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傳輸線法(TLM)優(yōu)化接觸電阻:實現(xiàn)薄膜晶體管電氣性能優(yōu)化

Flexfilm ? 2025-07-22 09:53 ? 次閱讀
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本文通過傳輸線方法(TLM)研究了不同電極材料(Ti、Al、Ag)對非晶Si-Zn-Sn-O(a-SZTO)薄膜晶體管TFT)電氣性能的影響,通過TLM接觸電阻測試儀提取了TFT的總電阻(RT)接觸電阻(RC),結(jié)合電學表征和能帶分析,發(fā)現(xiàn)Ti電極因形成歐姆接觸功函數(shù)差最小,顯著提升了遷移率和亞閾值擺幅等關(guān)鍵參數(shù)。

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實驗設(shè)計與制備

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97c17b34-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

(a)a-SZTO TFT結(jié)構(gòu)示意圖(底柵交錯結(jié)構(gòu))(b)TLM測試樣品結(jié)構(gòu)示意圖

采用重摻雜 p 型 Si 襯底(含 100 nm SiO?),經(jīng)清洗后通過射頻濺射制備a-SZTO 溝道層(濺射條件:10?? mTorr、40 sccm Ar、50 W RF 功率)。TFT 為交錯底柵結(jié)構(gòu),源漏電極(Ti/Al/Ag)分別通過電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、直流濺射沉積,后經(jīng)退火和圖案化處理。TLM 樣品用于電阻分析,溝道長度 10-100 μm,寬度 250 μm。

2

電學性能

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(a)不同S/D電極的a-SZTO TFT轉(zhuǎn)移曲線(b)a-SZTO TFT電學參數(shù)對比

傳輸曲線分析:不同電極的IDS-VGS曲線顯示Ti電極器件性能最優(yōu)。關(guān)鍵參數(shù)對比:

  • Ti電極:VTH=10.1 V, μFE=19.21 cm2/V·s, S.S=0.64 V/dec;
  • Al電極:μFE=18.64 cm2/V·s;
  • Ag電極:μFE=1.33 cm2/V·s(性能最差)。

成因解釋:Ag電極形成肖特基接觸(非線性電流行為),增大載流子注入勢壘。

3

能帶分析

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97d8463e-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpga-SZTO溝道與不同S/D電極的能帶圖(a)Ti,(b)Al,(c)Ag

能帶分析:不同S/D電極材料的功函數(shù)差異導致了a-SZTO通道層的帶彎曲。Ti/Al(功函數(shù)<通道層)形成歐姆接觸,Ag(功函數(shù)>通道層)形成肖特基接觸(勢壘高度~1.07 eV)。Ti的功函數(shù)與a-SZTO通道層的功函數(shù)差異最小,因此具有最佳的電學特性。

4

TLM法與接觸電阻

flexfilm

97e0a842-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpga-SZTO TFT的I-V曲線;(a)Ti;(b)Al;(c)Ag電極

97eee8d0-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

TLM法分析的(a-c)總電阻RT與溝道長關(guān)系;(d)接觸電阻RC對比

I-V特性(圖4):Ti/Al電極線性特征(歐姆接觸),Ag非線性(肖特基接觸)。總/接觸電阻提取97fcc374-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.png(RT為總電阻,RS為方阻,RC為接觸電阻)。結(jié)果:Ti電極接觸電阻最低(5.5 Ω·cm2),Ag最高(因肖特基勢壘),與μFE趨勢一致。薄膜性能關(guān)聯(lián):高RC劣化μFE和S.S,Ti電極通過小功函數(shù)差優(yōu)化了界面特性。結(jié)果表明,Ti電極(功函數(shù)4.33 eV)與a-SZTO通道層形成歐姆接觸,接觸電阻最低(5.5 Ω·cm2),且功函數(shù)差最小,導致器件性能最優(yōu)。本研究探討了不同源/漏(S/D)電極材料(Ag、Al、Ti)對非晶硅-鋅-錫-氧化物(a-SZTO)薄膜晶體管(TFT)性能的影響。通過傳輸線方法(TLM)提取了器件的總電阻(RT)接觸電阻(RC),結(jié)合電學表征和能帶分析,揭示了功函數(shù)差異對接觸界面特性的關(guān)鍵作用。

TLM接觸電阻測試儀

flexfilm

98092eac-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.png

TLM接觸電阻測試儀用于測量材料表面接觸電阻或電阻率的專用設(shè)備,廣泛應用于電子元器件、導電材料、半導體、金屬鍍層、光伏電池等領(lǐng)域。

  • 靜態(tài)測試重復性≤1%,動態(tài)測試重復性≤3%
  • 線電阻測量精度可達5%或0.1Ω/cm
  • 接觸電阻率測試與線電阻測試隨意切換
  • 定制多種探測頭進行測量和分析

TLM接觸電阻測試儀可以精確提取不同電極材料(Ti、Al、Ag)薄膜晶體管(TFT)的總電阻(RT)接觸電阻(RC)揭示功函數(shù)差與電氣特性的關(guān)系。原文參考:Work function effect of metal electrodes on the performance of amorphous Si–Zn–Sn–O thin?flm transistors investigated by transmission line method

*特別聲明:本公眾號所發(fā)布的原創(chuàng)及轉(zhuǎn)載文章,僅用于學術(shù)分享和傳遞行業(yè)相關(guān)信息。未經(jīng)授權(quán),不得抄襲、篡改、引用、轉(zhuǎn)載等侵犯本公眾號相關(guān)權(quán)益的行為。內(nèi)容僅供參考,如涉及版權(quán)問題,敬請聯(lián)系,我們將在第一時間核實并處理。

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