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三星6nm6LPP將在今年下半年如期投入量產(chǎn) 4nm4LPE也會(huì)在年內(nèi)設(shè)計(jì)完畢

半導(dǎo)體動(dòng)態(tài) ? 來(lái)源:工程師吳畏 ? 2019-08-02 15:45 ? 次閱讀
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除了臺(tái)積電,三星如今在工藝方面也是十分激進(jìn):7nm 7LPP去年十月投產(chǎn)之后,按照官方最新給出的時(shí)間表,6nm 6LPP將在今年下半年如期投入量產(chǎn),5nm 5LPE今年內(nèi)完成流片、明年上半年量產(chǎn),4nm 4LPE也會(huì)在年內(nèi)設(shè)計(jì)完畢。

不同于以往間隔多年推出一代全新工藝,臺(tái)積電和三星如今都改變打法,一項(xiàng)重大工藝進(jìn)行部分優(yōu)化升級(jí)之后,就會(huì)以更小的數(shù)字命名。

按照三星給出的技術(shù)路線圖,6LPP、5LPE、4LPE其實(shí)都是在7LPP工藝基礎(chǔ)上演化而來(lái)的,要一直到3nm(3GAE/3GAP)才會(huì)是全新的設(shè)計(jì),預(yù)計(jì)會(huì)使用全新的結(jié)構(gòu)和材料。

7nm也是三星第一次使用EUV極紫外光刻,6/5/4nm上勢(shì)必會(huì)進(jìn)一步加強(qiáng)。6LPP相比7LPP會(huì)將晶體管密度提升約10%,同時(shí)功耗更低,但會(huì)沿用7LPP上最初設(shè)計(jì)的IP。

5LPE會(huì)在性能、功耗、核心面積上進(jìn)一步提升,不過(guò)核心IP還是7LPP的那一套,不過(guò)由于EUV應(yīng)用更深入,三星預(yù)計(jì)6LPP、5LPE工藝的應(yīng)用范圍也會(huì)更廣,而且5nm明年迅速就會(huì)成為主流。

4LPE將會(huì)是7LPP的終極進(jìn)化版本,預(yù)計(jì)2020年首次流片,2021年的某個(gè)時(shí)候量產(chǎn)。

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