最近一段時(shí)間，英特爾公司因?yàn)?0nm工藝難產(chǎn)的問題被推上了風(fēng)口浪尖，副總裁此前已經(jīng)強(qiáng)調(diào)10nm工藝的問題只是良率問題，正在解決，而他們的14nm工藝依然有潛力可挖。

不過(guò)這并不能緩解市場(chǎng)對(duì)英特爾的焦慮，CEO科再奇今天在主持2018年股東大會(huì)時(shí)也被問到了這些問題，他強(qiáng)調(diào)7nm工藝不會(huì)遇到10nm工藝的難產(chǎn)問題，同時(shí)并不擔(dān)心AMD在7nm節(jié)點(diǎn)上領(lǐng)先，他們的14nm工藝在2019年依然有優(yōu)勢(shì)。

分析師關(guān)心最多的一個(gè)問題就是英特爾在10nm節(jié)點(diǎn)上的延遲是否會(huì)影響未來(lái)的7nm工藝，對(duì)此英特爾CEO科再奇表示他們?cè)?0nm工藝上遇到的問題絕大多數(shù)都不會(huì)影響7nm進(jìn)展，因?yàn)?0nm工藝是英特爾在沒有EUV光刻工藝情況下開發(fā)的，而7nm將是英特爾首次使用EUV光刻工藝，它能給晶圓制造帶來(lái)更多優(yōu)勢(shì)，比如制造小得多的晶體管，這是他們的10nm與7nm工藝的第一個(gè)不同之處。

此外，英特爾在7nm節(jié)點(diǎn)上也有不同的目標(biāo)，此前的文章中我們也提高過(guò)英特爾解釋為何10nm這么難產(chǎn)的原因，主要就是他們定的目標(biāo)太高了，相比14nm工藝的換算因素達(dá)到了2.7x，所以在7nm節(jié)點(diǎn)上英特爾目標(biāo)換算因素只有2.4x，回到了之前的水平，而業(yè)界通常的標(biāo)準(zhǔn)是1.5到2。

科贊奇表示目標(biāo)降低之后，7nm工藝帶來(lái)的挑戰(zhàn)就像他們傳統(tǒng)工藝創(chuàng)新一樣（順利），因此英特爾公司在10nm節(jié)點(diǎn)遭遇的多數(shù)問題都不會(huì)重現(xiàn)在7nm節(jié)點(diǎn)上。

英特爾將繼續(xù)監(jiān)視7nm工藝的進(jìn)展，并對(duì)他們的7nm工藝保持樂觀。

對(duì)于分析師擔(dān)心的AMD在7nm節(jié)點(diǎn)比英特爾更早量產(chǎn)而帶來(lái)的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)時(shí)，英特爾CEO科再奇表達(dá)了他對(duì)該公司14nm工藝的絕對(duì)自信，他認(rèn)為英特爾的14nm工藝的性能還有很大改進(jìn)余地，英特爾不僅會(huì)在客戶端領(lǐng)域，在數(shù)據(jù)中心領(lǐng)域依然能保持領(lǐng)先。

科再奇表示他們對(duì)（14nm性能領(lǐng)先）非常自信，2019年已經(jīng)計(jì)劃推出更加激進(jìn)的領(lǐng)先性產(chǎn)品，同時(shí)他們也不會(huì)放棄在2019年繼續(xù)改進(jìn)10nm良率的問題，總之他對(duì)英特爾的路線圖感覺很滿意，認(rèn)為英特爾正在推出史上最好的路線圖之一。