（文章來源：筆錄科技）

如今的社會一直在不斷的發(fā)展之中，有許多互聯網作為背景的企業(yè)逐漸崛起，尤其是在通信領域這一方面，作為我國通信領域的巨頭企業(yè)的華為，在第五代通信技術領域上完美實現了彎道超車，目前已經成功躋身進入世界一流的前沿。

其實目前在互聯網行業(yè)以及通信領域上，我國的科技企業(yè)已經都成功實現了彎道超車。只不過在一些關鍵零部件方面上，我國的科技企業(yè)依舊是需要國外進口，芯片便是最好的例子。芯片技術所存在的技術短板問題，這導致我國在進口芯片的時候完全沒有議價權，并且還有可能受到對方“卡脖子”的境況，中興和華為所遭遇的事情不就是在告訴我們芯片技術受限于外人所帶來的弊端？

一般情況下，芯片的制造分為兩個方面，一是芯片的設計，二則是在芯片的制造問題上。目前在芯片設計方面，我國的華為海思在內的中國科技企業(yè)已經實現了技術性突破；但是在芯片制造上，我國的科技企業(yè)仍舊是受限于人，然而我們從本質上分析的話，在芯片制造上落后的問題主要在于光刻機技術十分落后。

也許有人不太明白，簡單來說就是，芯片想要制造出來的話，必須有光刻機的存在才可以把其圖片演變成一個真實的存在。目前的光刻機制造水平，大多數人是以14nm為主的建筑師。而最先進的則是荷蘭ASML公司所制造的7mm的工藝光刻機。正式因為才缺少光刻機所以才能與他們達成一致，但是這樣也會在一定程度上扼制我們的發(fā)展。

所以在意識到這個問題的嚴重性后，我國也的努力的制造光刻機并且在其領域投入了大量的人物以及財務。但是我們制造的光刻機的工藝僅限于28nm和14nm，和7nm工藝之間還存在著不小的差距。不過在最近一段時間內，中國芯片突然傳出一個好消息！我國的光刻機實現了彎道超車，已經突破了9nm技術瓶頸。

根據媒體在之前的報道我們得知，由武漢光電國家研究中心的甘棕松團隊，現在已經成功的研制出9nm工藝的光刻機。這次研制出來的光刻機技術與其他國家的是完全不同的，國產的光刻機是利用二束激光在自研的光刻機上突破了光束衍射極限的限制，這才刻出了最小的9nm線寬的線段，這也就是說這是屬于我們獨有的技術，所以有著我們自主的產權。

但是現在的9nm光刻機技術仍舊還處于試驗階段，與7nm工藝之間也是存在著一定的差距，即使我們現在無法超越荷蘭的ASML，但是我們最起碼可以與日本和德國的光刻機技術一較高下，我們的技術突破也只是時間問題罷了。

（責任編輯：fqj）