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Cadence數(shù)字與定制/模擬工具獲臺(tái)積電認(rèn)證 合作開發(fā)FinFET新工藝

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Xilinx與臺(tái)合作采用16FinFET工藝,打造高性能FPGA器件

,采用臺(tái)公司先進(jìn)的16納米FinFET (16FinFET工藝打造擁有最快上市、最高性能優(yōu)勢(shì)的FPGA器件。
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臺(tái)TSMC擴(kuò)大與Cadence在Virtuoso定制設(shè)計(jì)平臺(tái)的合作

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Cadence宣布推出基于臺(tái)16納米FinFET制程DDR4 PHY IP

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瑞薩電子與臺(tái)合作開發(fā)支持新一代環(huán)保汽車與自動(dòng)駕駛汽車的28納米微控制器

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2017年6月2日,上?!请娮樱绹?guó) Cadence 公司,NASDAQ: CDNS) 今日宣布其數(shù)字、簽核與定制模擬工具成功在三星電子公司7LPP和8LPP工藝技術(shù)上實(shí)現(xiàn)。較前代高階工藝
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4巨頭強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)手合作開發(fā)7納米工藝CCIX測(cè)試芯片

賽靈思、Arm、Cadence臺(tái)公司今日宣布一項(xiàng)合作,將共同構(gòu)建首款基于臺(tái)7納米FinFET工藝的支持芯片間緩存一致性(CCIX)的加速器測(cè)試芯片,并計(jì)劃在2018年交付
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三星聯(lián)手IBM搞5nm新工藝叫板臺(tái) 臺(tái)5nm工廠已經(jīng)啟動(dòng)

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臺(tái)開始建設(shè)新的5nm工廠,并將于2020年啟動(dòng)3nm工廠

據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道,臺(tái)將于本周在臺(tái)灣南部科學(xué)工業(yè)園區(qū)(STSP)開工建設(shè)新的5nm工廠,并將于2020年啟動(dòng)3nm工廠,而新工藝的快速演進(jìn)將大大鞏固臺(tái)一號(hào)代工廠的地位。
2018-01-25 16:24:005437

臺(tái)5nm新工藝工廠開工 2020年開啟批量生產(chǎn)

全球首座5nm芯片工廠終于迎來開工,而主要的制造商就是臺(tái),這次的開工儀式也會(huì)是即將退休的臺(tái)董事長(zhǎng)張忠謀最后一次參加的活動(dòng),他表示Fab 18也同樣代表著臺(tái)的三個(gè)重要承諾,并且告知2020年就會(huì)有5nm的批量生產(chǎn)。
2018-01-29 10:40:221131

臺(tái)5nm工藝預(yù)計(jì)會(huì)在2020年量產(chǎn) 再降低20%的能耗

在7nm節(jié)點(diǎn),臺(tái)已經(jīng)是雄心勃勃,除了AMD官方提到的7nm Vega芯片之外,臺(tái)還手握50多個(gè)7nm芯片流片,新工藝性能可提升35%或者功耗降低65%,未來升級(jí)到5nm之后性能還能再提升15%,功耗降低20%。
2018-05-04 16:33:004166

Platform 中的多項(xiàng)工具已通過TSMC最新版5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝認(rèn)證

TSMC最新版5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝認(rèn)證。Mentor 同時(shí)宣布,已更新了 Calibre nmPlatform 工具,可支持TSMC的晶圓堆疊封裝 (WoW)技術(shù)
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臺(tái)制造工藝落后于三星可能導(dǎo)致失去客戶

FinFET;而三星則采取了激進(jìn)的策略,當(dāng)然它挖來臺(tái)FinFET技術(shù)專家梁孟松也起了很大的作用,全力研發(fā)14nmFinFET工藝,終于在2015年初成功投產(chǎn)領(lǐng)先臺(tái)約半年時(shí)間。
2018-05-25 14:36:313764

