導(dǎo) 讀

2014年，諾貝爾化學(xué)獎(jiǎng)授予了發(fā)明超分辨率熒光顯微技術(shù)的德國(guó)科學(xué)家斯特凡·W·赫爾、美國(guó)科學(xué)家埃里克·白茲格和美國(guó)科學(xué)家威廉姆·艾斯科·莫爾納爾。受這項(xiàng)工作的啟發(fā)，上海理工大學(xué)光子芯片研究院的科學(xué)家研發(fā)了一種新型的激光光刻技術(shù)，用于制造超精細(xì)的石墨烯圖案。這一發(fā)現(xiàn)打破了碳基光刻技術(shù)向納米尺度發(fā)展的衍射極限障礙。近日，顧敏院士和陳希教授將題為“Two-beam ultrafast laser scribing of graphene patterns with 90 nm sub-diffraction feature size”的工作發(fā)表在《科學(xué)》雜志社新子刊Ultrafast Science上。

雙光束超快激光直寫程序制造亞衍射石墨烯結(jié)構(gòu)

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Chen X and Gu M. Two-Beam Ultrafast Laser Scribing of Graphene Patterns with 90-nm Subdiffraction Feature Size. Ultrafast Sci.2022;2022:Article 0001.

石墨烯的激光直寫圖案化被廣泛應(yīng)用于多種電學(xué)器件的性能突破。在傳統(tǒng)的石墨烯圖案直寫過程中，科學(xué)家使用單光束光刻過程驅(qū)動(dòng)氧化石墨烯的光還原，從而形成石墨烯圖案。因?yàn)?a href="http://m.sdkjxy.cn/v/tag/4854/" target="_blank">光學(xué)衍射極限的限制，目前所報(bào)道的激光直寫石墨烯圖案的線寬在微米量級(jí)，制作超越衍射極限尺度的激光直寫石墨烯圖案是光刻領(lǐng)域的一個(gè)巨大的挑戰(zhàn)。

最近，基于超分辨率熒光顯微技術(shù)這一諾貝爾獎(jiǎng)級(jí)成果，科學(xué)家報(bào)道了一種應(yīng)用于光刻膠的雙光束激光光刻技術(shù)。這里使用一道甜甜圈形狀的環(huán)形光束，來抑制寫入光束所觸發(fā)的光刻膠反應(yīng)，由此產(chǎn)生線寬超越衍射極限尺度的超精細(xì)光刻膠圖案。“上海理工大學(xué)光子芯片研究院的研究目標(biāo)是尋找到一條用于制造超精細(xì)石墨烯圖案的雙光束光刻路徑，”陳希教授解釋道，“但與光刻膠光刻不同的是，氧化石墨烯光還原的抑制途徑尚未實(shí)現(xiàn)。因此，我們首要的關(guān)鍵任務(wù)是實(shí)現(xiàn)激光驅(qū)動(dòng)的石墨烯氧化?！?/p>

在Ultrafast Science上發(fā)表的論文展示了具有高還原度的激光直寫石墨烯在飛秒激光照射下的氧化現(xiàn)象。實(shí)現(xiàn)表明，波長(zhǎng)為532納米的飛秒激光可以誘導(dǎo)從激光直寫石墨烯到氧化態(tài)激光直寫石墨烯的化學(xué)變化。基于這種激光驅(qū)動(dòng)的氧化機(jī)制，光子芯片研究院同時(shí)控制甜甜圈形的石墨烯還原激光光束和球形的石墨烯氧化激光光束，用于超精細(xì)石墨烯圖案的制造。其中球形光束負(fù)責(zé)將激光直寫石墨烯轉(zhuǎn)化為氧化態(tài)激光直寫石墨烯，將激光直寫石墨烯的光刻線分裂成兩條具有超越衍射極限尺度的光刻線，從而通過雙光束光刻實(shí)現(xiàn)了最小線寬為90納米的激光直寫石墨烯圖案。

“石墨烯是碳基電路的基礎(chǔ)材料，這項(xiàng)雙光束石墨烯激光光刻工藝會(huì)為新一代微納米碳基電路的制造提供基礎(chǔ)技術(shù)支撐，”顧敏院士說。

該工作得到了國(guó)家自然科學(xué)基金委員會(huì)和上海市科委等單位的支持。

審核編輯 ：李倩