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高壓放大器在電場驅(qū)動的液態(tài)金屬均勻液滴實(shí)驗(yàn)中的應(yīng)用

測試技術(shù)分享 ? 來源:測試技術(shù)分享 ? 作者:測試技術(shù)分享 ? 2026-03-10 17:39 ? 次閱讀
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實(shí)驗(yàn)名稱:電場驅(qū)動的液態(tài)金屬均勻液滴生成實(shí)驗(yàn)

研究方向:流體力學(xué)、液態(tài)金屬、電場

實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?/strong>液態(tài)金屬因其兼具流動性和導(dǎo)電性的獨(dú)特特性而在電子和材料科學(xué)領(lǐng)域引起了廣泛關(guān)注。傳統(tǒng)的液態(tài)金屬液滴發(fā)生器通常依賴于壓電致動器來對射流施加機(jī)械擾動,從而控制液滴的形成。在本研究中,提出了一種新方法,通過向射流施加周期性靜電擾動,來生成均勻可控的液態(tài)金屬微滴流。通過調(diào)節(jié)噴嘴直徑、流量以及施加電壓的頻率,可以有效地調(diào)整液滴的大小和間距。此外,在不同條件下的實(shí)驗(yàn)觀測結(jié)果與理論預(yù)測之間的對比表明,瑞利-普拉托不穩(wěn)定性理論能夠準(zhǔn)確描述電場激發(fā)下的擾動生長和液滴形成過程。本研究為可控生成鎵基液態(tài)金屬液滴奠定了理論和實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ)。

測試設(shè)備:

1、液態(tài)金屬供給系統(tǒng):注射泵、25mL玻璃注射器、管道、過濾器、陶瓷噴嘴

2、電場控制系統(tǒng):函數(shù)發(fā)生器、高壓放大器AigtekATA-7015、ATA-2161)、銅環(huán)電極、高壓探頭

3、真空系統(tǒng):機(jī)械泵、分子泵、真空室

4、觀測與數(shù)據(jù)采集系統(tǒng):LED光源、高速相機(jī)、電腦、數(shù)據(jù)采集器

5、數(shù)據(jù)分析工具:基于POD的圖像處理系統(tǒng)、傅里葉變換分析工具

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圖1電場驅(qū)動的液態(tài)金屬均勻液滴生成實(shí)驗(yàn)示意圖

實(shí)驗(yàn)過程:實(shí)驗(yàn)選用鎵銦錫合金為液態(tài)金屬,組裝含供給、電場控制、真空及觀測系統(tǒng)的裝置并密封真空室,抽真空至≤8×10?3Pa后,通過注射泵使液態(tài)金屬經(jīng)噴嘴形成自然射流,再將函數(shù)發(fā)生器產(chǎn)生的信號經(jīng)高壓放大器放大后施加到銅環(huán)電極,用高速相機(jī)拍攝射流破裂過程,最后對采集的圖像進(jìn)行POD分析、傅里葉變換等處理。

實(shí)驗(yàn)結(jié)果:無電場時(shí)液態(tài)金屬射流破裂無主導(dǎo)頻率,液滴尺寸不均;施加電場后,射流破裂出現(xiàn)與電場頻率一致的主導(dǎo)頻率,液滴均勻性提升,且液滴尺寸和間距隨電場頻率增加而減小,電壓振幅可擴(kuò)展控制頻率范圍,實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)與Rayleigh-Plateau不穩(wěn)定性理論預(yù)測吻合良好,但電場控制頻率范圍有限,受自然噪聲擾動影響。

產(chǎn)品推薦:ATA-7015

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圖:ATA-7015高壓放大器指標(biāo)參數(shù)

本資料由Aigtek安泰電子整理發(fā)布,更多案例及產(chǎn)品詳情請持續(xù)關(guān)注我們。西安安泰電子Aigtek已經(jīng)成為在業(yè)界擁有廣泛產(chǎn)品線,且具有相當(dāng)規(guī)模的儀器設(shè)備供應(yīng)商,樣機(jī)都支持免費(fèi)試用。

審核編輯 黃宇

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