我國(guó)自研5nm等離子體蝕刻機(jī)通過臺(tái)驗(yàn)證 將被臺(tái)采用

作為全球頭號(hào)代工廠,臺(tái)新工藝正在一路狂奔,7nm EUV極紫外光刻工藝已經(jīng)完成首次流片,5nm工藝也將在2019年4月開始試產(chǎn)。
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益華計(jì)算機(jī)宣布已與臺(tái)合作 助推臺(tái)5納米FinFET制程技術(shù)制造交付

Cadence客制/類比工具獲得臺(tái)領(lǐng)先業(yè)界的5納米制程技術(shù)認(rèn)證,這些工具包括Spectre加速平行模擬器(APS)、Spectre eXtensive分割模擬器(XPS)、Spectre RF
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臺(tái)宣布7nm及5nm增強(qiáng)版新工藝

在日本的2019 VLSI Symposium超大規(guī)模集成電路研討會(huì)上,臺(tái)宣布了兩種新工藝,分別是7nm、5nm的增強(qiáng)版,但都比較低調(diào),沒有過多宣傳。
2019-07-31 15:28:323298

臺(tái)2nm工藝制程研發(fā)啟動(dòng),預(yù)計(jì)2024年可實(shí)現(xiàn)投產(chǎn)

和以往間隔多年推出一代全新工藝制程不同,目前兩大晶圓代工廠臺(tái)及三星都改變了打法,一項(xiàng)重大工藝制程進(jìn)行部分優(yōu)化升級(jí)之后,就會(huì)以更小的數(shù)字命名。作為韓系芯片大廠龍頭的三星在工藝制程方面非常激進(jìn)
2019-08-26 12:29:003380

瑞薩與臺(tái)合作開發(fā)28nm納米嵌入式閃存制程技術(shù)

瑞薩電子與臺(tái)共同宣布,雙方合作開發(fā)28納米嵌入式閃存(eFlash)制程技術(shù),以生產(chǎn)支持新一代環(huán)保汽車與自動(dòng)駕駛汽車的微控制器(MCU)。
2019-11-29 11:13:162684

臺(tái)將繼續(xù)采用FinFET晶體管技術(shù),有信心保持良好水平

臺(tái)3納米將繼續(xù)采取目前的FinFET晶體管技術(shù),這意味著臺(tái)確認(rèn)了3納米工藝并非FinFET技術(shù)的瓶頸,甚至還非常有自信能夠在相同的FinFET技術(shù)下,在3納米制程里取得水準(zhǔn)以上的良率。這也代表著臺(tái)的微縮技術(shù)遠(yuǎn)超過其他的芯片制造商。
2020-06-12 17:31:233682

特斯拉與臺(tái)合作開發(fā)7nm自動(dòng)駕駛芯片,華為再次受到挫折

據(jù)外媒報(bào)道,特斯拉正在與臺(tái)合作開發(fā)Hardware 4.0自動(dòng)駕駛芯片,并計(jì)劃在2021年第四季度進(jìn)行量產(chǎn)。而在2019年4月推出的Hardware 3.0芯片,是由三星生產(chǎn)的。 有業(yè)內(nèi)人士分析
2020-08-19 10:37:263081

特斯拉與臺(tái)聯(lián)手合作開發(fā)HW4.0自動(dòng)駕駛芯片

根據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,特斯拉正在與臺(tái)合作開發(fā)HW 4.0自動(dòng)駕駛芯片,并將于2021年第四季度投入量產(chǎn)。早在2016年,特斯拉就開始組建一支由傳奇芯片設(shè)計(jì)師吉姆·凱勒(Jim Keller)領(lǐng)導(dǎo)的芯片架構(gòu)師團(tuán)隊(duì),開發(fā)自己的芯片。其目標(biāo)是為自動(dòng)駕駛設(shè)計(jì)一個(gè)超級(jí)強(qiáng)大和高效的芯片。
2020-09-02 15:43:261145

臺(tái)和Google合作 推動(dòng)3D芯片制程工藝生產(chǎn)

