來源：牛津儀器

牛津儀器（Oxford Instruments）推出PlasmaPro ASP系統(tǒng)，這是其Atomfab?產(chǎn)品系列中的一款高速原子層沉積（ALD）研究系統(tǒng)。PlasmaPro ASP受益于新的專利遠程等離子體源設(shè)計、優(yōu)化的腔室?guī)缀涡螤詈陀糜陔x子能量控制的晶圓臺偏置。這些特性結(jié)合在一起，為量子應(yīng)用提供了三倍快的ALD速率、低電阻率和高Tc超導(dǎo)氮化物薄膜，這是此次發(fā)布的最初應(yīng)用重點。

等離子體源設(shè)計涉及與埃因霍溫理工大學(xué)（TU/e）的合作，該大學(xué)獲得了一個開發(fā)模塊，用于研究等離子體參數(shù)空間并確認高速率低損傷源特性。與TU/e聯(lián)合開發(fā)后發(fā)表的論文（Innovative remote plasma source for atomic layer deposition for GaN devices）在去年的AVS ALD/ALE。

會議上榮獲最佳論文獎。牛津儀器與TU/e的合作一直持續(xù)到工藝開發(fā)，過去一年，TU/e一直充當量子和其他應(yīng)用的PlasmaPro ASP應(yīng)用開發(fā)加速器。

PlasmaPro ASP系統(tǒng)是牛津儀器現(xiàn)有ALD工具集的絕佳補充，旨在通過創(chuàng)新的高速率源設(shè)計和超長機器正常運行時間，以及直觀軟件用戶界面來解決關(guān)鍵的量子挑戰(zhàn)。它在生產(chǎn)率和等離子體功能方面與眾不同，為在電子、光子學(xué)和量子技術(shù)領(lǐng)域的研究提供了一些獨特的機會。

審核編輯：湯梓紅