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鹽霧測試 | 可靠性鹽霧試驗要求及樣品評級判定

GTS全球通檢測 ? 2023-10-30 17:19 ? 次閱讀
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通常我們?yōu)榱蓑炞C產(chǎn)品上的金屬部件暴露于大氣或其它環(huán)境中會否發(fā)生腐蝕可以將產(chǎn)品在使用環(huán)境下放置足夠長的時間,但是這樣做既耗時又費力,在實際中是極少采用的。這樣就需要一種方便的方法去評估產(chǎn)品的抗腐蝕性。這種就叫鹽霧測試。

10.30.jpg

鹽霧測試是一種主要利用鹽霧試驗設(shè)備所創(chuàng)造的人工模擬鹽霧環(huán)境條件來考核產(chǎn)品或金屬材料耐腐蝕性能的環(huán)境試驗。它分為兩大類,一類為天然環(huán)境暴露試驗,另一類為人工加速模擬鹽霧環(huán)境試驗。

樣品經(jīng)過可靠性鹽霧試驗后的評級:

ISO10289:2001 金屬制件上金屬和其他無機覆蓋層經(jīng)腐蝕試驗的試驗試樣和制件的評定

樣品評級:

1.與基體金屬腐蝕相關(guān)的保護(hù)評級 (Rp) :表示覆蓋層保護(hù)基體免遭腐蝕破壞的能力。

用數(shù)字描述覆蓋層保護(hù)基體金屬免遭腐蝕的能力;

2.與覆蓋層破壞相關(guān)的外觀評級 (Ra) :表示覆蓋層保護(hù)其完整性和保持滿意外觀的能力。

用字母和數(shù)字描述試樣的全部外觀,包括由腐蝕試驗或環(huán)境引起的所有破壞。

可靠性鹽霧試驗后樣品的處理三步曲:

1.室溫干燥;試驗結(jié)束后取出試樣,為減少腐蝕產(chǎn)物的脫落試樣在清洗前放在室內(nèi)自然干燥0.5~1h

2.清洗;用溫度不高于40℃的清潔流動水輕輕清洗以除去試樣表面殘留的鹽霧溶液

3.干燥;在距離試樣約300mm處用氣壓不過超過200kPa的空氣立即吹干

鹽霧試驗分類:

中性鹽霧(NSS):是出現(xiàn)最早目前應(yīng)用領(lǐng)域最廣泛的一種加速腐蝕試驗方法

適用產(chǎn)品:金屬及其合金、金屬覆蓋層有機覆蓋層、陽極氧化膜和轉(zhuǎn)化膜

乙酸鹽霧(AASS):是在5%氯化鈉溶液中加入一些冰醋酸它的腐蝕速度大約是NSS試驗的8倍

適用產(chǎn)品:銅+鎳+鉻或鎳+鉻飾性鍍層也適用于鋁的陽極氧化膜

銅加速乙酸鹽霧(CASS):一種快速鹽霧腐蝕試驗,加入少量氯化銅強烈誘發(fā)腐蝕;它的腐蝕速度大約是NSS試驗的8倍

實驗溶液的配制:

中性鹽霧試驗溶液:

本試驗所用試劑采用化學(xué)純或化學(xué)純以上的試劑。將氯化鈉溶于電導(dǎo)率不超過20us/cm的蒸餾水或去離子水中,其濃度為50g/L士5g/L。在25℃時,配制的溶液密度在1.0255~1.0400范圍內(nèi)??捎名}酸或氫氧化鈉調(diào)整配制的鹽溶液的pH值,使其在6.5~7.2之間。

乙酸鹽霧試驗溶液:

在制備的鹽溶液中加入適量的冰乙酸,以保證配制的溶液pH 值為3.0~3.1,鹽霧箱內(nèi)收集液的pH值為3.1~3.3

銅加速乙酸鹽霧試驗溶液:

在按乙酸鹽霧試驗溶液制備的鹽溶液中,加入氯化銅(CuC2;2H20),其濃度為0.26g/L士0.02gL(即0.205g/L士0.015g/無水氯化銅)。溶液的pH值調(diào)整方法與乙酸鹽霧試驗溶液相同。

可靠性鹽霧試驗測試條件:

試驗方法:中性鹽霧

鹽水濃度:50±5g/L的氯化鈉水溶液

溫度:35℃±2℃

噴霧量:1~2ml/80cm2/h

氯化鈉濃度:50g/L±5g/L

鹽霧溶液pH值:6.5~7.2

壓力桶溫度:47 ℃

測試時間:48h

注意:

1.在試驗過程中、整個鹽霧箱內(nèi)的溫度波動應(yīng)盡可能小。

2.用過的噴霧溶液不得再用。

3.試驗期間的溫度和壓力應(yīng)穩(wěn)定在規(guī)定范圍內(nèi)

可靠性鹽霧試驗試驗周期:

試驗周期根據(jù)被試材料或產(chǎn)品有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)選擇,若無標(biāo)準(zhǔn),可經(jīng)有關(guān)方面協(xié)商決定。

推薦周期:

2h、4h、6h、8h、24h、48h、 72h、96h、144h、168h、240h、480h、720h、1000h。

注意事項:

1.在規(guī)定的試驗周期內(nèi)噴霧不得中斷,只有當(dāng)需要短暫觀察試樣時才能打開鹽霧箱。

2.如果試驗終止取決于開始出現(xiàn)腐蝕的時候,應(yīng)經(jīng)常檢查試樣。因此,這些試樣不能同要求預(yù)定試驗周期的試樣一起試驗。

3.可定期目視檢查預(yù)定試驗周期的試樣。但在檢查過程中,不能破壞被試表面,開箱檢查的時間與次數(shù)應(yīng)盡可能少。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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