他們未來的3nm工廠,預(yù)計(jì)2022年下半年臺(tái)3nm工藝就會(huì)投產(chǎn)。 當(dāng)然隨著半導(dǎo)體工藝的逐漸發(fā)展,工藝的升級(jí)也逐漸困難,所需的投入也越來越大,報(bào)團(tuán)合作也越來越多,臺(tái)拉了Google和AMD過來合作。 臺(tái)正在和Google合作,以推動(dòng)3D芯片制
2020-11-30 15:50:101146

臺(tái)將在美國(guó)建設(shè)5nm晶圓廠,計(jì)劃2024年量產(chǎn)

作為全球半導(dǎo)體技術(shù)最先進(jìn)的國(guó)家,美國(guó)本土最新工藝還是14nm,已經(jīng)落后于臺(tái)了。今年5月份臺(tái)宣布在美國(guó)建設(shè)5nm晶圓廠,總投資120億美元,現(xiàn)在已經(jīng)開始啟動(dòng)招聘了。
2020-11-04 10:00:111793

臺(tái)2nm工藝取得重大內(nèi)部突破 有望2024年步入量產(chǎn)

這幾年,天字一號(hào)代工廠臺(tái)新工藝進(jìn)展上簡(jiǎn)直是開掛一般的存在,7nm工藝全面普及,5nm工藝一路領(lǐng)先,3nm工藝近在眼前,2nm工藝也進(jìn)展神速。 根據(jù)最新報(bào)道,臺(tái)已經(jīng)在2nm工藝上取得一項(xiàng)重大
2020-11-17 09:45:212306

臺(tái)2nm工藝制程重大突破,2024年量產(chǎn)

這幾年,天字一號(hào)代工廠臺(tái)新工藝進(jìn)展上簡(jiǎn)直是開掛一般的存在,7nm工藝全面普及,5nm工藝一路領(lǐng)先,3nm工藝近在眼前,2nm工藝也進(jìn)展神速。
2020-11-17 09:52:122518

臺(tái)2nm工藝有望在2023年進(jìn)行試產(chǎn)

這幾年,天字一號(hào)代工廠臺(tái)新工藝進(jìn)展上簡(jiǎn)直是開掛一般的存在,7nm工藝全面普及,5nm工藝一路領(lǐng)先,3nm工藝近在眼前,2nm工藝也進(jìn)展神速。
2020-11-17 10:46:222035

臺(tái)將于2022下半年開始量產(chǎn)3nm芯片

至少就目前而言,臺(tái)的先進(jìn)制程沒華為什么事兒了,如果不出現(xiàn)大意外的話,短期的未來幾年內(nèi),臺(tái)新工藝將由蘋果首發(fā)。
2020-11-25 09:18:591566

臺(tái)將在2022年下半年量產(chǎn)3nm芯片

至少就目前而言,臺(tái)的先進(jìn)制程沒華為什么事兒了,如果不出現(xiàn)大意外的話,短期的未來幾年內(nèi),臺(tái)新工藝將由蘋果首發(fā)。
2020-11-25 09:19:491435

蘋果正在與臺(tái)合作開發(fā)一種半自動(dòng)駕駛汽車

據(jù)外媒報(bào)道,蘋果正在與半導(dǎo)體制造與設(shè)計(jì)公司臺(tái)(TSMC)合作,開發(fā)一種“類似特斯拉”的半自動(dòng)駕駛汽車。
2020-12-10 10:12:42761

蘋果從臺(tái)采購(gòu)半自動(dòng)車載芯片

據(jù)外媒TESLARATI報(bào)道,蘋果正在與其芯片合作伙伴臺(tái)(TSMC)合作開發(fā)自動(dòng)駕駛芯片,來為類似于特斯拉轎車的“Apple Car”的開發(fā)做準(zhǔn)備。
2020-12-10 11:25:311660

臺(tái)將在2023年推出3nm工藝增強(qiáng)版

臺(tái)新工藝方面真是猶如一頭猛獸,無(wú)可阻擋(當(dāng)然取消優(yōu)惠也攔不住),今年已經(jīng)量產(chǎn)5nm工藝,而接下來的重大節(jié)點(diǎn)就是3nm,早已宣布會(huì)在2022年投入規(guī)模量產(chǎn)。
2020-12-18 09:47:262030

