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廈門(mén)大學(xué)聯(lián)合三安集成實(shí)現(xiàn)SAW濾波器在線光刻控頻技術(shù)新突破

MEMS ? 來(lái)源:兩江科技評(píng)論 ? 2024-03-11 14:51 ? 次閱讀
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基于鉭酸鋰(LiTaO3,LT)晶圓的聲表面波(Surface acoustic wave, SAW)諧振器是現(xiàn)代移動(dòng)通信設(shè)備中濾波器的關(guān)鍵電子元件,是5G通信發(fā)展的重要組成部分,關(guān)乎國(guó)家新一代通信技術(shù)戰(zhàn)略。在通信設(shè)備中,濾波器通常用于隔離不同的通信頻帶,避免串?dāng)_和噪聲信號(hào),并與其他部件一起集成為功能更為強(qiáng)大的多工器。由于相鄰頻帶的頻率非常接近,SAW諧振器的頻率過(guò)度偏移將導(dǎo)致在兩個(gè)相鄰頻帶之間產(chǎn)生干擾信號(hào)。因此,工業(yè)集成制造過(guò)程中迫切需要對(duì)SAW諧振器實(shí)現(xiàn)高精度工作頻率控制。由于原始的LT晶圓通常具有較高透光率,在紫外光刻過(guò)程中存在嚴(yán)重的多次反射,極大影響了SAW諧振器的制造精度,進(jìn)而妨礙了器件諧振頻率的精準(zhǔn)控制。

在過(guò)去的幾年里,研究人員試圖克服原始LT晶圓中多次紫外反射的瓶頸,特別是通過(guò)使用鐵摻雜和還原等方法來(lái)調(diào)控LT晶圓(rFe:LT)的光學(xué)特性,以提高SAW諧振器的制造精度。為了表征摻雜和還原處理后晶圓的一致性與均勻性,通常需要使用傳統(tǒng)的紫外-可見(jiàn)光譜儀測(cè)量有限數(shù)量的雙面拋光樣片,這種方法不僅增加了額外的工序和成本,而且影響后續(xù)的光刻工藝(根據(jù)IEC國(guó)際標(biāo)準(zhǔn),在工業(yè)產(chǎn)線上采用單面拋光晶圓進(jìn)行SAW諧振器制造)。到目前為止,對(duì)單面拋光的rFe:LT 晶圓直接進(jìn)行表征的研究鮮有報(bào)道。因此,在工業(yè)制造中,亟需一種快速無(wú)損的方法來(lái)實(shí)時(shí)檢測(cè)rFe:LT晶圓的光學(xué)特性,以提高SAW諧振器制造精度,并有力控制其工作頻率。

近日,廈門(mén)大學(xué)國(guó)家示范性微電子學(xué)院、電磁聲學(xué)研究院的朱錦鋒教授團(tuán)隊(duì)聯(lián)合泉州市三安集成電路有限公司的研究人員開(kāi)展聯(lián)合攻關(guān),通過(guò)無(wú)損的光學(xué)比色技術(shù),對(duì)rFe:LT晶圓光學(xué)特性進(jìn)行實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)(圖1),實(shí)現(xiàn)了SAW諧振器的精準(zhǔn)頻率控制并極大提高了產(chǎn)品良率。該研究通過(guò)rFe:LT晶圓的光譜建立晶圓光學(xué)顏色特性和SAW諧振頻率之間的關(guān)系。研究結(jié)果表明,晶圓級(jí)比色法可以通過(guò)提高光刻過(guò)程中諧振器叉指電極(IDT)寬度的制造精度來(lái)精準(zhǔn)控制SAW器件諧振頻率。該方案為顯著提高移動(dòng)通信SAW器件諧振性能及其制造成品率提供有力的通用工具,相關(guān)科研成果以“Optical Colorimetric LiTaO3Wafers for High-Precision Lithography on Frequency Control of SAW Devices”為題發(fā)表在《Photonics Research》期刊上(DOI: 10.1364/PRJ.499795)。

此外,該檢測(cè)技術(shù)已由三安集團(tuán)旗下福建晶安光電股份有限公司牽頭,協(xié)同廈門(mén)大學(xué)電磁聲學(xué)研究院、泉州三安集成、中國(guó)電科集團(tuán)二十六所、無(wú)錫好達(dá)電子等多家單位制定中國(guó)團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn),相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)(T/CECA 83-2023 鉭酸鋰和鈮酸鋰還原單晶晶片明度和色差技術(shù)要求及測(cè)量方法)于2023年6月通過(guò)中國(guó)電子元件行業(yè)協(xié)會(huì)發(fā)布與實(shí)施,并同時(shí)推進(jìn)IEC 62276的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)修訂申請(qǐng)。

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圖1 SAW器件的晶圓級(jí)比色控頻技術(shù)示意圖與自動(dòng)化在線測(cè)試裝置

研究亮點(diǎn)

在SAW濾波器生產(chǎn)過(guò)程中,叉指電極IDT的線寬(wKgZomXuqhyAMofSAAAIq0KRaHk358.jpg)是影響其頻率響應(yīng)的關(guān)鍵因素,該研究將IDT線寬與晶圓外觀顏色建立關(guān)聯(lián)體系,通過(guò)快速在線監(jiān)測(cè)晶圓的顏色特性,實(shí)現(xiàn)對(duì)SAW濾波器精準(zhǔn)頻率控制的目的。為了實(shí)現(xiàn)快速在線監(jiān)測(cè),該研究采用無(wú)損的光學(xué)比色法來(lái)對(duì)晶圓外觀進(jìn)行明度(wKgZomXuqhyAK02ZAAACIdi2LQw739.jpg)與色差(wKgaomXuqhyAAa_5AAALw9BWokc161.jpg)的檢測(cè)。如圖2所示,通過(guò)測(cè)量晶圓的wKgZomXuqhyAK02ZAAACIdi2LQw739.jpg值可以快速區(qū)分不同外觀特性的晶圓。

