哈工大在國(guó)家急需時(shí)刻從不缺席，現(xiàn)在國(guó)家急需光刻機(jī)。哈工大的DPP-EUV光源出來(lái)，真的是史詩(shī)級(jí)成果，一流大學(xué)就應(yīng)該有世界頂尖水平，這是哈工大在超精密加工，超精密測(cè)量領(lǐng)域幾十年積累的結(jié)果！ 中科院長(zhǎng)春光機(jī)所在光刻機(jī)所需的透鏡及曝光系統(tǒng)上早已有突破，而最新的消息也顯示，長(zhǎng)春光機(jī)所在實(shí)驗(yàn)室已經(jīng)搭建出了一套EUV光源設(shè)備。 而長(zhǎng)春光機(jī)所正基于哈工大DPP-EUV光源研制EUV曝光機(jī)，預(yù)計(jì)兩年內(nèi)可推出。光刻機(jī)的兩大核心部件為雙工件臺(tái)和曝光系統(tǒng)。

EUV光刻的全稱為極紫外光刻（Extreme Ultra-violet），其光源主要有2種： 1、一種是DPP-EUV極紫外光源。放電激發(fā)等離子體EUV極紫外光源 荷蘭ASML光刻機(jī)公司，哈工大研究的都是這一種。 DPP EUV光源利用放電使負(fù)載（Xe或Sn）形成等離子體，輻射出紫外線，利用多層膜反射鏡多次反射凈化能譜，獲得1EUV光。

DPP EUV光源的優(yōu)點(diǎn)是產(chǎn)生EUV的能量轉(zhuǎn)換效率高，造價(jià)低；缺點(diǎn)是電極熱負(fù)載高，產(chǎn)生碎片多，機(jī)制復(fù)雜，光學(xué)器件易于受損，光收集角小。

2、激光等離子體光源（LPP） LPP EUV系統(tǒng)主要包括激光器、匯聚透鏡、負(fù)載、光收集器、掩膜、投影光學(xué)系統(tǒng)和芯片。 其原理是利用高功率激光加熱負(fù)載（Xe或Sn）形成等離子體，等離子體輻射出紫外線，利用多層膜反射鏡多次反射凈化能譜，獲得1EUV光。 LPP EUV光源的優(yōu)點(diǎn)是光源尺寸小，產(chǎn)生碎片或粒子的種類(lèi)少，光收集效率高以及較容易放大EUV輸出功率。當(dāng)然它也有缺點(diǎn)，主要是系統(tǒng)設(shè)計(jì)復(fù)雜，價(jià)格昂貴。 這2種光源。哈工大都在15年前就研究了！

中國(guó)研究EUV極紫外光源的2個(gè)主要單位： 1、哈工大氣體可調(diào)諧激光技術(shù)國(guó)家級(jí)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室 。 2、中國(guó)科學(xué)院上海光機(jī)所（哈工大畢業(yè)的研究員負(fù)責(zé)的項(xiàng)目、副所長(zhǎng)。神光2的負(fù)責(zé)人之一）。 哈工大取的重大突破的是： 放電激發(fā)等離子體EUV極紫外光源。與荷蘭ASML光刻機(jī)公司的是同一種EUV極紫外光源。但是要把它做成為光刻機(jī)，還需要2年時(shí)間！ 荷蘭光刻機(jī)，目前極紫外光源是美國(guó)產(chǎn)，還有一些主要部件是德國(guó)等國(guó)生產(chǎn)，清洗部件是藍(lán)英裝備生產(chǎn)。如果3-5納米光刻機(jī)兩年內(nèi)國(guó)產(chǎn)，則華為有救！哈工大功勞舉世無(wú)雙！ 下面這個(gè)全球領(lǐng)先的成果。也來(lái)自哈工大這個(gè)實(shí)驗(yàn)室。

哈工大在祖國(guó)需要的時(shí)候能沖上去，這就是軍工大學(xué)的擔(dān)當(dāng)！ 其實(shí) 中國(guó)在1977年就成功研究了光刻機(jī)。 那個(gè)時(shí)候，還沒(méi)有荷蘭ASML光刻機(jī)公司這個(gè)公司。 可惜中國(guó)80年代，都是造不如買(mǎi)去了。 以前日本人走的是激光等離子體光源。 荷蘭ASML光刻機(jī)公司走的是氣體放電激發(fā)等離子體EUV極紫外光源 （哈工大氣體可調(diào)諧激光技術(shù)國(guó)家級(jí)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室 研究的東西與他們一樣）。

原文標(biāo)題：光刻機(jī)研發(fā)：哈工大在國(guó)家急需時(shí)刻從不缺席

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