“11月29日，中科院光電技術(shù)研究所宣布國(guó)家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”通過驗(yàn)收，成為全球首臺(tái)用紫外光源實(shí)現(xiàn)的22納米分辨率的***?！?/p>

這是我國(guó)成功研制出的世界首臺(tái)分辨力最高紫外超分辨光刻裝備。

該***由中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨力達(dá)到22納米，結(jié)合多重曝光技術(shù)后，可用于制造10納米級(jí)別的芯片。

超分辨率光刻鏡頭

項(xiàng)目副總設(shè)計(jì)師胡松介紹，中科院光電所此次通過驗(yàn)收的表面等離子體超分辨光刻裝備，打破了傳統(tǒng)路線格局，形成一條全新的納米光學(xué)光刻技術(shù)路線，具有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)。

項(xiàng)目副總設(shè)計(jì)師胡松研究員介紹超分辨光刻裝備研制項(xiàng)目攻關(guān)情況

本次“超分辨光刻裝備研制”通過驗(yàn)收，是中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所多年的技術(shù)積累結(jié)晶。

該***制造的相關(guān)器件已在如下科研院校的重大研究任務(wù)中取得應(yīng)用。

中國(guó)航天科技集團(tuán)公司第八研究院；

電子科技大學(xué)太赫茲科學(xué)技術(shù)研究中心；

四川大學(xué)華西醫(yī)院；

中科院微系統(tǒng)所信息功能材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。

中科院光電所科研人員操作超分辨光刻設(shè)備

“ASML的EUV***使用的13.5納米的極紫外光源，價(jià)格高達(dá)3000萬元，還要在真空下使用。”項(xiàng)目副總師胡松說，“而我們使用的365納米紫外光的汞燈，只要幾萬元一只。我們整機(jī)價(jià)格在百萬元級(jí)到千萬元級(jí)，加工能力介于深紫外級(jí)和極紫外級(jí)之間，讓很多用戶大喜過望?！?/p>

如此低成本的***，一旦量產(chǎn)，結(jié)合中國(guó)經(jīng)濟(jì)上的龐大需要，再結(jié)合中國(guó)龐大的理工人才，一個(gè)低成本的光刻工具，將造就一條極其龐大完備的芯片產(chǎn)業(yè)鏈。

不過，就此鼓吹中國(guó)打破ASML在高端***上的壟斷未免為時(shí)過早。

ASML公司簡(jiǎn)介

ASML，中文名稱為阿斯麥（中國(guó)大陸）、艾司摩爾（中國(guó)***）。是總部設(shè)在荷蘭Veldhoven的全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商之一，向全球復(fù)雜集成電路生產(chǎn)企業(yè)提供領(lǐng)先的綜合性關(guān)鍵設(shè)備。ASML一家獨(dú)大，占有大約80%的市場(chǎng)份額。

臺(tái)積電、三星、英特爾等國(guó)際半導(dǎo)體巨頭都是其客戶，并且也都開始試驗(yàn)使用這種EUV設(shè)備生產(chǎn)芯片，以便能在更小芯片面積內(nèi)，布局?jǐn)?shù)量更多的晶體管，從而讓計(jì)算設(shè)備速度更快。

畢竟目前該***制造的相關(guān)器件主要還是用于專用領(lǐng)域和特殊領(lǐng)域，距離商業(yè)化量產(chǎn)還需一段時(shí)日。

不過無論如何，這種關(guān)鍵技術(shù)，都是一種戰(zhàn)略資源，可以不先進(jìn)，也可以不成熟，但是“有它或者無它“，對(duì)國(guó)家安全的影響卻是有天壤之別的。

其實(shí)在美國(guó)封殺中興之際，ASML就聲稱將于2019年為中芯國(guó)際交付一臺(tái)EUV***。那時(shí)我們就推斷，西方國(guó)家判斷我國(guó)的***技術(shù)即將取得突破。

現(xiàn)在來看，果是如此。

西方總是會(huì)在我們掌握了技術(shù)的“前一天”，很及時(shí)地送上并不過時(shí)的技術(shù)。

但是我們并不能因此而自廢武功，自主研發(fā)的腳步一刻不能停下。不能讓“運(yùn)十“悲劇重演。