傳中芯國際有望得到ASML的EUV光刻機(jī)
據(jù)報道，業(yè)內(nèi)觀察人士稱，在新任副董事長蔣尚義的幫助下，中國芯片巨頭中芯國際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥（ASML）就EUV光刻設(shè)備進(jìn)行談判。
報道稱，中芯國際一直難以從阿斯麥獲得EUV光刻設(shè)備，盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響，但仍存顧慮。
但據(jù)業(yè)內(nèi)觀察人士稱，在新任副董事長蔣尚義的幫助下，中芯國際將針對EUV光刻設(shè)備尋求與阿斯麥進(jìn)行談判。
本周二晚，中芯國際發(fā)布公告稱，蔣尚義獲委任為董事會副董事長、第二類執(zhí)行董事及戰(zhàn)略委員會成員，自2020年12月15日起生效。
EUV光刻（即極紫外光刻）利用波長非常短的光，在硅片上形成數(shù)十億個微小結(jié)構(gòu)，構(gòu)成一個芯片。與老式光刻機(jī)相比，EUV設(shè)備可以生產(chǎn)更小、更快、更強(qiáng)大的芯片。
報道稱，中芯國際計劃利用EUV光刻機(jī)器，來生產(chǎn)基于7納米以下制程技術(shù)的芯片產(chǎn)品。
近日有媒體報道稱，中芯國際已經(jīng)從20nm工藝制程，一直攻克到了3nm工藝制程，唯一缺的就是EUV光刻機(jī)。有了EUV光刻機(jī)，中芯國際也能進(jìn)行3nm芯片的量產(chǎn)。
昨日美國股市收盤時，阿斯麥股價收于477.30美元，上漲1.2%。今日，中芯國際股價收于55.02元，下滑1.77%。
責(zé)編AJX
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
中芯國際
+關(guān)注
關(guān)注
27文章
1453瀏覽量
68140 -
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
738瀏覽量
43639 -
EUV光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
129瀏覽量
15870
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
中國打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)！
其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例，這是決定芯片 圖案能否被精準(zhǔn) 刻下來的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進(jìn)制程芯片 時代，不僅需要EUV光刻機(jī)，更需要
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機(jī)路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公
AI需求飆升！ASML新光刻機(jī)直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術(shù)為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點問題？ 針對2nm、3nm芯片制造難題，光刻機(jī)龍頭企業(yè)
壟斷 EUV 光刻機(jī)之后，阿斯麥劍指先進(jìn)封裝
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 當(dāng)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)陷入 “先進(jìn)制程競賽” 的白熱化階段，極紫外（EUV）光刻機(jī)作為高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”，成為決定產(chǎn)業(yè)格局的核心力量。荷蘭阿斯麥（ASML）作為全球唯一
EUV光源重大突破！ASML：芯片產(chǎn)量將提升50%
紫外光刻（EUV）設(shè)備的公司。EUV設(shè)備堪稱芯片制造商生產(chǎn)先進(jìn)計算芯片的“神器”，像臺積電、英特爾等行業(yè)巨頭都高度依賴它。EUV光刻機(jī)是以1
澤攸科技 | EBL和EUV光刻機(jī)有何區(qū)別？如何影響半導(dǎo)體行業(yè)？
從技術(shù)路徑上看，電子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同一類問題的解法。電子束光刻本質(zhì)上是一種直接寫入技術(shù)，利用聚焦電子束在抗蝕劑上逐點曝光，通過電磁控制精確描繪圖形。這種方式不依賴掩
國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠，標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進(jìn)式
【「AI芯片：科技探索與AGI愿景」閱讀體驗】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)
%。至少將GAA納米片提升幾個工藝節(jié)點。
2、晶背供電技術(shù)
3、EUV光刻機(jī)與其他競爭技術(shù)
光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計好的芯片版圖圖形轉(zhuǎn)移到硅晶圓上的一種精細(xì)
發(fā)表于 09-15 14:50
全球市占率35%，國內(nèi)90%！芯上微裝第500臺步進(jìn)光刻機(jī)交付
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱：芯上微裝，英文簡稱：AMIES）第500臺步進(jìn)光刻機(jī)成功交付，并舉辦了第500臺 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ?
發(fā)表于 08-13 09:41
?2598次閱讀
光刻機(jī)實例調(diào)試#光刻機(jī) #光學(xué) #光學(xué)設(shè)備
光刻機(jī)
jf_90915507
發(fā)布于 :2025年08月05日 09:37:57
中科院微電子所突破 EUV 光刻技術(shù)瓶頸
極紫外光刻（EUVL）技術(shù)作為實現(xiàn)先進(jìn)工藝制程的關(guān)鍵路徑，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。當(dāng)前，LPP-EUV 光源是極紫外光刻機(jī)所采用的主流光源，其工作原理是利用波長為 10.6um 的紅外
ASML官宣：更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，日前，ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
發(fā)表于 06-29 06:39
?2167次閱讀
ASML杯光刻「芯 」勢力知識挑戰(zhàn)賽正式啟動
ASML光刻「芯」勢力知識挑戰(zhàn)賽由全球半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)先供應(yīng)商ASML發(fā)起，是一項面向中國半導(dǎo)體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML在
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
評論