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ASML斥資11億歐元研發(fā)芯片技術(shù)光子芯片 國(guó)內(nèi)芯片代工發(fā)展步伐加快

西西 ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2022-04-18 09:55 ? 次閱讀
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由于美修改相關(guān)規(guī)則,致使臺(tái)積電、三星等晶圓代工企業(yè)無法實(shí)現(xiàn)自由出貨,越來越多的國(guó)家開始布局屬于自己的芯片制造技術(shù)。在這樣的局面之下,我國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)的國(guó)產(chǎn)化水平也在不斷提升。

近日擁有ASML公司的荷蘭正式官宣,將斥資11億歐元研發(fā)下一代芯片技術(shù)光子芯片,為何荷蘭也在投入芯片新技術(shù)的研發(fā),原因是隨著芯片制造技術(shù)日益接近天花板,全球都已展開了芯片新技術(shù)的研發(fā)。

國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)發(fā)布了一則新的數(shù)據(jù),數(shù)據(jù)顯示,在全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)份額中,中國(guó)再度成為了全球需求量最大的市場(chǎng),市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到了296億美元,約占據(jù)了全球市場(chǎng)份額的30%。

中國(guó)延續(xù)了當(dāng)下的芯片制造技術(shù)方向,據(jù)悉中芯國(guó)際即將以DUV***生產(chǎn)7nm工藝,這個(gè)技術(shù)其實(shí)已由臺(tái)積電實(shí)現(xiàn),此前臺(tái)積電的第一代7nm工藝就是以DUV***生產(chǎn)的,后來再升級(jí)至7nmEUV,7nm工藝將足以滿足中國(guó)多數(shù)芯片的需求。同時(shí)華為研發(fā)的芯片堆疊技術(shù),也可歸類為Chiplet技術(shù),與7nm工藝相結(jié)合可望達(dá)到5nm工藝的性能。

數(shù)據(jù)證實(shí)了國(guó)內(nèi)芯片代工市場(chǎng)的發(fā)展正在逐步加快,除去臺(tái)積電這家芯片代工巨頭之外,內(nèi)地針對(duì)于***、蝕刻機(jī)等芯片制造設(shè)備的需求量也在大幅度增加。

同時(shí)俄羅斯相關(guān)的學(xué)院現(xiàn)在已經(jīng)開始要研發(fā)全新的***了,雖然這次他們研究的方向并不是ASML公司的EUV***,但出來的成品絕對(duì)能達(dá)到ASML,甚至還能完成進(jìn)一步的超越。

文章綜合柏銘、數(shù)碼解說客、科技資源庫

編輯:黃飛

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