晶圓的定位精度達(dá)到四分之一納米,并且每秒對準(zhǔn)2萬次以消除任何振動的影響。光刻之前的步驟同樣令人不可思議。



計算光刻是芯片設(shè)計和制造領(lǐng)域中最大的計算工作負(fù)載,大型數(shù)據(jù)中心247全天候運行,以便創(chuàng)建用于光刻系統(tǒng)的掩膜板,這些數(shù)據(jù)中心是芯片制造商每年投資近2000億美元的資本支出的一部分
NVIDIA今天宣布推出cuLitho一一個計算光刻庫

NVIDIA H100需要89塊掩膜板,在CPU上運行時,處理單個掩膜板,當(dāng)前需要兩周時間。
臺積電可以通過在500個DGX H100系統(tǒng)上使用cuLitho加速,將功率從35MW降至5MW,從而替代用于計算光刻的4萬臺CPU服務(wù)器,減少制造過程中的碳足跡,并為 2納米及以 上的生產(chǎn)做好準(zhǔn)備
所有行業(yè)都需要加速各種工作負(fù)載,以便我們能減少功耗,達(dá)到事半功倍的效果。
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