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到2024年,半導(dǎo)體研發(fā)將促EUV光刻、3納米、3D芯片堆疊技術(shù)增長(zhǎng)

jf_1689824270.4192 ? 來(lái)源:電子發(fā)燒友 ? 作者:jf_1689824270.4192 ? 2020-01-31 09:20 ? 次閱讀
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據(jù)IC Insights發(fā)布的最新2020 McClean報(bào)告顯示,半導(dǎo)體行業(yè)研發(fā)的投入將在2024年出現(xiàn)明顯成效——包括轉(zhuǎn)向EUV光刻,低于3納米制程技術(shù),3D芯片堆疊技術(shù)和先進(jìn)封裝在內(nèi)的技術(shù)挑戰(zhàn)有望提升研發(fā)增長(zhǎng)率。

半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的定義是快速的技術(shù)變化以及需要在新材料的研發(fā)方面保持高水平的投資,用于日益復(fù)雜的芯片設(shè)計(jì)的創(chuàng)新制造工藝以及先進(jìn)的IC封裝技術(shù)。

根據(jù)新版提供的數(shù)據(jù),盡管半導(dǎo)體行業(yè)的整合在過(guò)去五年中降低了研發(fā)支出的增長(zhǎng)率,但長(zhǎng)期趨勢(shì)是自1980年代以來(lái)研發(fā)支出的年度增長(zhǎng)放緩。于2020年1月IC Insights發(fā)布的《 McClean報(bào)告—集成電路產(chǎn)業(yè)的全面分析和預(yù)測(cè)》的內(nèi)容。然而,技術(shù)挑戰(zhàn)包括3D芯堆疊技術(shù),先進(jìn)工藝中的極紫外光刻技術(shù)的發(fā)展以及增長(zhǎng)產(chǎn)品的復(fù)雜性預(yù)計(jì)將在2019-2024年期間將R&D預(yù)算提高一點(diǎn)點(diǎn)(圖1)。


數(shù)據(jù)顯示,研發(fā)支出趨勢(shì)涵蓋了集成設(shè)備制造商(IDM),無(wú)晶圓廠芯片供應(yīng)商和純晶圓代工廠的支出,并且不包括涉及半導(dǎo)體相關(guān)技術(shù)的其他公司和組織,例如生產(chǎn)設(shè)備和材料供應(yīng)商,包裝和制造商。測(cè)試服務(wù)提供商,大學(xué),政府資助的實(shí)驗(yàn)室和行業(yè)合作社,例如比利時(shí)的IMEC,法國(guó)的CAE-Leti研究所,***的工業(yè)技術(shù)研究院(ITRI)和美國(guó)的Sematech財(cái)團(tuán), 2015年合并為紐約州立大學(xué)(SUNY)理工學(xué)院。

根據(jù)IC Insights收集的數(shù)據(jù),自1990年代以來(lái),半導(dǎo)體行業(yè)在研發(fā)強(qiáng)度方面一直領(lǐng)先于所有其他主要工業(yè)領(lǐng)域,每年在研發(fā)上的支出平均約占總銷售額的15%。然而,在過(guò)去的三年中,半導(dǎo)體行業(yè)的研發(fā)銷售額占總銷售額的比例在2017年下滑至13.5%,在2018年下滑至13.0%,這主要是由于內(nèi)存IC的收入增長(zhǎng)非??臁T撔袠I(yè)的研發(fā)/銷售比例在2019年反彈至14.6%,當(dāng)時(shí)內(nèi)存IC收入下降了33%,整個(gè)半導(dǎo)體市場(chǎng)下降了12%。根據(jù)歐盟工業(yè)研發(fā)投資記分卡報(bào)告中的一項(xiàng)全球調(diào)查,制藥和生物技術(shù)領(lǐng)域的研發(fā)/銷售比率為15.4%,在2019年排名中名列第一(圖2)。


在過(guò)去的41年中(1978-2019),R&D支出平均占半導(dǎo)體銷售額的14.6%。自2000年以來(lái),半導(dǎo)體研發(fā)支出占全球半導(dǎo)體銷售額的百分比超過(guò)了四年(2000年,2010年,2017年和2018年)的歷史平均水平。在這四年中,較低的研發(fā)與銷售比率與收入增長(zhǎng)的優(yōu)勢(shì)更多地聯(lián)系在一起,而不是研發(fā)支出的劣勢(shì)。

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