臺(tái) FinFET 和三星 GAA 在 3nm 制程技術(shù)遇瓶頸,量產(chǎn)時(shí)間恐將推遲

據(jù) Digitimes 報(bào)道,業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái) FinFET 和三星 GAA 在 3nm 制程技術(shù)的開發(fā)過程中都遇到了不同但關(guān)鍵的瓶頸。報(bào)道稱,臺(tái)和三星因此將不得不推遲 3nm 制程工藝
2021-01-04 16:20:103024

臺(tái)向Intel提供4nm和5nm最新工藝進(jìn)程

很顯然,這一波兒的競(jìng)爭(zhēng)Intel是要落后AMD的,而后者起來的其中一個(gè)原因是臺(tái)先進(jìn)的工藝制程,而Intel正在醞釀新的調(diào)整,并以此追上。
2021-01-10 11:20:203336

臺(tái)3nm工藝制程超過預(yù)期,進(jìn)度將會(huì)提前

在ISSCC 2021國(guó)際固態(tài)電路會(huì)議上,臺(tái)聯(lián)席CEO劉德音公布了該公司的最新工藝進(jìn)展情況,指出3nm工藝超過預(yù)期,進(jìn)度將會(huì)提前。
2021-02-19 11:58:411882

臺(tái)3nm工藝進(jìn)度超前 EUV工藝突破:直奔1nm

在ISSCC 2021國(guó)際固態(tài)電路會(huì)議上,臺(tái)聯(lián)席CEO劉德音公布了該公司的最新工藝進(jìn)展情況,指出3nm工藝超過預(yù)期,進(jìn)度將會(huì)提前。 不過劉德音沒有公布3nm工藝到底如何超前的,按照他們公布的信息
2021-02-19 15:13:402778

臺(tái)攜手蘋果合作開發(fā)Micro OLED面板

臺(tái)作為蘋果的長(zhǎng)期合作伙伴,傳出雙方正攜手合作開發(fā)Micro OLED面板,預(yù)計(jì)用于蘋果全新的擴(kuò)增實(shí)境(AR)產(chǎn)品,目前已在桃園龍?zhí)睹孛苎邪l(fā)。業(yè)界人士認(rèn)為,隨著技術(shù)的推進(jìn),整合這些先進(jìn)芯片的封裝技術(shù)是臺(tái)面臨的挑戰(zhàn),若順利,將使臺(tái)成為握有新一代顯示技術(shù)的關(guān)鍵廠商。
2021-02-19 16:43:052579

三星有望超車臺(tái) 高通將優(yōu)先保證高端SoC芯片供應(yīng)

消息稱,臺(tái)也在研發(fā)3nm工藝,可惜新工藝仍將采用FinFET立體晶體管技術(shù),與5nm工藝相比,晶體管密度將提高
2021-03-15 14:15:421889

楷登電子通過N3和N4 工藝定制化/模擬工具套件認(rèn)證

Cadence 數(shù)字定制/模擬先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)解決方案支持 Cadence 智能系統(tǒng)設(shè)計(jì)(Intelligent System Design)戰(zhàn)略,旨在系統(tǒng)級(jí)芯片(SoC)上實(shí)現(xiàn)卓越設(shè)計(jì),如需了解更多信息,請(qǐng)?jiān)L問:
2021-10-26 14:44:474148

楷登電子數(shù)字模擬流程TSMC N3和N4工藝技術(shù)認(rèn)證

)宣布,其數(shù)字定制/模擬流程已獲得 TSMC N3 和 N4 工藝技術(shù)認(rèn)證,支持最新的設(shè)計(jì)規(guī)則手冊(cè)(DRM)。通過持續(xù)合作,Cadence 和 TSMC 發(fā)布了 TSMC N3 和 N
2021-10-26 15:10:583128

