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衍梓裝備:業(yè)內(nèi)首款改進(jìn)工藝SiC柵氧制備設(shè)備

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-12-08 14:46 ? 次閱讀
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新能源汽車、光伏、儲能等新興市場的強(qiáng)力推進(jìn)下,sic的igbt市場替代加快,但是成熟的sic比igbt技術(shù)仍在持續(xù)改善的過程中,為了加快sic的大規(guī)模市場上市企業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈條sic正在加快相關(guān)技術(shù)開發(fā)。

其中,成立于2020年的衍梓裝備是國內(nèi)領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)備公司,聚焦于硅基外延環(huán)節(jié)及SiC的晶圓制造環(huán)節(jié)。公司發(fā)展迅速,目前已形成制程段完整設(shè)備矩陣,實(shí)現(xiàn)主要客戶全覆蓋。創(chuàng)新國內(nèi)技術(shù)對半導(dǎo)體領(lǐng)域相關(guān)設(shè)備的替代和升級。

衍梓裝備擁有業(yè)界最好的研究開發(fā)組。核心技術(shù)團(tuán)隊(duì)來自國際知名的idm, foundry,設(shè)備和材料等大工廠,包括零部件,制作工程,材料,設(shè)備及模擬等領(lǐng)域,具有數(shù)十年的生產(chǎn)和研發(fā)經(jīng)驗(yàn)。公司建設(shè)1000條以上測試生產(chǎn)線,瞄準(zhǔn)尖端薄膜研究開發(fā)中心、電力、射頻及先進(jìn)制程研究設(shè)備及技術(shù),與主要客戶形成良好的研究合作能力。

在硅基領(lǐng)域包括微分化和關(guān)注方向,產(chǎn)品差別化sto等離子表面處理設(shè)備,高可靠性的厚設(shè)備;碳化領(lǐng)域硅外延生長的有特色的技術(shù)創(chuàng)新為重點(diǎn),產(chǎn)品有硅炭化硅基片處理設(shè)備、硅碳化缺點(diǎn)我電網(wǎng)氧氣制造設(shè)備,sic -硅碳化測量解決方案等。

衍梓裝備技術(shù)的自主研發(fā),產(chǎn)品是根據(jù)顧客的要求深入理解的基礎(chǔ)上進(jìn)行技術(shù)革新,可以為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品,為客戶提高收率和生產(chǎn)效率,提高產(chǎn)品的一貫性,降低客戶的生產(chǎn)費(fèi)用。

在SiC制造領(lǐng)域,高溫離子注入機(jī)、金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉淀MOCVD以及柵氧制備設(shè)備是SiC領(lǐng)域的三大核心設(shè)備。在團(tuán)隊(duì)全力攻關(guān)下,衍梓裝備成功推出低缺陷SiC柵極氧化層制備設(shè)備。

在極端工作條件下,碳化硅器件的可靠性對保證系統(tǒng)的穩(wěn)定運(yùn)行起著非常重要的作用,主要問題有雪崩失效、短路失效和浪涌失效等。器件的短路失效和浪涌失效除了熱失效原因外,高溫下場氧區(qū)斷裂或鋁熔化破壞柵氧導(dǎo)致柵源短路也是兩個原因,這對于沉積、熱氧化工藝也提出了更高的要求。

相較于競品所采用含一氧化氮高溫工藝,衍梓裝備設(shè)備采用改進(jìn)工藝,在各項(xiàng)指標(biāo)性能上均具備較強(qiáng)優(yōu)勢,切實(shí)有效解決產(chǎn)業(yè)痛點(diǎn),其優(yōu)勢包括但不限于:

1、大幅提高晶體管的性能;

2、降低碳化硅氧化層生成成本;

3、大幅提高可靠性;

4、有助于碳化硅器件降低線寬;

5、有效降低對國外高溫零部件的依賴;

6、大幅降低碳化硅器件整體成本。

衍梓裝備由此也成為國內(nèi)第一家推出新一代低缺陷柵氧制備設(shè)備的設(shè)備企業(yè)。

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