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回顧MOS-AK成都器件模型國際會議的內(nèi)容介紹

弘模半導(dǎo)體 ? 來源:djl ? 2019-09-06 16:51 ? 次閱讀
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2019年6月20-22日,第四屆MOS-AK器件模型國際會議(成都)順利閉幕。本次會議由電子科技大學(xué)主辦,XMOD 作為協(xié)辦方配合工作。MOS-AK(成都)也得到了Cogenda、華大九天、Maury、華美博科技(北京)有限公司、FOCUS、益豐電子、Platform-Da、KEYSIGHT、成都市集成電路行業(yè)協(xié)會、極高頻復(fù)雜系統(tǒng)國防重點學(xué)科實驗室、集成電路與系統(tǒng)學(xué)科創(chuàng)新引智基地(“111基地”)和微波毫米波集成電路與系統(tǒng)實驗室(不分先后)的贊助。本次為期兩天的會議吸引來自學(xué)校、研究院、半導(dǎo)體廠商、設(shè)計公司等科研單位人員的參加。本次會議在主辦方的積極籌備之下,投稿數(shù)量,邀請報告數(shù)量均創(chuàng)歷年新高。本次接受了近30篇文章,內(nèi)容涉及IGBT,advanced CMOS,SOI,GaN, GaAs, FinFET,TFT以及最熱門的AI在器件模型中的應(yīng)用等。本次會議共包含8篇邀請報告,14篇演講報告,4篇POSTER。

本次會議的第一部分培訓(xùn)在6月20日,首先來自Infineon的專家Dr.Andreas Pawlak進(jìn)行了基于SiGe HBT工藝的器件建模講解,之后來自Silicon Radar 的歐盟項目專家Dr. Wojciech Debski,為大家介紹了基于SiGe HBT工藝的電路設(shè)計以及終端應(yīng)用(24GHz,60GHz, 120GHz,300GHz) ,很多現(xiàn)場DEMO讓人印象深刻(圖片可點擊放大觀看)。

正式會議在6月21日正式開始,來自電子科技大學(xué)的康凱教授致開幕詞,熱烈的歡迎大家的到來,預(yù)祝本次活動圓滿的成功,大家都能有所收獲。來自XMOD&MOS-AK的張珉博士回顧了這幾年MOS-AK的會議情況,特別提到MOS-AK成都會議的突破,一個是在成電徐躍杭教授團(tuán)隊的努力下,獲得了SCI期刊出版的對接。另一個是企業(yè)主動發(fā)起的學(xué)生Wide Band PA設(shè)計競賽,為工藝,模型,設(shè)計提供了很好的鏈接, 加深模型在電路設(shè)計應(yīng)用中重要性的理解。最值得欣慰的是,MOS-AK 活動的舉辦,推動了中國器件模型產(chǎn)業(yè)成立組織協(xié)會的決心,讓更多半導(dǎo)體行業(yè)伙伴進(jìn)來成為可能,也真正讓更多人理解模型產(chǎn)業(yè)的核心價值。

此次報告的質(zhì)量獲得了很多在場專家的一致好評,收獲頗多。邀請報告中,UC Berkeley教授對于模型最基礎(chǔ)開發(fā)時期發(fā)生的編程仿真等問題做了很明了的闡述,并提出了MAPP 平臺理念,為模型開發(fā)者服務(wù)。香港科大教授帶來的對隨時間變化器件模型和仿真的新穎解決方案,令人印象深刻。華大九天和合作伙伴帶來了一個關(guān)于TFT生產(chǎn)過程中的工藝波動引起GOA故障的報告,通過Bin 和Corner模型的結(jié)合應(yīng)用,對降低TFT-LCD的生產(chǎn)成本和功耗起到了很好前瞻并獲得驗證,使模型的二次開發(fā)真正帶來了附加價值。

成都電子科技大學(xué)團(tuán)隊的硅基磁光非互易光子器件向大家展示了團(tuán)隊在這方面所做的努力和成績。在先進(jìn)節(jié)點方面,Negative Capacitance FET and Nanowire /Nanosheet FET modeling的主題讓人耳目一新,提出了下一代新器件的方向。在 III-V族微波方面,成都電子科技大學(xué)團(tuán)隊分享在III-V模型實際應(yīng)用中獲得的點點滴滴,通過QPZD準(zhǔn)物理基的大信號模型開發(fā),特別通過和半導(dǎo)體廠合作,使設(shè)計公司縮短電路設(shè)計開發(fā)驗證周期成為可能,也充分展示了模型的橋梁作用。加拿大Carleton 大學(xué)帶來的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)理念對III-V族器件模型的開發(fā),展示了模型開發(fā)的新趨勢。西安電子科大團(tuán)隊帶來的主題是針對毫米波頻段氮化鎵器件,從工藝、制備、TCAD模型仿真設(shè)計到MMIC電路設(shè)計的一整套關(guān)鍵技術(shù),對器件開發(fā)和工藝設(shè)計都有很好的指導(dǎo)意義。

邀請報告不分先后:

除了上述的邀請報告外,來自工業(yè)界,學(xué)術(shù)界等的報告都令人印象深刻,并且POSTER的部分也引來了很多同行駐足討論??偟膩碚f,這次會議,給了模型相關(guān)的半導(dǎo)體廠,設(shè)計公司,科研院所等非常好的交流平臺。

演講報告不分先后:

最后,會議在MOS-AK 2020的主辦方西安電子科技大學(xué)的精彩介紹中順利閉幕,期待與大家2020年西安再會!想了解后續(xù)報告解讀或者演講內(nèi)容下載的,可以留意我們的公眾號,后續(xù)會給大家?guī)砀嘈畔ⅰ?/p>

部分參與人員合影:

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