功通過客戶的使用認(rèn)證。報(bào)告顯示，“本次認(rèn)證選擇客戶 50nm 閃存產(chǎn)品中的控制柵進(jìn)行驗(yàn)證，寧波南大光電的ArF光刻膠產(chǎn)品測試各項(xiàng)性能滿足工藝規(guī)格要求，良率結(jié)果達(dá)標(biāo)。”
“ArF 光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國家 “02 專項(xiàng)”的一個(gè)重點(diǎn)攻關(guān)項(xiàng)目。本次產(chǎn)品的認(rèn)證通過，標(biāo)志著 “ArF 光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目取得了關(guān)鍵性的突破，成為國內(nèi)通過產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國產(chǎn) ArF 光刻膠。
據(jù)IT之家了解，光刻膠是半導(dǎo)體芯片制造過程中的核心材料之一 ，經(jīng)過紫外光、電子束等照射，光刻膠得到曝光，化學(xué)性質(zhì)發(fā)生改變，經(jīng)過顯影液的洗滌，圖案會(huì)留在襯底上。光刻膠分為 KrF（248nm）、ArF（193nm）和 EUV（13.5nm）幾種，括號(hào)中的數(shù)值為曝光光源的波長。
責(zé)任編輯：PSY
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