KLA Instruments 小課堂

定期分享KLA Instruments旗下產(chǎn)品的各種技術(shù)資料、應(yīng)用筆記和使用指南。

旗下產(chǎn)品包括：輪廓儀、納米壓痕儀、薄膜測(cè)厚儀、方阻測(cè)量?jī)x以及晶圓缺陷檢測(cè)系統(tǒng)。

9月10日–9月12日

KLA Instruments將亮相

第二十六屆中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì)

China International Optoelectronic Exposition

第二十六屆中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì)（CIOE中國(guó)光博會(huì)）將于2025年9月10-12日在深圳國(guó)際會(huì)展中心舉辦。作為覆蓋光電全產(chǎn)業(yè)鏈的綜合型展會(huì)，CIOE中國(guó)光博會(huì)匯聚了來(lái)自全球超30個(gè)國(guó)家和地區(qū)的超3800家的優(yōu)質(zhì)參展企業(yè)，八大主題展覆蓋信息通信、精密光學(xué)、攝像頭技術(shù)及應(yīng)用、激光及智能制造、紅外、紫外、智能傳感、新型顯示、AR & VR、光電子創(chuàng)新等板塊， 是尋找研發(fā)和生產(chǎn)制造中所需要的材料、器件、設(shè)備及解決方案的一站式高效采購(gòu)平臺(tái)，也是精準(zhǔn)商貿(mào)需求配對(duì)，快速拓展商業(yè)社交圈，把握行業(yè)發(fā)展前沿資訊和動(dòng)態(tài)的商貿(mào)平臺(tái)。

KLA Instruments將借此次機(jī)會(huì)展出Zeta光學(xué)輪廓儀，iNano納米壓痕儀，F(xiàn)ilmetrics膜厚儀，F(xiàn)ilmetrics方塊電阻測(cè)量?jī)x等多款重點(diǎn)機(jī)型，期待您的蒞臨。

展會(huì)時(shí)間：2025年9月10日–12日

展會(huì)地點(diǎn)：深圳國(guó)際會(huì)展中心

寶安新館7號(hào)館

展位號(hào)：7B13

先睹為快！精華提前劇透！

本期課程：

Zeta缺陷檢測(cè)和表征的應(yīng)用

Zeta光學(xué)輪廓儀缺陷標(biāo)記

失效分析依賴于在樣品上識(shí)別出一個(gè)關(guān)注區(qū)域（ROI），以便在掃描電子顯微鏡（SEM）、聚焦離子束（FIB）或原子力顯微鏡（AFM）下進(jìn)行后續(xù)詳細(xì)分析。一個(gè)方法是使用手持刻刀在觀光學(xué)顯微鏡下對(duì)樣品進(jìn)行標(biāo)記。當(dāng)被標(biāo)記的特征比較大且與周?chē)钠渌卣髅黠@不同時(shí)，這種方法是合適的。然而，標(biāo)記小尺寸的確實(shí)是具有挑戰(zhàn)性的，較小的物鏡工作距離限制了手持刻劃工具靠近關(guān)鍵區(qū)域的能力。從而導(dǎo)致關(guān)鍵區(qū)域在分析工具中難以找到。

KLA Instruments的Zeta光學(xué)輪廓儀開(kāi)發(fā)了原位刻劃功能，解決了這一問(wèn)題。光學(xué)輪廓儀集成了的劃線物鏡，可以輕松定位和標(biāo)記ROI，以便進(jìn)一步分析。劃線物鏡安裝在電動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)臺(tái)，在電動(dòng)載臺(tái)的配合下，使得刻劃標(biāo)記可以精確且快速地放置在靠近關(guān)注區(qū)域的位置。圖1中顯示了物鏡轉(zhuǎn)臺(tái)上的劃線物鏡。

圖1. 安裝在物鏡轉(zhuǎn)臺(tái)上的劃線物鏡

劃線物鏡可在各種硬度范圍的材料輕松地刻劃?？梢赃x擇三種不同的金剛石尖端曲率半徑（2微米、5微米和10微米）以滿足其樣本的特定要求。圖2展示了鋁、玻璃和硅上的刻劃功能標(biāo)記，盡管硬度有所不同，劃線物鏡在這三種材料上都能清晰地留下標(biāo)記。由劃線物鏡施加在樣品上的負(fù)載是可調(diào)的，還能夠在硬度范圍從比鋁軟到比硅硬的其他材料上進(jìn)行標(biāo)記。幾個(gè)書(shū)寫(xiě)模式預(yù)先編程以滿足各種客戶需求。圖3顯示了一個(gè)圖案化的十字，圍繞并指向關(guān)注區(qū)域。十字每條線的末端與ROI位置之間的距離可以進(jìn)行調(diào)整。圖4展示了一種錯(cuò)開(kāi)的模式，這種模式可幫助快速定位ROI所在方向，并找到ROI的位置。

圖2. 劃線物鏡可在不同硬度的材料上標(biāo)記，包括鋁（左）、玻璃（中）和硅（右）

圖3.交叉標(biāo)記模式，ROI區(qū)域位于交叉標(biāo)記中間

圖4. 錯(cuò)開(kāi)標(biāo)記模式

刻劃功能與自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)（AOI）互聯(lián)

AOI是用于掃描樣品缺陷的大小和位置的技術(shù)。AOI在以下方面非常有用：（1）定位難以發(fā)現(xiàn)的孤立缺陷，（2）在存在多個(gè)缺陷時(shí)收集統(tǒng)計(jì)尺寸分布，以及（3）缺陷表征。使用刻劃功能標(biāo)記缺陷的位置以便進(jìn)一步研究，并導(dǎo)出缺陷KLARF文件可快速追蹤缺陷位置。圖5展示了使用AOI功能發(fā)現(xiàn)了兩個(gè)缺陷的例子。

圖5. Zeta AOI缺陷檢測(cè)應(yīng)用程序定位的缺陷示例

AOI可生成缺陷列表并進(jìn)行分類(lèi)。圖 6 展示了缺陷列表中選擇了特定缺陷，然后將其定位在視場(chǎng)中，接著選擇更高倍數(shù)的物鏡進(jìn)行三維數(shù)據(jù)收集。

圖6. Zeta AOI分析能力的缺陷追蹤

AOI缺陷檢測(cè)、原位刻劃功能和三維輪廓測(cè)量等功能的協(xié)同配合，可實(shí)現(xiàn)缺陷表征?？梢詮腁OI缺陷列表中選擇特定的缺陷，使用劃線物鏡對(duì)其進(jìn)行標(biāo)記，并對(duì)缺陷進(jìn)行三位輪廓表征，并通過(guò)標(biāo)記以便以后進(jìn)行后續(xù)詳細(xì)分析。圖 7 展示了測(cè)量缺陷的高度和橫向尺寸結(jié)果。

圖7.AOI定位缺陷進(jìn)行缺陷三維輪廓表征

結(jié)論

Zeta光學(xué)輪廓儀利用ZDot成像技術(shù)，提供靈活且強(qiáng)大的測(cè)量功能，用于表征各種樣品。劃線物鏡能夠精確標(biāo)記ROI在硬材料和軟材料上的位置，以便后續(xù)分析。將劃線物鏡與自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)和缺陷表征相結(jié)合，提供了一種強(qiáng)大的測(cè)量功能，將測(cè)量與后續(xù)分析測(cè)量連接起來(lái)。