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荷蘭實(shí)施半導(dǎo)體出口管制 ASML***DUV系統(tǒng)需要許可證

A面面觀 ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2023-07-01 17:38 ? 次閱讀
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荷蘭實(shí)施半導(dǎo)體出口管制 ASML***DUV系統(tǒng)需要許可證

芯片戰(zhàn)愈演愈烈。荷蘭正式實(shí)施半導(dǎo)體出口管制條款,這將對***巨頭阿斯麥(ASML)產(chǎn)生更多影響。ASML的EUV光刻系統(tǒng)在此前已經(jīng)受到限制不允許出口到我國,現(xiàn)在對于其他的光刻系統(tǒng)也加以限制,比如沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)。

新的出口管制條例將于2023年9月1日生效。美欲擴(kuò)大對華芯片限制的野心暴露無疑,對ASML的限制從最開始先進(jìn)的EUV光刻技術(shù)逐步擴(kuò)大到了DUV技術(shù);基本就是限制了ASML公司三種型號(hào)的機(jī)器對我國的出口。

ASML浸潤式DUV系統(tǒng)(即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng))如果要出貨需要先向荷蘭政府申請出口許可證。

在美國政府聯(lián)合其他盟友加大對我國芯片領(lǐng)域限制的背景下,ASML也只能是繼續(xù)遵守適用的出口管制條例,而還是包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。

我國駐荷蘭大使館發(fā)言人稱,荷蘭政府正式出臺(tái)半導(dǎo)體制造設(shè)備的出口管制措施,這是對出口管制措施的濫用,是對自由貿(mào)易和國際經(jīng)貿(mào)規(guī)則的嚴(yán)重背離,中方對此堅(jiān)決反對。

同時(shí)我國商務(wù)部新聞發(fā)言人稱,中方注意到相關(guān)報(bào)道。近幾個(gè)月以來,中荷雙方就半導(dǎo)體出口管制問題開展了多層級、多頻次的溝通磋商。但荷方最終仍將相關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備列管,中方對此表示不滿。近年來,美國為維護(hù)自身全球霸權(quán),不斷泛化國家安全概念,濫用出口管制措施,甚至不惜犧牲盟友利益,脅迫拉攏其他國家對中國實(shí)施半導(dǎo)體打壓圍堵,人為推動(dòng)產(chǎn)業(yè)脫鉤斷鏈,嚴(yán)重?fù)p害全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展,中方對此堅(jiān)決反對。

荷方應(yīng)從維護(hù)國際經(jīng)貿(mào)規(guī)則及中荷經(jīng)貿(mào)合作大局出發(fā),尊重市場原則和契約精神,避免有關(guān)措施阻礙兩國半導(dǎo)體行業(yè)正常合作和發(fā)展,不濫用出口管制措施,切實(shí)維護(hù)中荷企業(yè)和雙方共同利益,維護(hù)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈穩(wěn)定。

附 ASML公告:

關(guān)于荷蘭政府頒布最新出口管制條例的聲明

荷蘭菲爾德霍芬,2023年6月30日——荷蘭政府于今日頒布了有關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備出口管制的新條例。正如其在今年三月發(fā)布的消息中所述,這些新的出口管制條例針對對象為先進(jìn)的芯片制造技術(shù),包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)。

根據(jù)新出口管制條例規(guī)定,ASML需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤式DUV系統(tǒng)(即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng))。荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證,并將向ASML提供許可證所附條件的細(xì)節(jié)。

ASML的EUV光刻系統(tǒng)在此前已經(jīng)受到限制。ASML其他光刻系統(tǒng)的發(fā)運(yùn)未受荷蘭政府管控。

ASML將繼續(xù)遵守適用的出口管制條例,其中包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。

荷蘭政府新頒布的出口管制條例將于2023年9月1日生效,在此日期前,ASML可開始提交出口許可證申請。荷蘭政府將視具體情況批準(zhǔn)或拒絕這些申請。

基于今日的公告,我們認(rèn)為這些管制條例不會(huì)對已發(fā)布的2023年財(cái)務(wù)展望以及于2022年11月投資者日宣布的長期展望產(chǎn)生重大影響。

需要重點(diǎn)指出的是,荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)推出的浸潤式系統(tǒng)。 此外,ASML長期展望的基礎(chǔ)是全球的長期需求和技術(shù)趨勢。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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