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為超越臺積電,三星將在美國新建晶圓工廠

我快閉嘴 ? 來源:創(chuàng)投時報 ? 作者:諦林 ? 2021-02-18 17:11 ? 次閱讀
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日前根據(jù)媒體報道,臺積電為了趕進度、要求建造商加班趕工,在春節(jié)期間支付額外的獎金,用于激勵3nm新建工程的建設(shè)。據(jù)了解,這是由于臺積電有3nm進入量產(chǎn)時,月產(chǎn)12英寸晶圓超60萬片的目標。

此外,臺積電還計劃在美國建設(shè)工廠。同時臺積電更是透露出,準備在日本設(shè)立全資子公司的計劃,并為此斥資1.86億美元。

由此可見,臺積電正在想方設(shè)法提升產(chǎn)能,以應(yīng)對接下來全球范圍內(nèi)愈發(fā)嚴重的晶圓緊缺狀況。值得一提的是,在臺積電努力擴大產(chǎn)能、提升自身實力的同時,一位臺積電的老對手也沒有閑著。

美國得克薩斯州官方文件顯示,韓國科技巨頭——三星電子,正在考慮將晶圓工廠建在奧斯汀市。

此外,該文件還顯示,三星電子此次在美國建設(shè)的工廠,總投入約為170億美元,并將為當?shù)貏?chuàng)造1800個工作崗位。

而在2020年,臺積電在美國亞利桑那州建設(shè)的晶圓廠,總投資為120億美元。這座新工廠計劃在2024年實現(xiàn)量產(chǎn)。

而三星在美國建設(shè)的新晶圓廠,投入比臺積電美國工廠多了50億美元。據(jù)文件透露,三星電子的美國工廠計劃2021年第二季度破土動工,預(yù)計2023年第三季度就能投入運營。

顯然,同為世界級巨頭的三星,并不甘心屈居臺積電之后,做一個“萬年老二”。

自2020年以來,三星電子就一直在實施趕超臺積電的計劃。公司先是官宣3nm工藝將于2022年實現(xiàn)量產(chǎn),在工藝研發(fā)進度上追平臺積電;然后又追隨臺積電的步伐,盡可能提升產(chǎn)能。

據(jù)筆者了解,為了追上臺積電,三星甚至曾“威脅”ASML,要求后者必須向三星電子供應(yīng)一定數(shù)量的EUV光刻機。

眾所周知,隨著芯片制程的萎縮,晶圓代工廠需要的高端光刻機數(shù)量也越來越多。但荷蘭巨頭ASML的年產(chǎn)能有限,這就導致臺積電和三星勢必要斥巨資爭奪稀有的EUV光刻機。

相比之下,計劃在3nm工藝上使用GAA新技術(shù)的三星電子,更需要數(shù)量充足的EUV光刻機。

但就目前來看,臺積電方面獲得的EUV光刻機數(shù)量更多。而且,臺積電在3nm工藝上,依舊保守采用FinFET工藝。

在你看來,三星能否成功在2022的時間節(jié)點上超越臺積電?
責任編輯:tzh

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