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普萊信成立TCB實驗室,提供CoWoS、HBM、CPO、oDSP等從打樣到量產(chǎn)的支持

焦點訊 ? 來源:焦點訊 ? 作者:焦點訊 ? 2025-08-07 08:58 ? 次閱讀
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為響應(yīng)客戶對先進封裝技術(shù)的迫切需求,國內(nèi)熱壓鍵合(TCB)設(shè)備領(lǐng)先企業(yè)普萊信正式成立TCB實驗室。該實驗室旨在為客戶提供覆蓋研發(fā)、打樣至量產(chǎn)的全閉環(huán)支持,重點服務(wù)于四大前沿封裝領(lǐng)域:一、2.5D封裝:如CoWoS-S、CoWoS-L封裝等;二、3D封裝:如HBM的多層DRAM芯片堆疊鍵合;三、光電共封(CPO)、oDSP和光模塊相關(guān)封裝:PIC(光子芯片)/EIC(電芯片)與ASIC(電子交換芯片)異質(zhì)集成;1.6T光模塊的oDSP(數(shù)字信號處理器),隨著芯片變大,傳統(tǒng)的SMT+回流焊工藝容易導(dǎo)致翹曲,采用TCB熱壓鍵合工藝,能完美解決大芯片翹曲問題;四、特種需求:軍工/醫(yī)療芯片的抗沖擊封裝、低溫鍵合等定制化開發(fā)。


TCB 成為突破先進封裝瓶頸的關(guān)鍵

隨著芯片制程迭代與算力需求爆發(fā),高端芯片(如GPU H100/H200、HBM及oDSP等)正向更大尺寸、更高I/O密度、更小微凸點(Bump)方向演進。傳統(tǒng)倒裝回流焊工藝在貼裝精度、翹曲控制、熱漂移、空洞率等的不足,導(dǎo)致良率低、失效多,尤其當(dāng)Bump間距<50μm或芯片面積增大時失效風(fēng)險劇增。熱壓鍵合(TCB)通過局部加熱頭(Bond Head)對單個凸點精準(zhǔn)施加熱量(150–300℃)與壓力(10–200 MPa),在惰性氣體腔體內(nèi)實現(xiàn)微米級對位與鍵合,實時監(jiān)控溫度-壓力-位移曲線,并支持無助焊劑(Fluxless)工藝,形成可靠互連,成為突破先進封裝瓶頸的核心方案。

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TCB相對于倒裝回流焊的優(yōu)勢對比

TCB技術(shù)的核心優(yōu)勢:一、高密度互連能力:支持每平方毫米10,000個凸點(倒裝焊僅~2,000),滿足HBM多層DRAM芯片堆疊鍵合、CoWoS硅中介層等2.5D/3D封裝需求; 二、翹曲抑制:局部加熱+共面性校準(zhǔn)(誤差<3μm),解決大尺寸芯片(如英偉達H系列>800mm2)因CTE差異導(dǎo)致的邊緣脫焊問題; 三、工藝靈活性:兼容TC-NCF和MR-MUF等不同鍵合材料,適配多場景; 四、邁向先進制程:支持下一代HBM4的無助焊劑鍵合,為3μm以下凸點間距鋪路。

Loong系列TCB設(shè)備助力國產(chǎn)芯突破

隨著AI芯片與HBM需求爆發(fā)(TCB設(shè)備市場2027年將達15億美元),傳統(tǒng)回流焊在精度與良率上已無法支撐摩爾定律延續(xù)。TCB通過局部熱壓控制實現(xiàn)微米級互連,成為HBM堆疊、大算力芯片封裝的剛需工藝。普萊信憑借Loong系列打破國際壟斷,其開放實驗室為CoWoS、CPO及特種領(lǐng)域提供快速打樣通道,是國內(nèi)發(fā)展先進封裝的關(guān)鍵支點。未來隨著HBM層數(shù)增至16+層及Bump直徑進一步微縮,TCB技術(shù)壁壘將持續(xù)提升,而國產(chǎn)設(shè)備的成熟將加速本土產(chǎn)業(yè)鏈話語權(quán)重構(gòu)。

審核編輯 黃宇

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