蘋果測(cè)試新抗反射涂層技術(shù)，提升iPhone相機(jī)成像水平
據(jù)可靠消息來(lái)源 yeux1122 在其 Naver 博客中透露，蘋果公司正在進(jìn)行一項(xiàng)全新的抗反射光學(xué)涂層技術(shù)測(cè)試，旨在降低鏡頭炫光及鬼影等問題，進(jìn)一步提升手機(jī)照片畫質(zhì)。
據(jù)悉，蘋果正在尋求采用全新原子層沉積（ALD）設(shè)備來(lái)改良iPhone相機(jī)鏡頭的生產(chǎn)工藝。
原子層次沉積（ALD）乃是一種采用連續(xù)氣相化學(xué)反應(yīng)方式在基板表面對(duì)物質(zhì)實(shí)行逐層鍍膜的工藝。無(wú)疑，ALD為一種精密納米技術(shù)，能夠精準(zhǔn)控制并完成納米級(jí)別超薄薄膜沉積。
在相機(jī)鏡頭領(lǐng)域，ALD工藝主要用于噴涂抗反射涂層，以減輕攝影中的偽影現(xiàn)象。如在強(qiáng)烈陽(yáng)光直射鏡頭時(shí)，可能導(dǎo)致拍攝出的圖像出現(xiàn)條紋或光暈，但通過ALD處理，可有效減少此類圖像失真情況。
除此之外，ALD所用材料還能保護(hù)相機(jī)鏡頭免受環(huán)境因素破壞，且不影響傳感器捕捉光線的效能。
文章指出，蘋果計(jì)劃將此工藝運(yùn)用至iPhone的Pro機(jī)型中，有望在iPhone16 Pro系列乃至明年的iPhone17 Pro系列上得到體現(xiàn)。
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