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芯片封裝中的FOPLP工藝介紹

深圳市賽姆烯金科技有限公司 ? 來(lái)源:深圳市賽姆烯金科技有限 ? 2025-01-20 11:02 ? 次閱讀
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Hello,大家好,今天我們來(lái)分享下什么是芯片封裝中的FOPLP工藝,

受益于消費(fèi)電子5G、汽車電子IoT 等需求拉動(dòng),全球半導(dǎo)體材料市場(chǎng)行業(yè)規(guī)模整體呈上升趨勢(shì),半導(dǎo)體封裝的重要性進(jìn)一步提高,行業(yè)對(duì)載板和晶圓制程金屬化產(chǎn)品的需求進(jìn)一步擴(kuò)大。

由于摩爾定律在7nm以下的微觀科技領(lǐng)域已經(jīng)難以維持之前的發(fā)展速度,優(yōu)異的后端封裝工藝對(duì)于滿足低延遲、更高帶寬和具有成本效益的半導(dǎo)體芯片的需求變得越來(lái)越重要。

而扇出型封裝因?yàn)槟軌蛱峁┚哂懈逫/O密度的更大芯片,大幅減少系統(tǒng)的尺寸,正成為應(yīng)對(duì)異構(gòu)集成挑戰(zhàn)的不二之選。

扇出型封裝主要分為a.扇出型晶圓級(jí)封裝(FOWLP)和b.扇出型面板級(jí)封裝(FOPLP)。

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FOPLP雖然出現(xiàn)較晚,但是潛力巨大。FOPLP有更大的面板尺寸和更高的制造效率,封裝的單個(gè)成本更低,先進(jìn)程度更好。相較于其他封裝技術(shù),其可以減少繞線層數(shù),同時(shí)滿足降低成本和封裝先進(jìn)晶圓的要求,非常適合大型封裝的FAB。

但是提高FOPLP的鍍銅性能一直都是挑戰(zhàn)。關(guān)鍵是如何形成高均勻性的膜厚和高解析度的銅線路,尤其針對(duì)RDL工藝的同面性要求更高。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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原文標(biāo)題:芯片制造FAB中的封裝工藝--FOPLP(扇出型面板級(jí)封裝)

文章出處:【微信號(hào):深圳市賽姆烯金科技有限公司,微信公眾號(hào):深圳市賽姆烯金科技有限公司】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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