新思科技數(shù)字定制設(shè)計(jì)平臺(tái)已獲臺(tái)公司N3制程技術(shù)認(rèn)證

技(Synopsys)近日宣布其數(shù)字定制設(shè)計(jì)平臺(tái)已獲臺(tái)公司N3制程技術(shù)認(rèn)證,雙方將共同優(yōu)化下一代芯片的功耗、性能和面積(PPA)?;诙嗄甑拿芮?b class="flag-6" style="color: red">合作,本次經(jīng)嚴(yán)格驗(yàn)證的認(rèn)證是基于臺(tái)公司最新版本的設(shè)計(jì)規(guī)則手冊(cè)(DRM)和制程設(shè)計(jì)套件(PDK)。此外,新思科技
2021-11-16 11:06:322326

臺(tái)預(yù)計(jì)2025年量產(chǎn)2nm ,3nm工藝計(jì)劃8月份開始試產(chǎn)

臺(tái)還談到了未來的新工藝的進(jìn)度,3nm工藝將在今年下半年量產(chǎn),而2025年則會(huì)量產(chǎn)2nm工藝
2022-04-15 09:58:242249

臺(tái):2nm工藝將使用GAAFET技術(shù),預(yù)計(jì)2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)

設(shè)計(jì)者在芯片的每個(gè)關(guān)鍵功能塊上做出最佳的選擇。 據(jù)臺(tái)放出的技術(shù)發(fā)展圖來看,臺(tái)的N3工藝將會(huì)在今年下半年開始量產(chǎn),并且這一代N3工藝將會(huì)持續(xù)發(fā)展至2025年,其中會(huì)擴(kuò)產(chǎn)出N3E、N3P和N3X工藝,今年除了N3工藝外,N4P和N6RF這兩種全新工藝也會(huì)在下半年
2022-06-17 16:13:256050

Cadence數(shù)字定制 / 模擬設(shè)計(jì)流程獲得N4P工藝認(rèn)證

楷登電子(美國(guó) Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)今日宣布,其數(shù)字定制 / 模擬設(shè)計(jì)流程已獲得 TSMC N3E 和 N4P 工藝認(rèn)證,支持最新的設(shè)計(jì)規(guī)則手冊(cè)(DRM)。
2022-06-17 17:33:056035

新思科技獲得臺(tái)公司的N3E和N4P工藝認(rèn)證

新思科技數(shù)字定制設(shè)計(jì)流程獲得臺(tái)公司的N3E和N4P工藝認(rèn)證,并已推出面向該工藝的廣泛IP核組合。
2022-07-12 11:10:511780

Cadence數(shù)字定制/模擬設(shè)計(jì)流程獲得臺(tái)最新N4P和N3E工藝認(rèn)證

中國(guó)上海,2022 年 10 月 27 日 —— 楷登電子(美國(guó) Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)今日宣布,Cadence 數(shù)字定制/模擬設(shè)計(jì)流程已獲得臺(tái)最新 N4P 和 N3E
2022-10-27 11:01:372277

Ansys多物理場(chǎng)解決方案榮獲臺(tái)N4工藝技術(shù)和FINFLEX?架構(gòu)認(rèn)證

工藝技術(shù)的FINFLEX架構(gòu)認(rèn)證 此外,該認(rèn)證也可擴(kuò)展到臺(tái)N4工藝技術(shù) Ansys宣布Ansys電源完整性解決方案榮獲臺(tái)FINFLEX創(chuàng)新架構(gòu)以及N4工藝技術(shù)認(rèn)證,持續(xù)深化與臺(tái)的長(zhǎng)期技術(shù)合作
2022-11-17 15:31:571498

創(chuàng)意電子采用Cadence數(shù)字解決方案完成首款臺(tái)N3制程芯片及首款A(yù)I優(yōu)化的N5制程設(shè)計(jì)

的先進(jìn)設(shè)計(jì)。另一款 CPU 設(shè)計(jì)采用 AI 賦能的 Cadence Cerebrus Intelligent Chip Explorer 和完整的數(shù)字設(shè)計(jì)流程,借助臺(tái) N5 制程工藝,成功讓功耗降低 8%,設(shè)計(jì)面積縮小 9%,同時(shí)顯著提升了工程效率。
2023-02-06 15:02:482008

