全球知名的DRAM大廠美光，早在去年就已宣布了其在日本廣島的重大投資計(jì)劃。據(jù)悉，美光計(jì)劃斥資6,000至8,000億日元，在廣島興建一座全新的DRAM工廠。這一項(xiàng)目預(yù)計(jì)將在2026年初破土動(dòng)工，最快有望在2027年底前完成廠房建設(shè)、機(jī)臺(tái)設(shè)備安裝，并正式投入營運(yùn)。

新廠的選址頗具深意，將緊鄰美光已建成的Fab15工廠。這一地理位置的選擇不僅有利于資源的整合與共享，更能充分利用現(xiàn)有的基礎(chǔ)設(shè)施和供應(yīng)鏈網(wǎng)絡(luò)，確保新廠建設(shè)的順利進(jìn)行。

據(jù)美光透露，新廠初期規(guī)劃主要聚焦于DRAM晶圓的生產(chǎn)，暫不涉及后段的封裝及測試環(huán)節(jié)。而產(chǎn)能方面，將重點(diǎn)投向HBM（高帶寬內(nèi)存）產(chǎn)品，以滿足市場對(duì)高性能、大容量存儲(chǔ)器的不斷增長的需求。

尤為值得一提的是，美光廣島DRAM新廠將首次引入極紫外光（EUV）光刻設(shè)備。這一技術(shù)的引入，將使得新廠能夠生產(chǎn)先進(jìn)的1-Gamma制程DRAM，并在后續(xù)逐步導(dǎo)入1-Delta制程。隨著制程技術(shù)的不斷升級(jí)，EUV設(shè)備的安裝數(shù)量也將大幅增加，并將采用更多高標(biāo)準(zhǔn)的無塵室來確保生產(chǎn)環(huán)境的純凈度。

美光此次在日本廣島興建DRAM新廠，不僅是對(duì)其全球布局的一次重要補(bǔ)充，更是對(duì)先進(jìn)制程技術(shù)的一次大膽嘗試。隨著新廠的建成投產(chǎn)，美光有望在DRAM市場上繼續(xù)保持領(lǐng)先地位，為全球客戶提供更優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù)。