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圖2 色彩多樣的SAW濾波器LT晶圓襯底展示

如圖3(a)所示,較大wKgZomXuqhyAK02ZAAACIdi2LQw739.jpg值的晶圓具有更高的透光率與更低的吸收率,這引起紫外光刻過(guò)程中更強(qiáng)的多次反射,使得IDT線寬大幅超出掩膜版設(shè)計(jì)尺寸;相比之下,基于較小wKgZomXuqhyAK02ZAAACIdi2LQw739.jpg值晶圓所制備的IDT線寬則更接近掩模板設(shè)計(jì)尺寸?;谶@樣的原理,該研究還進(jìn)一步建立了明度與色差對(duì)應(yīng)不同IDT線寬與均勻性的關(guān)系,如圖3(b)和圖3(c)所示。結(jié)果顯示IDT線寬與明度呈現(xiàn)高度相關(guān)性, 而色差越小意味著IDT線寬的均一性越好。這說(shuō)明采用該研究所提出來(lái)的方法可以對(duì)晶圓進(jìn)行快速在線管理,以達(dá)到提升光刻工藝準(zhǔn)確性的目的。該研究的成果表明基于色度辨識(shí)方法在線監(jiān)測(cè)晶圓外觀屬性對(duì)于實(shí)現(xiàn)SAW濾波器的精準(zhǔn)頻率控制尤為重要。

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圖3 (a) 不同明度的LT晶片光刻原理示意圖。(b)明度與IDT線寬的關(guān)系。(c) 色差與IDT線寬均一性的關(guān)系。

最后,通過(guò)這種方法研究者們制備了Band 5雙工器,其中一個(gè)代表性SAW諧振器的SEM表征圖如圖4(a)所示,顯示出所制備的IDT線寬具有良好的均勻性。進(jìn)一步分析了其頻率相關(guān)響應(yīng),如圖4(b)所示,模擬仿真與實(shí)驗(yàn)測(cè)量顯示出高度一致的結(jié)果,這表明通過(guò)所提出的方法可以精確地控制SAW諧振器的頻率響應(yīng)。

最后,通過(guò)比較不同晶圓的色差來(lái)評(píng)估晶圓上器件諧振頻率均勻性,如圖4(d)所示。數(shù)據(jù)表明,色差為1.63的比色差為3.15的具有更均勻的諧振和反諧振頻率分布。因此,晶圓上色差參數(shù)可用于晶圓的良率管理,這也進(jìn)一步確保了SAW濾波器的在線精準(zhǔn)頻率控制。

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圖4 (a) SAW諧振器的SEM圖,其中SAW波長(zhǎng)為4.5μm。(b) SAW諧振器在兩個(gè)不同IDT寬度下模擬的相關(guān)導(dǎo)納曲線,對(duì)應(yīng)于兩個(gè)不同明度值下的測(cè)量對(duì)應(yīng)值。(c) 具有兩個(gè)不同明度值的rFe:LT晶圓的器件諧振和反諧振頻率分布。(d) 具有兩個(gè)不同色差值的rFe:LT晶圓片上共振和反共振頻率區(qū)域分布圖。

總結(jié)與展望

綜上所述,該工作提出了一種基于還原鐵摻雜LT晶圓材料的無(wú)損監(jiān)測(cè)方法,用于單面拋光晶圓的快速在線測(cè)量。通過(guò)明度和色差分析了摻雜和還原對(duì)晶圓紫外-可見(jiàn)光譜性能的影響。研究表明,明度的調(diào)諧可以對(duì)SAW諧振和反諧振頻率進(jìn)行高精度控制,晶圓上的色差為器件均勻性的標(biāo)準(zhǔn)限定提供了重要的檢測(cè)指標(biāo)。該研究為大規(guī)模生產(chǎn)SAW諧振器奠定了強(qiáng)有力的基礎(chǔ)工具,將大大提高移動(dòng)通信濾波器芯片的制造質(zhì)量和效率。

廈門(mén)大學(xué)朱錦鋒教授為該研究工作的唯一通訊作者,朱教授課題組集成電路產(chǎn)業(yè)博士生枋明輝、電磁場(chǎng)與微波技術(shù)專業(yè)博士生謝奕濃為論文共同第一作者、廈門(mén)大學(xué)國(guó)家集成電路產(chǎn)教融合創(chuàng)新平臺(tái)班碩士生薛方琦及三安集成多位同仁為該工作提供了相關(guān)技術(shù)支持。此外,福建晶安光電楊勝裕總經(jīng)理、寧波東方理工大學(xué)柳清伙教授也對(duì)該研究提供了必要的指導(dǎo)和幫助。該研究得到國(guó)家自然科學(xué)基金(62175205)、2022福建省“雛鷹計(jì)劃”青年拔尖人才項(xiàng)目以及福建省杰出青年科學(xué)基金(2020J06009) 等研究課題的支持。

論文鏈接:

https://www.researching.cn/articles/OJ486b9bcf97c6f7e4




審核編輯:劉清

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原文標(biāo)題:廈門(mén)大學(xué)聯(lián)合三安集成實(shí)現(xiàn)SAW濾波器在線光刻控頻技術(shù)新突破

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