產(chǎn)品定位：

晶眾光電推出的 320nm 連續(xù)紫外激光器，是一款高轉(zhuǎn)換效率、高功率、長(zhǎng)壽命、結(jié)構(gòu)緊湊的深紫外光源，專為持續(xù)紫外輻照、精密加工及科學(xué)研究等高要求場(chǎng)景設(shè)計(jì)，是支撐先進(jìn)制造與前沿科研的關(guān)鍵核心光源。

核心價(jià)值：不止于參數(shù)，更在于應(yīng)用

我們的激光器不僅擁有扎實(shí)的性能指標(biāo)，更注重在實(shí)際應(yīng)用中的穩(wěn)定輸出與精準(zhǔn)適配。它不僅是實(shí)驗(yàn)室的“利器”，更是產(chǎn)線的“引擎”。

四大核心應(yīng)用領(lǐng)域

1. 持續(xù)紫外輻照光源方案

優(yōu)勢(shì)： 320nm 深紫外波長(zhǎng)，連續(xù)穩(wěn)定輸出，能量分布均勻，無脈沖波動(dòng)。

應(yīng)用： 為需要長(zhǎng)時(shí)間、恒定紫外照射的工業(yè)與科研場(chǎng)景提供可靠光源，如材料老化測(cè)試、光化學(xué)反應(yīng)誘導(dǎo)、表面改性等。

2. 紫外光刻：微納制造的“雕刻師”

優(yōu)勢(shì)： 高功率、高光束質(zhì)量(M2<1.3)，光斑圓度 >90%，直徑 3mm，發(fā)散角 <2mrad，確保曝光精度。

應(yīng)用： 精準(zhǔn)曝光光刻膠，制備亞微米級(jí)微納結(jié)構(gòu)，廣泛用于 MEMS 器件制造、微流控芯片、光子晶體等前沿微納加工領(lǐng)域。

3. 掩模檢測(cè)：半導(dǎo)體良率的“守護(hù)者”

優(yōu)勢(shì)： 光譜純凈、穩(wěn)定性高(功率穩(wěn)定性 <0.5% RMS over 8 hours)，可清晰識(shí)別微小缺陷。

應(yīng)用： 作為檢測(cè)光源，用于半導(dǎo)體掩模版的表面缺陷檢測(cè)、污染識(shí)別與圖形完整性驗(yàn)證，助力提升芯片制造良率。

4. 光譜研究：生命與材料的“探針”

優(yōu)勢(shì)： 激發(fā)效率高，可高效激發(fā)多種熒光材料;結(jié)構(gòu)緊湊，便于集成至顯微鏡或光譜系統(tǒng)。

應(yīng)用： 用于細(xì)胞代謝監(jiān)測(cè)、蛋白質(zhì)構(gòu)象分析、光催化和化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)研究等，為生物醫(yī)學(xué)與新材料研發(fā)提供關(guān)鍵激發(fā)光源。

技術(shù)亮點(diǎn)速覽

高轉(zhuǎn)換效率 & 高功率： 支持從 20mW 到 2W 多檔功率輸出，滿足不同強(qiáng)度需求。

壽命長(zhǎng) & 穩(wěn)定性強(qiáng)： 工作壽命長(zhǎng)，開機(jī)穩(wěn)定時(shí)間 20–40 分鐘，功率穩(wěn)定性 <1% RMS over 8 hours(部分型號(hào) <0.5%)，保障長(zhǎng)期實(shí)驗(yàn)與量產(chǎn)一致性。

結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單 & 易于集成： 水冷設(shè)計(jì)，尺寸緊湊(580×300×156mm)，便于嵌入現(xiàn)有設(shè)備或光學(xué)系統(tǒng)。

偏振可選： 提供線偏振或隨機(jī)偏振選項(xiàng)，適配不同應(yīng)用場(chǎng)景的光學(xué)需求。

結(jié)語

晶眾光電 320nm 連續(xù)紫外激光器，以“深紫外、穩(wěn)輸出、高精度”為核心，打通從實(shí)驗(yàn)室到產(chǎn)線的應(yīng)用閉環(huán)。無論您是從事微納制造、半導(dǎo)體檢測(cè)，還是生命科學(xué)與材料研究，這款激光器都將成為您突破技術(shù)瓶頸、提升實(shí)驗(yàn)效率的得力伙伴。

選擇晶眾光電，讓深紫外光，照亮您的創(chuàng)新之路。