新工藝電磁流量計(jì)

新工藝電磁流量計(jì)在傳統(tǒng)電磁 流量計(jì)制造的基礎(chǔ)上做了哪些改進(jìn)?
2023-02-07 13:51:471147

臺(tái)官方對(duì)外開放16nm FinFET技術(shù)

臺(tái)官網(wǎng)宣布推出大學(xué)FinFET專案,目的在于培育未來半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)人才并推動(dòng)全球?qū)W術(shù)創(chuàng)新。
2023-02-08 11:21:01950

臺(tái)向?qū)W界開放16nm FinFET技術(shù)

臺(tái)宣布推出大學(xué)FinFET專案,目的在于培育未來半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)人才并推動(dòng)全球?qū)W術(shù)創(chuàng)新。
2023-04-23 09:29:036009

Cadence拓展與臺(tái)和微軟的合作,攜手推進(jìn)云端千兆級(jí)物理驗(yàn)證

楷登電子(美國(guó) Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)近日宣布擴(kuò)大與臺(tái)和微軟的合作,致力于加快千兆級(jí)規(guī)模數(shù)字設(shè)計(jì)的物理驗(yàn)證。通過此次最新合作,客戶可以在帶有 Cadence
2023-04-26 18:05:451484

Cadence定制設(shè)計(jì)遷移流程加快臺(tái)N3E和N2工藝技術(shù)的采用速度

,包括最新的 N3E 和 N2 工藝技術(shù)。這一新的生成式設(shè)計(jì)遷移流程由 Cadence臺(tái)共同開發(fā),旨在實(shí)現(xiàn)定制模擬 IC 設(shè)計(jì)在臺(tái)工藝技術(shù)之間的自動(dòng)遷移。與人工遷移相比,已使用該流程的客戶成功地將遷移時(shí)間縮短了 2.5 倍。
2023-05-06 15:02:151934

Cadence數(shù)字定制/模擬設(shè)計(jì)流程獲得TSMC最新N3E和N2工藝技術(shù)認(rèn)證

楷登電子(美國(guó) Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)近日宣布,Cadence 數(shù)字定制/模擬設(shè)計(jì)流程已通過 TSMC N3E 和 N2 先進(jìn)工藝的設(shè)計(jì)規(guī)則手冊(cè)(DRM)認(rèn)證。兩家公司還發(fā)
2023-05-09 10:09:232046

Cadence臺(tái)合作開發(fā)N16 79GHz毫米波設(shè)計(jì)參考流程,助力雷達(dá)、5G和無(wú)線創(chuàng)新

。Cadence臺(tái)早已達(dá)成了長(zhǎng)期合作,而利用這個(gè)最新成果,雙方的共同客戶可以使用完整的 N16 工藝 79GHz 毫米波設(shè)計(jì)參考流程來開發(fā)優(yōu)化的、更可靠性的下一代 RFIC 設(shè)計(jì),用于移動(dòng)、汽車、醫(yī)療保健
2023-05-09 15:04:432318

西門子EDA Calibre 平臺(tái)臺(tái)先進(jìn)N3E和N2工藝認(rèn)證

西門子EDA Calibre 平臺(tái)臺(tái)先進(jìn)N3E和N2工藝認(rèn)證 作為臺(tái)的長(zhǎng)期合作伙伴西門子EDA一直在加強(qiáng)對(duì)臺(tái)最新制程的支持 ,根據(jù)西門子EDA透露的消息顯示,sign-off 物理驗(yàn)證
2023-05-11 18:25:303357

Ansys多物理場(chǎng)解決方案通過臺(tái)N2芯片工藝認(rèn)證

臺(tái)設(shè)計(jì)基礎(chǔ)架構(gòu)管理部負(fù)責(zé)人Dan Kochpatcharin表示:“臺(tái)始終與我們的Open Innovation Platform(OIP)生態(tài)系統(tǒng)合作伙伴密切合作,臺(tái)最先進(jìn)的N2工藝全套設(shè)計(jì)解決方案
2023-05-12 11:33:331588

