大家看到題目，一定會有疑問：什么設(shè)備能花7個億？標(biāo)題不夠準(zhǔn)確，事實上，中芯國際為了買它花了1.2億美元，即7.6億人民幣（dbq，太膨脹擅自省略了小數(shù)點后）。接下來，小編就為大家具體介紹這臺設(shè)備和這個公司！

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4.6億與7.6億

據(jù)cnBeta、環(huán)球網(wǎng)、快科技等多家媒體證實，2018年長江存儲從荷蘭阿斯麥（ASML）公司訂購的一臺***已抵達(dá)武漢。這臺***價值高達(dá)7200萬美元，約合人民幣4.6億元。

另據(jù)日經(jīng)亞洲評論（Nikkei Asian Review）報道，2018年中芯國際也向阿斯麥下單了一臺價值高達(dá)1.2億美元，即7.6億人民幣的EUV（極紫外線）***。值得一提的是，訂單價格與中芯國際17年年凈利潤1.264億美元大致相當(dāng)。這臺機(jī)器預(yù)計將于2019年初交貨。據(jù)悉，這是中芯國際向荷蘭AMSL發(fā)出的第一張訂單。

荷蘭當(dāng)?shù)孛襟w《埃因霍溫經(jīng)濟(jì)報》報道了中芯國際的這次購買

雖然是買別人的東西，但是這兩條信息還是足夠令國人興奮，畢竟這種機(jī)器咱們造不出來，人家不賣給咱們，自己的芯片制造就搞不定。

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什么是***？

對于普通人來說，***或許是一個陌生的名詞，但它卻是制造大規(guī)模集成電路的核心裝備，每顆芯片誕生之初，都要經(jīng)過光刻技術(shù)的鍛造。

簡單地說，***就是把工程師的設(shè)計‘印入’基底材料，其核心技術(shù)長期被荷蘭、日本、德國等把持。

***原理

***是芯片制造的核心設(shè)備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產(chǎn)芯片的***；有用于封裝的***；還有用于LED制造領(lǐng)域的投影***。用于生產(chǎn)芯片的***是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板，國內(nèi)晶圓廠所需的高端***完全依賴進(jìn)口。

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ASML：現(xiàn)代芯片不可或缺的支持者

目前，***領(lǐng)域的龍頭老大是荷蘭ASML。阿斯麥公司ASML Holding NV創(chuàng)立于1984年，是從飛利浦獨立出來的一個半導(dǎo)體設(shè)備制造商。前稱ASM Lithography Holding N.V.，于2001年改為現(xiàn)用名，總部位于荷蘭費爾德霍芬，全職雇員12,168人，是一家半導(dǎo)體設(shè)備設(shè)計、制造及銷售公司。

阿斯麥公司已經(jīng)占據(jù)了高達(dá)80%的市場份額，壟斷了高端***市場——最先進(jìn)的EUV***售價曾高達(dá)1億美元一臺，且全球僅僅ASML能夠生產(chǎn)。Intel、臺積電、三星都是它的股東，重金供養(yǎng)ASML，并且有技術(shù)人員駐廠，Intel、三星的14nm***都是買自ASML，格羅方德、聯(lián)電等晶圓廠的***主要也是來自ASML。

上面這個就是ASML***的截面圖，這臺機(jī)器價值不菲。事實上中國的芯片制造商們要想量產(chǎn)7nm及其以下的工藝的芯片，就必須引入EUV***。

阿斯麥公司為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供***及相關(guān)服務(wù)，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產(chǎn)效率最高，應(yīng)用最為廣泛的高端***型。

目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購TWINSCAN機(jī)型，例如英特爾，三星，海力士，臺積電，聯(lián)電，格芯及其它半導(dǎo)體廠。隨著摩爾定律的發(fā)展，芯片走向了7nm以下，這就需要更高級的EUV光刻系統(tǒng)，全球只有ASML的NXE:3400B能夠滿足需求。

未來，只有他的EUV***能夠幫助芯片接續(xù)微縮，因此這些設(shè)備縱使賣到上億歐元，都能被客戶所接受。

接下來我們走進(jìn)ASML***工廠，看看世界上最貴精密儀器出廠地。

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結(jié)語

一方面，AMSL對我們的企業(yè)商業(yè)態(tài)度轉(zhuǎn)變，由禁售到同意出售最先進(jìn)的7nm***，可以預(yù)計芯片水平將繼續(xù)提升。

另一方面，我國在***領(lǐng)域的進(jìn)步也是顯著的：

2018年5月，上海微電子宣布成功研發(fā)90納米的高精度***，半導(dǎo)體業(yè)內(nèi)人士分析稱，攻克90納米的技術(shù)之后，拿下65和45納米就是順理成章的事了。

2018年11月31日，官方發(fā)布消息，中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制的22納米超分辨光刻裝備通過驗收，未來將可以結(jié)合雙重曝光技術(shù)，用于制造10納米級別的芯片。

僅從精度的數(shù)據(jù)上看，我們還是落后于荷蘭ASML不少。不過，看著過往的發(fā)展速度，可以相信，未來不管是***還是芯片技術(shù)都會趕上來，一步一步來。