北方華創(chuàng)“半導(dǎo)體晶片處理腔室及半導(dǎo)體處理設(shè)備”專利獲授權(quán)
北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司的“半導(dǎo)體晶片處理腔室及半導(dǎo)體處理設(shè)備”專利獲批。許可公告日為11月14日，許可公告號(hào)為cn111799191b。
根據(jù)發(fā)明專利要點(diǎn)，該公司提供的一種半導(dǎo)體晶片處理腔室及半導(dǎo)體處理設(shè)備；半導(dǎo)體晶片處理腔室包括腔體、設(shè)置在該腔體內(nèi)可沿豎直方向移動(dòng)的片盒和設(shè)置在腔體內(nèi)的加熱組件，還包括溫度檢測(cè)組件，該溫度檢測(cè)組件的檢測(cè)部為溫度檢測(cè)板，該溫度檢測(cè)板設(shè)置在腔體內(nèi)，且與腔體固定連接，用于檢測(cè)腔體的內(nèi)部溫度。
本發(fā)明提供的半導(dǎo)體晶片處理腔室可以解決現(xiàn)有熱電偶的導(dǎo)線連接安全問題。
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