西門子Calibre平臺(tái)通過N3E工藝認(rèn)證

西門子數(shù)字化工業(yè)軟件日前在臺(tái)2023北美技術(shù)論壇上宣布一系列最新工藝認(rèn)證。作為臺(tái)的長(zhǎng)期合作伙伴,此次認(rèn)證是雙方精誠(chéng)合作的關(guān)鍵成就,將進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)西門子EDA技術(shù)對(duì)臺(tái)最新制程的全面支持。
2023-05-16 11:30:301569

Cadence 數(shù)字定制/模擬設(shè)計(jì)流程獲得 Samsung Foundry SF2 和 SF3 工藝技術(shù)認(rèn)證

已經(jīng)過 SF2 和 SF3 流程認(rèn)證 ●? Cadence 數(shù)字全流程針對(duì)先進(jìn)節(jié)點(diǎn)實(shí)現(xiàn)了最佳 PPA 結(jié)果 ● Cadence 定制/模擬工具,包括基于 AI 的 Virtuoso Studio,已
2023-07-05 10:10:011140

Cadence數(shù)字定制/模擬流程通過Samsung Foundry的SF2、SF3工藝技術(shù)認(rèn)證

已經(jīng)過 SF2 和 SF3 流程認(rèn)證 ●?Cadence 數(shù)字全流程針對(duì)先進(jìn)節(jié)點(diǎn)實(shí)現(xiàn)了最佳 PPA 結(jié)果 ●Cadence 定制/模擬工具,包括基于 AI 的 Virtuoso Studio,已針對(duì)
2023-07-05 10:12:141322

Cadence 數(shù)字定制/模擬設(shè)計(jì)流程通過認(rèn)證,Design IP 現(xiàn)已支持 Intel 16 FinFET 制程

Cadence 流程,以十足把握交付各類 HPC 及消費(fèi)電子應(yīng)用 中國(guó)上海,2023 年 7 月 14 日——楷登電子(美國(guó) Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)近日宣布其數(shù)字定制/模擬
2023-07-14 12:50:021450

Cadence 定制/模擬設(shè)計(jì)遷移流程加速 TSMC 先進(jìn)制程技術(shù)的采用

流程,能兼容所有的 TSMC(臺(tái))先進(jìn)節(jié)點(diǎn),包括最新的 N3E 和 N2 工藝技術(shù)。 這款生成式設(shè)計(jì)遷移流程由 Cadence 和 TSMC 共同開發(fā),旨在實(shí)現(xiàn)定制模擬 IC 設(shè)計(jì)在 TSMC
2023-09-27 10:10:041634

Cadence 數(shù)字定制/模擬設(shè)計(jì)流程 TSMC 最新 N2 工藝認(rèn)證

和移動(dòng) IC 中國(guó)上海,2023 年 10 月 10 日——楷登電子(美國(guó) Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)近日宣布其數(shù)字定制/模擬流程已通
2023-10-10 16:05:041331

西門子布宣布與臺(tái)攜手優(yōu)化芯片設(shè)計(jì)過程

用于集成電路(IC)驗(yàn)證sign-off的Calibre nmPlatform工具現(xiàn)已獲得臺(tái)的N2工藝認(rèn)證,可為早期采用臺(tái)N2工藝技術(shù)的廠商提供全面支持。
2023-10-20 12:37:22876

Socionext宣布與Arm和臺(tái)合作開發(fā)2nm多核CPU芯片

SoC設(shè)計(jì)與應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商Socionext Inc.(以下“Socionext”)宣布,與Arm和臺(tái)共同合作開發(fā)一款低功耗32核CPU,該芯片基于Chiplet技術(shù),采用臺(tái)2nm制程工藝
2023-10-25 15:37:021383

Cadence數(shù)字定制/模擬流程通過Intel 18A工藝技術(shù)認(rèn)證

Cadence近日宣布,其數(shù)字定制/模擬流程在Intel的18A工藝技術(shù)上成功通過認(rèn)證。這一里程碑式的成就意味著Cadence的設(shè)計(jì)IP將全面支持Intel的代工廠在這一關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)上的工作,并提
2024-02-27 14:02:181331

Marvell將與臺(tái)合作2nm 以構(gòu)建模塊和基礎(chǔ)IP

正式量產(chǎn)。 現(xiàn)在Marvell 已正式宣布,將與臺(tái)合作開發(fā)業(yè)界首款針對(duì)加速基礎(chǔ)設(shè)施優(yōu)化的2nm 芯片生產(chǎn)平臺(tái)。 Marvell將與臺(tái)的長(zhǎng)期合作伙伴關(guān)系擴(kuò)展到2nm制造領(lǐng)域。 成立于1995年的Marvell(美滿科技集團(tuán)有限公司)總部在硅谷,是全球頂尖的無(wú)晶圓廠半導(dǎo)體公司之一。Marvell已經(jīng)
2024-03-11 16:32:591619

Cadence臺(tái)深化合作創(chuàng)新,以推動(dòng)系統(tǒng)和半導(dǎo)體設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)型

楷登電子(美國(guó) Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)與臺(tái)(TSMC)深化了雙方的長(zhǎng)期合作,官宣了一系列旨在加速設(shè)計(jì)的創(chuàng)新技術(shù)進(jìn)展,包括從 3D-IC 和先進(jìn)制程節(jié)點(diǎn)到設(shè)計(jì) IP 和光電學(xué)的開發(fā)
2024-04-30 14:25:521285

西門子擴(kuò)大與臺(tái)合作推動(dòng)IC和系統(tǒng)設(shè)計(jì)

西門子數(shù)字化工業(yè)軟件與臺(tái)進(jìn)一步擴(kuò)大合作,基于臺(tái)新工藝,推行多個(gè)新項(xiàng)目的開發(fā)、產(chǎn)品認(rèn)證以及技術(shù)創(chuàng)新,結(jié)合西門子EDA 解決方案與臺(tái)電業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的芯片工藝和先進(jìn)封裝技術(shù),幫助雙方共同客戶打造
2024-11-27 11:20:32658

西門子數(shù)字化工業(yè)軟件與臺(tái)開展進(jìn)一步合作

西門子數(shù)字化工業(yè)軟件宣布與臺(tái)進(jìn)一步開展合作,基于西門子先進(jìn)的封裝集成解決方案,提供經(jīng)過認(rèn)證臺(tái) InFO 封裝技術(shù)自動(dòng)化工作流程。 ? ? 西門子與臺(tái)合作由來已久, 我們很高興合作開發(fā)
2025-02-20 11:13:41960

西門子與臺(tái)合作推動(dòng)半導(dǎo)體設(shè)計(jì)與集成創(chuàng)新 包括臺(tái)N3P N3C A14技術(shù)

西門子和臺(tái)在現(xiàn)有 N3P 設(shè)計(jì)解決方案的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步推進(jìn)針對(duì)臺(tái) N3C 技術(shù)的工具認(rèn)證。雙方同時(shí)就臺(tái)電新的 A14 技術(shù)的設(shè)計(jì)支持展開合作,為下一代設(shè)計(jì)奠定基礎(chǔ)。
2025-05-07 11:37:061415

Cadence攜手臺(tái)公司,推出經(jīng)過其A16和N2P工藝技術(shù)認(rèn)證的設(shè)計(jì)解決方案,推動(dòng) AI 和 3D-IC芯片設(shè)計(jì)發(fā)展

同時(shí)宣布針對(duì)臺(tái)公司 N3C 工藝工具認(rèn)證完成,并基于臺(tái)公司最新 A14 技術(shù)展開初步合作 中國(guó)上海,2025 年 5 月 23 日——楷登電子(美國(guó) Cadence 公司,NASDAQ
2025-05-23 16:40:041710

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